JPH02177716A - 昇圧回路 - Google Patents

昇圧回路

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JPH02177716A
JPH02177716A JP63332238A JP33223888A JPH02177716A JP H02177716 A JPH02177716 A JP H02177716A JP 63332238 A JP63332238 A JP 63332238A JP 33223888 A JP33223888 A JP 33223888A JP H02177716 A JPH02177716 A JP H02177716A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、昇圧回路に関し、特に半導体集積回路装置
内に設けられ電源電圧以上に昇圧された出力信号を発生
する昇圧回路に関する。
[従来の技術] 従来、半導体記憶装置等の半導体集積回路装置には、電
源電圧以上に昇圧された出力信号を発生する昇圧回路が
用いられている。たとえば、情報記憶用キャパシタとア
ドレス選択用のMO8型電界効果トランジスタ(以下、
MOSFETと称す)とで構成された1トランジスタ、
1キヤパシタ型メモリセルを用いたダイナミック型RA
Mにおいては、上記アドレス選択用MO8FETのゲー
トに結合されるワード線の選択レベルを電源電圧以上に
昇圧するための昇圧回路が設けられる。このような昇圧
回路が設けられる理由は、上記メモリセルにおけるアド
レス選択用MOSFETのゲート(ワード線)のレベル
を電源電圧以上に高くして、記憶用キャパシタへの書込
あるいは再書込のためのハイレベルが上記MO3F、E
Tのしきい値電圧により低下してしまうのを防止するこ
と、およびメモリセルからの情報読出時に、高速にしか
も効率良く信号をデータ線に伝達するためである。
また、出力バッファを構成する出力トランジスタのゲー
ト電圧を電源電圧以上に高くするために昇圧回路が設け
られる場合もある。この場合も上記理由と同様に、出力
信号のレベルが上記出力トランジスタのしきい値電圧に
より低下してしまうのを防止すること、および高速にし
かも効率良く出力信号をデータ出力線に伝達するためで
ある。
第4図は、特開昭62−212997号公報に示された
従来の昇圧回路の一例を示す回路図である。図において
、電源1とノードAとの間には、ノードAをプリチャー
ジするためのNチャネルMOSFET2が介挿されてい
る。二〇NチャネルMO5FET2のゲートにはプリチ
ャージのタイミングを決めるためのタイミング信号φ、
が与えられる。ノードAと接地5との間には、Pチャネ
ルMOSFET3とNチャネルMOSFET4とが直列
に接続されて介挿されている。これらPチャネルMOS
FET3およびNチャネルMOSFET4の各ゲートに
は入力信号φXが与えられる。
また、PチャネルMOSFET3は、そのソースと基板
部分とが接続されている。PチャネルMOSFET3お
よびNチャネルMOSFET4は、いわゆるCMO8型
O8バータを構成しており、入力信号7Tを反転した出
力信号φXを出力信号線6に導出する。また、上記ノー
ドAには、キャパシタ7の一方電極が接続される。この
キャパシタ7は、ノードAの電位を昇圧するためのブー
スト用キャパシタであり、その他方電極にはタイミング
信号φ2が与えられている。なお、出力信号線6には配
線容量8が寄生している。
第5図は、第4図に示す従来の昇圧回路の動作を説明す
るためのタイミングチャートである。以下、この第5図
のタイミングチャートを参照して第4図に示す従来の昇
圧回路の動作を説明する。
まず、初期状態においては、タイミング信号φ、がH”
レベルであるので、NチャネルMOSFET2がオンし
ており、ノードAの電位は(Vcc−Vth)となって
いる。なお、Vccは電源電圧であり、vthはNチャ
ネルMOSFET2のしきい値電圧である。このとき、
入力信号φXが第5図に示すように“H”レベルである
とすると、出力信号φXは“L°レベルである。次に、
タイミング信号φ、が′L0レベルになると、Nチャネ
ルMOSFET2がオフする。その結果、ノードAは(
Vcc−Vth)に充電された状態でフローティング状
態となる。ここで、入力信号<6xが“L″レベルなる
と、PチャネルMOSFET3はオンし、NチャネルM
OSFET4はオフする。そのため、ノードAに充電さ
れた電荷が、ブースト用キャパシタ7(その容量値をC
1とする)と配線容量8(その容量値をCxとする)に
容量分割され、ノードAの電位が(Vcc−Vth)か
ら下記のVの電位に下がる。
C,(Vcc−Vth)= (C,+Cx)xV次に、
タイミング信号φ2が“H”レベルになると、ブースト
用キャパシタ7の容量結合により、ノードAの電位は(
V+α)になり、出力信号φXも(V+α)の電位に昇
圧される。
[発明が解決しようとする課題] 第4図に示す昇圧回路において、出力信号線6の長さが
長くなると、配線容量8の容量値Cxが大きくなる。前
述の(1)式から明らかなように、配線容量8の容量値
Cxが大きければ大きいほど、ノードAの電位Vは低く
なってしまう。そのため、昇圧された出力信号φXの電
位(V十α)も低くなってしまう。出力信号φXの昇圧
レベルを高くするには、ブースト用キャパシタ7の容量
値C5を大きくすればよいが、半導体集積回路装置の集
積度が高くなるにつれて、そのような大きな容量値を持
つキャパシタを装置内に作り込むことが大変困難となる
。また、たとえ容量値C1を大きくできたとしても、ブ
ースト用キャパシタ7を駆動する周辺回路に含まれるM
OSFETのサイズを大きくしなければならず、半導体
チップ上での周辺回路の占有面積が太き(なってしまう
。
さらに、第4図に示す従来の昇圧゛回路では、タイミン
グ信号φ1およびφ2を必要とするため、半導体集積回
路装置内にこれらタイミング信号φ1およびφ2を発生
するための回路を設けなければならない。その結果、装
置が大型化してしまうという問題点もあった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、回路面積が必要最少限で済み、かつ高集積化
に適した昇圧回路を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] この発明にかかる昇圧回路は、半導体集積回路装置内に
設けられ、電源電圧以上に昇圧された出力信号を発生す
るものであって、電源と昇圧回路内の所定のノードとの
間に介挿され当該所定のノードの電位が所定の値よりも
低下すると導通状態となって当該所定のノードを充電し
当該所定のノードの電位が所定の値よりも高くなると非
導通状態となって当該所定のノードから電源への電荷の
逆流を防止するための充電手段と、入力信号に応答して
動作し所定のノードの電位と接地電位とに基づいて当該
入力信号を反転した出力信号をその出力端に導出する信
号反転手段と、出力信号を所定時間遅延させるための遅
延手段と、遅延手段の出力に基づいて所定のノードの電
位を昇圧し結果として出力信号を昇圧するためのキャパ
シタ手段とを備えるよう1;シたものである。
[作用] この発明においては、充電手段によって所定のノードを
常時充電し、その電位の低下を防ぐことにより、配線容
量による出力信号の電位の低下を防いでいる。また、出
力信号を遅延手段で遅延させて所定のノードのブースト
用の信号として用いることにより、外部から入力される
タイミング信号の削減を図っている。
[実施例] 第1図は、この発明の一実施例を示す回路図である。図
において、電源1とノードAとの間に介挿されるNチャ
ネルMOSFET2は、そのゲートが電源1に接続され
ている。このNチャネルMOSFET2は、ノードA(
7)電位が(Vcc−Vth)よりも低下するとオンし
てノードAを充電し、その電位が(Vcc−Vth)よ
りも低下しないようにしている。PチャネルMO5FE
T3とNチャネルMOSFET4とで構成されるCMO
Sインバータから出力信号線6に導出される出力信号φ
Xは、遅延回路90に与えられる。なお、第1図の実施
例では、4つのインバータ9a〜9dを直列に接続して
遅延回路90を構成しているが、その他の方法で遅延回
路90を構成してもよい。遅延回路90によって遅延さ
れた出力信号φXは、ブースト用キャパシタ10の一方
電極に与えられる。このブースト用キャパシタ10の他
方電極はノードAに接続されている。なお、第1図の実
施例におけるその他の構成は、第4図に示す従来の昇圧
回路の構成と同様であり、相当する部分には同一の参照
番号を付しておく。
第2図は、第1図に示す実施例の動作を説明するための
タイミングチャートである。以下、この第2図を参照し
て、第1図に示す実施例の動作を説明する。
まず、初期状態においては、NチャネルMOSFET2
がオンしているため、ノードAの電位は(Vcc−Vt
h)に保たれている。また、初期状態において、入力信
号φXは′Hmレベルであり、したがって出力信号φX
は′Lmレベルであるとする。次に、入力信号φXが“
L″レベルなると、PチャネルMO8FET3がオンし
、NチャネルMOSFET4がオフする。その結果、出
力信号線6の配線容量8への充電が行なわれるため、ノ
ードAの電位は若干下がるが、配線容量8への充電が終
わると、ノードAの電位は再び(Vc c−V t h
)に回復する。なぜならば、このときNチャネルMOS
FET2は常時オンしており、ノードAの充電が継続し
て行なわれているからである。ノードAの電位が(Vc
c−Vth)に回復することにより、出力信号φXの電
位は(Vcc−Vth)となる。次に、偶数個(第1図
では4個)のインバータ98〜9dからなる遅延回路9
0によって出力信号φXの遅延信号がブースト用キャパ
シタ10に与えら・れる。その結果、このブースト用キ
ャパシタ10の容量結合により、ノードA(7)電位I
t (Vcc−Vth+a)l;l:立上がる。したが
って、出力信号φXの電位も(Vcc−Vth+α)と
なる。なお、このときノードAの電位が(Vcc−Vt
h)よりも上昇すると、NチャネルMOSFET2はオ
フし、ノードAから電源1への電荷の逆流が防止される
。
ここで、第1図に示す実施例と第4図に示す従来の昇圧
回路とを比較してみた場合、実施例と従来の昇圧回路と
の出力信号φXの電位の差ΔVは、前述の(1)式から
、 AV−(Vc c−vt h> −V −(Vcc−Vth) m−」1−(Vcc−Vth)  −(2)C+ + 
CX となる。上式(2)から明らかなように、配線容量8の
容量値Cxが大きくなるほど、ΔVも大きくなり、第1
図の実施例の方が有利なことがわかる。すなわち、第1
図の実施例は、出力信号線6の長さが長くなって配線容
ff18の容量値Cxが大きくなっても、出力信号φX
の電位の低下は第3図に示す従来の昇圧回路に比べて少
なくなっている。したがって、第1図の実施例では、ブ
ースト用キャパシタ10の容量値C2を第3図に示す従
来の昇圧回路におけるブースト用キャパシタ7の容量値
C4に比べて小さくできる。その結果、このブースト用
キャパシタ10を駆動する周辺回路に含まれるMOSF
ETのサイズも小さく抑えることができ、チップ面積の
縮小化を図ることができる。また、集積度の高い半導体
装置においてもブースト用キャパシタを容易に作り込む
ことができる。さらに、第1図の実施例では、第4図に
示す従来の昇圧回路で用いられたようなタイミング信号
φ、およびφ2を一切用いていないので、そのようなタ
イミング信号を発生させる回路を別途設ける必要もなく
、チップ面積をさらに縮小させることができる。以上の
ごとく、第1図の実施例では、電源電圧以上に昇圧され
た出力信号を必要最少限の面積で、発生することができ
る。
第3図は、この発明の他の実施例を示す回路図である。
この実施例の特徴は、第1図の実施例におけるNチャネ
ルMOSFET2をダイオード11に置換えた点にあり
、その他の構成は第1図に示す実施例の構成と同様であ
る。したがって、第1図の実施例と同様の構成の部分に
は同一の参照番号を付し、その説明を省略する。ダイオ
ード11はそのアノードが電源1に接続され、そのカソ
ードがノードAに接続される。このダイオード11は、
ノードAを充電するための手段として用いられる。すな
わち、ノードAの電位が電源電圧VCCよりも低下する
とダイオード11はオンしてノードAを充電し、その電
位の低下を防ぐ。また、ノードAの電位が昇圧されて電
源電圧Vcc以上になるとダイオード11はオフしてノ
ードAから電源1に電荷が逆流するのを防止している。
したかって、機能の面から見るとダイオード11は第1
図に示すNチャネルMOSFET2と同一の機能を有し
ている。
なお、以上、この発明の2つの実施例について説明した
が、この発明の構成はそれらの実施例の構成に限定され
るものではなく、その要旨の範囲内で、種々の変更が可
能である。たとえば、PチャネルMOSFET3および
NチャネルMOSFET4で構成されるCMOSインバ
ータの出力端とNチャネルMOSFET4との間に、そ
のゲートが電源1に接続されたNチャネルMO5FET
を挿入してもよい。また、出力信号線6に電圧制限回路
等を接続してもよい。
また、この発明による昇圧回路は、最も一般的にはダイ
ナミックRAMに用いられる。しかし、この発明による
昇圧回路は、そのような半導体記憶装置に限られること
なく種々の半導体集積回路装置に適用が可能である。
[発明の効果] 以上のように、この発明によれば、充電手段によって所
定のノードを常時充電し、その電位の低下を防ぐように
しているので、出力信号の立上がり時に出力信号の電位
が出力信号線の配線容量によって低下するのを防ぐこと
ができる。その結果、昇圧用のキャパシタ手段として容
量値の小さいものを用いることができ、集積度の高い半
導体装置への形成も容易となる。また、昇圧用のキャパ
シタ手段を駆動するための周辺回路におけるトランジス
タのサイズを小さくすることができ、回路面積の縮小化
を図ることができる。また、この発明によれば、遅延手
段によって遅延された出力信号をキャパシタ手段に与え
て昇圧用の信号として用いているため、第4図に示す従
来の昇圧回路のように外部からタイミング信号を人力す
る必要がない。その結果、そのようなタイミング信号を
発生させる回路を設ける必要がなく、さらにチップ面積
の縮小化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例を示す回路図である。 第2図は、第1図に示す実施例の動作を説明するための
タイミングチャートである。 第3図は、この発明の他の実施例を示す回路図である。 第4図は、従来の昇圧回路の一例を示す回路図である。 第5図は、第4図に示す従来の昇圧回路の動作を説明す
るためのタイミングチャートである。 図において、1は電源、2は充電用のNチャネルMOS
FET、3はCMOSインバータを構成するPチャネル
MO8FET、4はCMOSインバータを構成するNチ
ャネルMOSFET、5は接地、6は出力信号線、8は
配線容量、98〜9dはインバータ、90は遅延回路、
10はブースト用のキャパシタ、11は充電用のダイオ
ードを示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 半導体集積回路装置内に設けられ、電源電圧以上に昇圧
    された出力信号を発生する昇圧回路であって、 電源と前記昇圧回路内の所定のノードとの間に介挿され
    、当該所定のノードの電位が所定の値よりも低下すると
    導通状態となって当該所定のノードを充電し、当該所定
    のノードの電位が所定の値よりも高くなると非導通状態
    となって当該所定のノードから電源への電荷の逆流を防
    止するための充電手段、 入力信号に応答して動作し、前記所定のノードの電位と
    接地電位とに基づいて、当該入力信号を反転した前記出
    力信号をその出力端に導出する信号反転手段、 前記出力信号を所定時間遅延させるための遅延手段、お
    よび 前記遅延手段の出力に基づいて、前記所定のノードの電
    位を昇圧し、結果として前記出力信号を昇圧するための
    キャパシタ手段を備える、昇圧回路。
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