JPH02180764A - 誘電体磁器の焼成方法及び誘電体磁器焼成用棚板 - Google Patents
誘電体磁器の焼成方法及び誘電体磁器焼成用棚板Info
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- JPH02180764A JPH02180764A JP63335342A JP33534288A JPH02180764A JP H02180764 A JPH02180764 A JP H02180764A JP 63335342 A JP63335342 A JP 63335342A JP 33534288 A JP33534288 A JP 33534288A JP H02180764 A JPH02180764 A JP H02180764A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、中性若しくは還元雰囲気中で焼成する誘電体
磁器の焼成方法及び誘電体磁器焼成用棚板に関する。
磁器の焼成方法及び誘電体磁器焼成用棚板に関する。
［従来の技術］
誘電体磁器を利用した電子部品としては、積層セラミッ
クチップコンデンサや円筒状セラミックチップコンデン
サ等があり、現在では広範に民生機器や産業機器に使用
されるため、大圏に生産されている。
クチップコンデンサや円筒状セラミックチップコンデン
サ等があり、現在では広範に民生機器や産業機器に使用
されるため、大圏に生産されている。
上記のように利用される積層セラミックチップコンデン
サの大きさは、通常角型チップコンデンサと言われるも
ので、外形寸法は長さ２゜０１１１１％ 幅１．２５
−１． 高さ０．８．、程度と非常に微細な大きさの
ものである。
サの大きさは、通常角型チップコンデンサと言われるも
ので、外形寸法は長さ２゜０１１１１％ 幅１．２５
−１． 高さ０．８．、程度と非常に微細な大きさの
ものである。
これらの積層セラミックチップコンデンサ（以下、チッ
プという）は、電極として卑金属材料を使用し、誘電体
材料とともに、中性若しくは還元雰囲気中で焼成される
。
プという）は、電極として卑金属材料を使用し、誘電体
材料とともに、中性若しくは還元雰囲気中で焼成される
。
上記製法を詳しく説明すると、誘電体グリーンシート上
に例えばＮ１等の卑金属導電性ペーストを塗布して、多
数の電極パターンを印刷して形成し、これらを複数枚積
層して圧着し、個々の微細なチップに裁断した後、焼成
する。
に例えばＮ１等の卑金属導電性ペーストを塗布して、多
数の電極パターンを印刷して形成し、これらを複数枚積
層して圧着し、個々の微細なチップに裁断した後、焼成
する。
焼成にあたって、第３図のように、アルミナ等を加圧成
型した台板ｌ上に、同じくアルミナ等からなる支柱２を
上記台板ｌの四隅に設置し、さらに上記支柱２上に、同
様にアルミナ等からなる棚板３を架設して、焼成用の架
台ａを形成する。
型した台板ｌ上に、同じくアルミナ等からなる支柱２を
上記台板ｌの四隅に設置し、さらに上記支柱２上に、同
様にアルミナ等からなる棚板３を架設して、焼成用の架
台ａを形成する。
このようにして形成された架台ａの棚板３上に、微細な
誘電体磁器のチップ４を多数、ｌから３層程度に積載し
、上記チップ４の載せられた焼成用架台ａをプッシャー
式トンネル炉内に設置する。上記架台ａを炉内に搬送す
るのに、上記台板１を炉内に押しだすプッシャーが連続
的に使用され、架台ａは順次炉内に押し出される。
誘電体磁器のチップ４を多数、ｌから３層程度に積載し
、上記チップ４の載せられた焼成用架台ａをプッシャー
式トンネル炉内に設置する。上記架台ａを炉内に搬送す
るのに、上記台板１を炉内に押しだすプッシャーが連続
的に使用され、架台ａは順次炉内に押し出される。
炉内は十数百度に加熱され、炉壁から窒素ガス、水素ガ
ス、炭酸ガス、アンモニアガス等を流入させ、炉内を中
性若しくは還元雰囲気にして焼成する。この場合、窒素
ガス等の流入は炉壁から行なわれるが、炉内のガスの流
れは、炉壁から出て架台ａの設置された炉内の中央部分
へと流れ込む。炉内の中央部分に到達したガスは、架台
ａの棚板３上を晒し、炉の出入口から順次流出して行く
。
ス、炭酸ガス、アンモニアガス等を流入させ、炉内を中
性若しくは還元雰囲気にして焼成する。この場合、窒素
ガス等の流入は炉壁から行なわれるが、炉内のガスの流
れは、炉壁から出て架台ａの設置された炉内の中央部分
へと流れ込む。炉内の中央部分に到達したガスは、架台
ａの棚板３上を晒し、炉の出入口から順次流出して行く
。
その間に上記棚板３上のチップ４も中性若しくは還元雰
囲気に晒され、焼成される。
囲気に晒され、焼成される。
［発明が解決しようとする課題］
上記従来のような焼成方法では、ガスが棚板３の表面に
沿って流れ、棚板３の上面に載せられたチップ４に対し
て、上記チップ４の上方からガスが被着することになる
ため、還元雰囲気の中でチップ４を３層程度以上重ねて
焼成すると、重ねられたチップ４の下層部分は十分に還
元雰囲気中に晒されるが、重ねられたチップ４の中層部
分や棚板３と接触している下層部分は、還元雰囲気に晒
され難いと言う問題点があった。
沿って流れ、棚板３の上面に載せられたチップ４に対し
て、上記チップ４の上方からガスが被着することになる
ため、還元雰囲気の中でチップ４を３層程度以上重ねて
焼成すると、重ねられたチップ４の下層部分は十分に還
元雰囲気中に晒されるが、重ねられたチップ４の中層部
分や棚板３と接触している下層部分は、還元雰囲気に晒
され難いと言う問題点があった。
また、ランダムに重ねられたチップ４の積層状態によっ
ても、還元雰囲気に晒される程度に相違が生じ、このた
め、焼成後のチップ４の品質が不揃いになるといった問
題点があり、従来の方法では多Ｍに積載して焼成できな
いため、作業効率はたいへん低かった。
ても、還元雰囲気に晒される程度に相違が生じ、このた
め、焼成後のチップ４の品質が不揃いになるといった問
題点があり、従来の方法では多Ｍに積載して焼成できな
いため、作業効率はたいへん低かった。
そこで、本発明の目的は、前記従来例における問題点を
解決するために、容易にしかも大雪に焼成作業ができる
主面に開口部を有する貫通孔が多数形成された高気孔率
セラミック多孔体からなる棚板とそれを使用した誘電体
磁器の焼成方法を提供することにある。
解決するために、容易にしかも大雪に焼成作業ができる
主面に開口部を有する貫通孔が多数形成された高気孔率
セラミック多孔体からなる棚板とそれを使用した誘電体
磁器の焼成方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
すなわち、本発明は、第一に、無機質棚板上に未焼成の
誘電体磁器を配置し、中性若しくは還元雰囲気中で焼成
する誘電体磁器の焼成方法において、前記棚板は多数の
貫通孔を有し、該貫通孔の開口端で主面に具備した高気
孔率の無機質板状体であり、該板状体の上に、前記未焼
成の誘電体磁器４を配置し、中性若しくは還元雰囲気中
で焼成する誘電体磁器の焼成方法を提供する。
誘電体磁器を配置し、中性若しくは還元雰囲気中で焼成
する誘電体磁器の焼成方法において、前記棚板は多数の
貫通孔を有し、該貫通孔の開口端で主面に具備した高気
孔率の無機質板状体であり、該板状体の上に、前記未焼
成の誘電体磁器４を配置し、中性若しくは還元雰囲気中
で焼成する誘電体磁器の焼成方法を提供する。
さらに第二に、主面上に未焼成の誘電体磁器を配置し、
中性若しくは還元雰囲気中で誘電体磁器の焼成に使用さ
れる無機質棚板において、前記棚板は多数の貫通孔を有
し、該貫通孔の開口端で主面に具備した高気孔率の無機
質板状体からなる誘電体磁器焼成用棚板３′を提供する
。
中性若しくは還元雰囲気中で誘電体磁器の焼成に使用さ
れる無機質棚板において、前記棚板は多数の貫通孔を有
し、該貫通孔の開口端で主面に具備した高気孔率の無機
質板状体からなる誘電体磁器焼成用棚板３′を提供する
。
［作 用］
上記本発明による誘電体磁器の焼成方法及び誘電体磁器
焼成用棚板によれば、炉壁から流出したガスはチップ４
の積載された棚板３′の下方からも、上記棚板３′に多
数形成された貫通孔を通じて棚板３″の上面に自在に進
入し、重ねられたチップ４の棚板３と接触している下層
部分も、還元雰囲気に晒さ、れることになる。
焼成用棚板によれば、炉壁から流出したガスはチップ４
の積載された棚板３′の下方からも、上記棚板３′に多
数形成された貫通孔を通じて棚板３″の上面に自在に進
入し、重ねられたチップ４の棚板３と接触している下層
部分も、還元雰囲気に晒さ、れることになる。
このため、棚板３′上に大量のチップ４を積載しても、
棚板３′上のチップ４をまんべんなく中性若しくは還元
雰囲気に晒すことができ、均一の品質の誘電体磁器を焼
成することができる。
棚板３′上のチップ４をまんべんなく中性若しくは還元
雰囲気に晒すことができ、均一の品質の誘電体磁器を焼
成することができる。
また、このように大量に積層して焼成することが可能な
ため、作業効率が向上した。
ため、作業効率が向上した。
［実 施 例］
以下、本発明の誘電体磁器の焼成方法及び誘電体磁器焼
成用棚板の実施例について、第１図と第２図を参照にし
て説明する。
成用棚板の実施例について、第１図と第２図を参照にし
て説明する。
まず実施例１として、既に説明した通り、未焼成の誘電
体セラミックシート（厚さ１７μｌ１１）上に、Ｎｌ導
電性ペーストを用いて、複数の内部電極パターンを印刷
し、これを積層して圧着し、所定の大きさ（＃ｉ２．５
ＩＩＩ１１ 横１．５１１１．）に微細に切断する。
体セラミックシート（厚さ１７μｌ１１）上に、Ｎｌ導
電性ペーストを用いて、複数の内部電極パターンを印刷
し、これを積層して圧着し、所定の大きさ（＃ｉ２．５
ＩＩＩ１１ 横１．５１１１．）に微細に切断する。
その後、３００°Ｃの温度で２時間加熱し、バインダを
除去した未焼成のチップ４を形成する。
除去した未焼成のチップ４を形成する。
つぎに、上記チップ４をｌ［’＆する架台ａ′を製作す
るため、−辺が３５０１１ＩＩ＋の正方形で厚みが２０
市のアルミナを主成分とする台板１と、−辺が２０．、
の立方体の形状のジルコニア製の支柱２を用意する。
るため、−辺が３５０１１ＩＩ＋の正方形で厚みが２０
市のアルミナを主成分とする台板１と、−辺が２０．、
の立方体の形状のジルコニア製の支柱２を用意する。
さらに、−辺が３００ ｗ＋の正方形で厚みが５關程度
の板状で表裏及び側面に亙って微細な１１通孔（孔径０
．５〜１．５ｍｍ程度）を多数有し、貫通孔が３次元的
網目状に形成されたアルミナからなる棚板３′を用意す
る。この棚板３′は、嵩比重が、０．４〜０． ８ ｇ
／ｃｃ （気孔率８０％〜９ｏｚ）程度である。
の板状で表裏及び側面に亙って微細な１１通孔（孔径０
．５〜１．５ｍｍ程度）を多数有し、貫通孔が３次元的
網目状に形成されたアルミナからなる棚板３′を用意す
る。この棚板３′は、嵩比重が、０．４〜０． ８ ｇ
／ｃｃ （気孔率８０％〜９ｏｚ）程度である。
このようにして、台板１１ 支柱２及び棚板３′の用
意ができたら、台板ｌ上の四隅にそれぞれ支柱２を設置
し、その支柱２の上に棚板３′を架設し、チップ４を積
載する架台ａ′を形成する。そして、前記未焼成のチッ
プ４を、はぼ６〜９層になるように棚板３′の主面−杯
に積層する。
意ができたら、台板ｌ上の四隅にそれぞれ支柱２を設置
し、その支柱２の上に棚板３′を架設し、チップ４を積
載する架台ａ′を形成する。そして、前記未焼成のチッ
プ４を、はぼ６〜９層になるように棚板３′の主面−杯
に積層する。
これを最高１３００°Ｃに制御されたプッシャー式トン
ネル炉内に、７００ ａｍ／ｈｒのスピードでブツシャ
−によって炉内に搬送し、炉内では９６ｚ窒素、４Ｘ水
素の混合ガスを炉壁がら流出させ、炉内搬入から炉外搬
出まで２０時間かけて、上記チップ４の焼成を行なう。
ネル炉内に、７００ ａｍ／ｈｒのスピードでブツシャ
−によって炉内に搬送し、炉内では９６ｚ窒素、４Ｘ水
素の混合ガスを炉壁がら流出させ、炉内搬入から炉外搬
出まで２０時間かけて、上記チップ４の焼成を行なう。
こうして焼成されたチップ４を１０００個無作為に抽出
し、１２５℃の温度を保持し、しかもｔ ｏｏｖ印加し
続けた高温槽内で、５００時間毎に絶縁破壊を生じたも
のをチエツクした結果、ｔｏｏｏ時間までに絶縁破壊し
たものは観測されなかった。
し、１２５℃の温度を保持し、しかもｔ ｏｏｖ印加し
続けた高温槽内で、５００時間毎に絶縁破壊を生じたも
のをチエツクした結果、ｔｏｏｏ時間までに絶縁破壊し
たものは観測されなかった。
次に実施例２として、第２図のように実施例１の１段だ
けの架台の上に、さらに支柱２′と棚板３″を２段設け
て、合計３段の架台ａ′を製作し、それぞれの棚板３′
の主面−杯にチップ４を積層する。これを実施例１と同
様の環境で焼成した後、やはり同様の条件下で絶縁試験
をした結果、１０００時間までに絶縁破壊したものは観
測されなかった。これによって、チップ４を積載して焼
成するための架台８′は、３段に積層しても特に支障が
ないことがわかった。
けの架台の上に、さらに支柱２′と棚板３″を２段設け
て、合計３段の架台ａ′を製作し、それぞれの棚板３′
の主面−杯にチップ４を積層する。これを実施例１と同
様の環境で焼成した後、やはり同様の条件下で絶縁試験
をした結果、１０００時間までに絶縁破壊したものは観
測されなかった。これによって、チップ４を積載して焼
成するための架台８′は、３段に積層しても特に支障が
ないことがわかった。
さらに比較試験として、実施例１において使用する棚板
３′として、嵩比重２．７〜３．０ｇ／ｃｃのものを用
いてチップ４を焼成した後絶縁試験をした結果、５００
時間で絶縁破壊したものが７個あり、１０００時間では
さらに２９個の絶縁破壊を生じ、１０００時間までに合
計３６個が絶縁破壊を生じた。このことから、焼成に使
用される棚板３′の嵩比重として実施例１で用いた棚板
３′が最適であることがわかった。
３′として、嵩比重２．７〜３．０ｇ／ｃｃのものを用
いてチップ４を焼成した後絶縁試験をした結果、５００
時間で絶縁破壊したものが７個あり、１０００時間では
さらに２９個の絶縁破壊を生じ、１０００時間までに合
計３６個が絶縁破壊を生じた。このことから、焼成に使
用される棚板３′の嵩比重として実施例１で用いた棚板
３′が最適であることがわかった。
また、上記実施例においては、焼成に使用される棚板３
′の材質としてアルミナを用いたが、その目的によって
、例えば通常使用されるジルコニア、炭化珪素等の材質
を用いて棚板３′を形成しても特に支障はないことは言
うまでもない。
′の材質としてアルミナを用いたが、その目的によって
、例えば通常使用されるジルコニア、炭化珪素等の材質
を用いて棚板３′を形成しても特に支障はないことは言
うまでもない。
［発明の効果コ
前記説明から明らかなように、本発明による誘電体磁器
の焼成方法及び誘電体磁器焼成用棚板によれば、中性若
しくは還元雰囲気中で、未焼成の積層セラミックコンデ
ンサチップを積載し山積み状に重ねて焼成しても、棚板
を通過して下方からもガスが流通するので、山積みに積
載されたチップの上層部分と下層部分からガスが十分に
浸透し、積載されたチップ全体をまんべんなく中性若し
くは還元雰囲気に晒すことができる。
の焼成方法及び誘電体磁器焼成用棚板によれば、中性若
しくは還元雰囲気中で、未焼成の積層セラミックコンデ
ンサチップを積載し山積み状に重ねて焼成しても、棚板
を通過して下方からもガスが流通するので、山積みに積
載されたチップの上層部分と下層部分からガスが十分に
浸透し、積載されたチップ全体をまんべんなく中性若し
くは還元雰囲気に晒すことができる。
このため、ランダムに重ねられたチップの積層状態によ
って、還元雰囲気に晒される程度に相違が生じるという
こともなくなり、焼成後のチップの品質が均一となり、
しかも多量に積載して焼成できるため、作業効率は向上
した。
って、還元雰囲気に晒される程度に相違が生じるという
こともなくなり、焼成後のチップの品質が均一となり、
しかも多量に積載して焼成できるため、作業効率は向上
した。
第１図は、本発明の実施例１による側面図、第２図は、
同じく本発明の実施例２による側面図、第３図は、従来
の方法を示す側面図である。 ｌ・・・台板 ２．２′・・・支柱 ３．３″・・・棚
板４・・・積層セラミックコンデンサチップ ａ１ａ′
・・・架台 特許出願人 太陽誘電株式会社 代 理 人 弁理士 北條 和由手 続 補 正 １井 平成−１年−２月２８日 ｖｙ３１’ｎ ｌ。 事件の表示 昭和６３年特許願第３３５３４２号 ２゜ 発明の名称 ３゜ 誘電体磁器の焼成方法 及び誘電体磁器焼成用棚板 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都台東区上野６丁目１６番２０号氏
名 太 陽 Ｍ 電 株 式 会
社４、代理 住 所 氏 名 人 茨城県水戸市五軒町三丁目３番４０号 電話 水戸（０２９２）２４−９６７８（８１９２）弁
理士 北 峰 和 由５゜ 補正命令の日付 （自 発） ６゜ 補正の対象
同じく本発明の実施例２による側面図、第３図は、従来
の方法を示す側面図である。 ｌ・・・台板 ２．２′・・・支柱 ３．３″・・・棚
板４・・・積層セラミックコンデンサチップ ａ１ａ′
・・・架台 特許出願人 太陽誘電株式会社 代 理 人 弁理士 北條 和由手 続 補 正 １井 平成−１年−２月２８日 ｖｙ３１’ｎ ｌ。 事件の表示 昭和６３年特許願第３３５３４２号 ２゜ 発明の名称 ３゜ 誘電体磁器の焼成方法 及び誘電体磁器焼成用棚板 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都台東区上野６丁目１６番２０号氏
名 太 陽 Ｍ 電 株 式 会
社４、代理 住 所 氏 名 人 茨城県水戸市五軒町三丁目３番４０号 電話 水戸（０２９２）２４−９６７８（８１９２）弁
理士 北 峰 和 由５゜ 補正命令の日付 （自 発） ６゜ 補正の対象
Claims (2)
- （１）無機質棚板上に未焼成の誘電体磁器を配置し、中
性若しくは還元雰囲気中で焼成する誘電体磁器の焼成方
法において、前記棚板は多数の貫通孔を有し、該貫通孔
の開口端で主面に具備した高気孔率の無機質板状体であ
り、該板状体の上に、前記未焼成の誘電体磁器を配置し
、中性若しくは還元雰囲気中で焼成することを特徴とす
る誘電体磁器の焼成方法。 - （２）主面上に未焼成の誘電体磁器を配置し、中性若し
くは還元雰囲気中で誘電体磁器の焼成に使用される無機
質棚板において、前記棚板は多数の貫通孔を有し、該貫
通孔の開口端で主面に具備した高気孔率の無機質板状体
からなることを特徴とする誘電体磁器焼成用棚板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63335342A JPH02180764A (ja) | 1988-12-30 | 1988-12-30 | 誘電体磁器の焼成方法及び誘電体磁器焼成用棚板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63335342A JPH02180764A (ja) | 1988-12-30 | 1988-12-30 | 誘電体磁器の焼成方法及び誘電体磁器焼成用棚板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02180764A true JPH02180764A (ja) | 1990-07-13 |
Family
ID=18287447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63335342A Pending JPH02180764A (ja) | 1988-12-30 | 1988-12-30 | 誘電体磁器の焼成方法及び誘電体磁器焼成用棚板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02180764A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05306164A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-11-19 | Hotsukou Denshi Kk | フェライトタイルの焼結方法 |
| JP2004051469A (ja) * | 2002-07-24 | 2004-02-19 | Takasago Ind Co Ltd | マイクロ波加熱炉の操業方法および被加熱物の載置台 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62255786A (ja) * | 1986-04-28 | 1987-11-07 | 太陽誘電株式会社 | セラミツクシ−ト焼成用保持板及びセラミツクシ−トの焼成方法 |
| JPH0158633B2 (ja) * | 1981-08-07 | 1989-12-12 | Amp Inc | |
| JPH0234572A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-02-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 酸化物系セラミックス超伝導材の焼結方法 |
-
1988
- 1988-12-30 JP JP63335342A patent/JPH02180764A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0158633B2 (ja) * | 1981-08-07 | 1989-12-12 | Amp Inc | |
| JPS62255786A (ja) * | 1986-04-28 | 1987-11-07 | 太陽誘電株式会社 | セラミツクシ−ト焼成用保持板及びセラミツクシ−トの焼成方法 |
| JPH0234572A (ja) * | 1988-07-22 | 1990-02-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 酸化物系セラミックス超伝導材の焼結方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05306164A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-11-19 | Hotsukou Denshi Kk | フェライトタイルの焼結方法 |
| JP2004051469A (ja) * | 2002-07-24 | 2004-02-19 | Takasago Ind Co Ltd | マイクロ波加熱炉の操業方法および被加熱物の載置台 |
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