JPH0570652B2 - - Google Patents
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- JPH0570652B2 JPH0570652B2 JP19933684A JP19933684A JPH0570652B2 JP H0570652 B2 JPH0570652 B2 JP H0570652B2 JP 19933684 A JP19933684 A JP 19933684A JP 19933684 A JP19933684 A JP 19933684A JP H0570652 B2 JPH0570652 B2 JP H0570652B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D401/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom
- C07D401/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, at least one ring being a six-membered ring with only one nitrogen atom containing three or more hetero rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
- C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D471/10—Spiro-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
Description
本発明は合成ポリマー用光安定剤、熱安定剤及
び酸化安定剤として使用することができる、ピペ
リジン基を含有する新規な高分子化合物、及びそ
れらの製造方法に関するものである。 ポリアルキルピペリジルアミノ基を有するヒド
ロキシル基含有ポリエーテルはポリマーのための
安定剤として米国特許第4294963号明細書に開示
されている。本発明者は新規なトリアジンピペリ
ジルエーテルが合成ポリマーの光安定剤を改善す
ることにおいて著しい効果を示すことを見い出し
た。 特に、本発明は次式:
び酸化安定剤として使用することができる、ピペ
リジン基を含有する新規な高分子化合物、及びそ
れらの製造方法に関するものである。 ポリアルキルピペリジルアミノ基を有するヒド
ロキシル基含有ポリエーテルはポリマーのための
安定剤として米国特許第4294963号明細書に開示
されている。本発明者は新規なトリアジンピペリ
ジルエーテルが合成ポリマーの光安定剤を改善す
ることにおいて著しい効果を示すことを見い出し
た。 特に、本発明は次式:
【化】
〔式中、
R1及びR2は同一であるかまたは異なることが
でき、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、−OH、炭素原子数1ないし18のアルコキ
シ基または炭素原子数2ないし18のジアルキルア
ミノ基によつて置換された炭素原子数2ないし12
のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニ
ル基、炭素原子数5ないし18のシクロアルキル
基、炭素原子数6ないし18のアリール基、炭素原
子数7ないし18のアルアルキル基または次式:
でき、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、−OH、炭素原子数1ないし18のアルコキ
シ基または炭素原子数2ないし18のジアルキルア
ミノ基によつて置換された炭素原子数2ないし12
のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニ
ル基、炭素原子数5ないし18のシクロアルキル
基、炭素原子数6ないし18のアリール基、炭素原
子数7ないし18のアルアルキル基または次式:
【化】
(式中、R6は水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数3ないし12のアルケニ
ル基、炭素原子数3ないし12のアルキニル基、炭
素原子数7ないし12のアルアルキル基または炭素
原子数1ないし12のアシル基を表す。)を表わす
か、または R1及びR2がそれらが結合している窒素原子と
一緒になつて、ピロリジン−1−イル基、ピペリ
ジン−1−イル基、ヘキサヒドロアゼピン−1−
イル基、モルホリン−4−イル基または4−メチ
ルピペラジン−1−イル基から選ばれる複素環式
基を表わし、 R3及びR5は同一であるかまたは異なることが
でき、次式、、または:
のアルキル基、炭素原子数3ないし12のアルケニ
ル基、炭素原子数3ないし12のアルキニル基、炭
素原子数7ないし12のアルアルキル基または炭素
原子数1ないし12のアシル基を表す。)を表わす
か、または R1及びR2がそれらが結合している窒素原子と
一緒になつて、ピロリジン−1−イル基、ピペリ
ジン−1−イル基、ヘキサヒドロアゼピン−1−
イル基、モルホリン−4−イル基または4−メチ
ルピペラジン−1−イル基から選ばれる複素環式
基を表わし、 R3及びR5は同一であるかまたは異なることが
でき、次式、、または:
【化】
【化】
【式】
(上記各式中、
R7は水素原子、炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフエニル基を表わし、 Xは基:−O(―CH2)o――O−または −N(R8)−C(O)(―CH2)o――C(O)−N(R8)を
表
わし、 nは1ないし6の数を表わし、そして R8はR1またはR2と同一の意味を表わす。)で表
わされる基を表わし、 R4は炭素原子数2ないし18のジアシル基また
は次式:
キル基またはフエニル基を表わし、 Xは基:−O(―CH2)o――O−または −N(R8)−C(O)(―CH2)o――C(O)−N(R8)を
表
わし、 nは1ないし6の数を表わし、そして R8はR1またはR2と同一の意味を表わす。)で表
わされる基を表わし、 R4は炭素原子数2ないし18のジアシル基また
は次式:
【式】
(式中、R1及びR2は前記の意味を表わす。)で表
わされる基を表わし、 aは0.2ないし1の数を表わし、そして bは0ないし0.8の数を表わす。〕で表わされ; 数平均分子量nが1000ないし20000である新
規な化合物に関するものである。 式で表わされる化合物に存在する基の意味は
以下の通りである: R1、R2及びR8として:水素原子、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ブチ−2−イル基、イソブチル基、ヘキシ
ル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、デ
シル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタ
デシル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒド
ロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、2
−エトキシエチル基、3−メトキシプロピル
基、3−エトキシプロピル基、3−オクチルオ
キシプロピル基、3−ドデシルオキシプロピル
基、3−オクタデシルオキシプロピル基、3−
ジメチルアミノプロピル基、3−ジエチルアミ
ノプロピル基、4−ジエチルアミノブチル基、
アリル基、メタアリル基、ブテ−2−エニル
基、ウンデセ−10−エニル基、オレイル基、シ
クロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ト
リメチルシクロヘキシル基、シクロオクチル
基、シクロドデシル基、フエニル基、メチルフ
エニル基、ジメチルフエニル基、トリメチルフ
エニル基、第三ブチルフエニル基、第三オクチ
ルフエニル基、メトキシフエニル基、エトキシ
フエニル基、3,5−ジ−第三−ブチル−4−
ヒドロキシフエニル基、ベンジル基、メチルベ
ンジル基、ヒドロキシベンジル基、3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル基、
2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−
4−イル基、1,2,2,6,6−ペンテメチ
ル−ピペリジン−4−イル基、1−アリル−
2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−
4−イル基、1−ベンジル−2,2,6,6−
テトラメチル−ピペリジン−4−イル基及び1
−アセチル−2,2,6,6−テトラメチル−
ピペリジン−4−イル基; R4として:オキサリル基、マロニル基、スクシ
ニル基、ダルタリル基、アジポイル基、セバコ
イル基、イソフタロイル基、テレフタロイル基
または前記式(式中、R1及びR2は前記の意
味を表わす。)で表わされる基; R6として:水素原子、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、アリル基、メタア
リル基、ブテ−2−エニル基、ヘキセ−2−エ
ニル基、プロパルギル基、ベンジル基、メチル
ベンジル基、第三ブチルベンジル基、ヒドロキ
シベンジル基、アセチル基、プロピオニル基、
ブトリル基、カプロリル基及びベンゾイル基; R7として:水素原子、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基及びフエニル
基; Yとして:エチレン基、トリメチレン基、テトラ
メチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレ
ン基、デカメチレン基、ドデカメチレン基、2
−ヒドロキシプロパン−1,3−ジイル基、3
−オキサペンタン−1,5−ジイル基、ブテ−
2−エン−1,4−ジイル基及びキシリレン
基。 特に興味深い結果を与える式で表わされる化
合物は、 前記式において、 R1及びR2が同一であるかまたは異なることが
でき、水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基を表わすか、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、
炭素原子数6ないし10のシクロアルキル基または
前記式(ここで、R6は水素原子、メチル基、
アリル基、ベンジル基またはアセチル基を表わ
す。)で表わされる基によつて置換された炭素原
子数2ないし6のアルキル基を表わすか、または R1及びR2が、それらが結合している窒素原子
と一緒になつてピロリジン−1−イル基、ピペリ
ジン−1−イル基、ヘキサヒドロアゼピン−1−
イル基またはモルホリン−4−イル基を表わし、 R3及びR5が前記式(式中、R7は水素原子、
メチル基またはエチル基を表わす。)で表わされ
る基を表わし、そしてさらに R4が炭素原子数2ないし12のジアシル基また
は前記式(式中、R1及びR2は前記の意味を表
わす。)で表わされる基を表わし、 aが0.3ないし1の数を表わし、そして bが0ないし0.7の数を表わし;そして数平均
分子量nが1500ないし10000である化合物であ
る。 本発明による使用のために好ましい式で表わ
される化合物は、 前記式において、 R1及びR2が同一であるかまたは異なることが
でき、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シク
ロヘキシル基、2,2,6,6−テトラメチル−
ピペリジン−4−イル基または1,2,2,6,
6−ペンタメチル−ピペリジン−4−イル基を表
わし、 R3及びR5が前記式(式中、R7は水素原子ま
たはメチル基を表わす。)で表わされる基を表わ
し、そしてさらに aが1を表わし、そして bが0を表わし;そして 数平均分子量nが1500ないし6000である化合
物である。 もしbが0以外であるならば、式で表わされ
る化合物は次式:
わされる基を表わし、 aは0.2ないし1の数を表わし、そして bは0ないし0.8の数を表わす。〕で表わされ; 数平均分子量nが1000ないし20000である新
規な化合物に関するものである。 式で表わされる化合物に存在する基の意味は
以下の通りである: R1、R2及びR8として:水素原子、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ブチ−2−イル基、イソブチル基、ヘキシ
ル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、デ
シル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタ
デシル基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒド
ロキシプロピル基、2−メトキシエチル基、2
−エトキシエチル基、3−メトキシプロピル
基、3−エトキシプロピル基、3−オクチルオ
キシプロピル基、3−ドデシルオキシプロピル
基、3−オクタデシルオキシプロピル基、3−
ジメチルアミノプロピル基、3−ジエチルアミ
ノプロピル基、4−ジエチルアミノブチル基、
アリル基、メタアリル基、ブテ−2−エニル
基、ウンデセ−10−エニル基、オレイル基、シ
クロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ト
リメチルシクロヘキシル基、シクロオクチル
基、シクロドデシル基、フエニル基、メチルフ
エニル基、ジメチルフエニル基、トリメチルフ
エニル基、第三ブチルフエニル基、第三オクチ
ルフエニル基、メトキシフエニル基、エトキシ
フエニル基、3,5−ジ−第三−ブチル−4−
ヒドロキシフエニル基、ベンジル基、メチルベ
ンジル基、ヒドロキシベンジル基、3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル基、
2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−
4−イル基、1,2,2,6,6−ペンテメチ
ル−ピペリジン−4−イル基、1−アリル−
2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−
4−イル基、1−ベンジル−2,2,6,6−
テトラメチル−ピペリジン−4−イル基及び1
−アセチル−2,2,6,6−テトラメチル−
ピペリジン−4−イル基; R4として:オキサリル基、マロニル基、スクシ
ニル基、ダルタリル基、アジポイル基、セバコ
イル基、イソフタロイル基、テレフタロイル基
または前記式(式中、R1及びR2は前記の意
味を表わす。)で表わされる基; R6として:水素原子、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、アリル基、メタア
リル基、ブテ−2−エニル基、ヘキセ−2−エ
ニル基、プロパルギル基、ベンジル基、メチル
ベンジル基、第三ブチルベンジル基、ヒドロキ
シベンジル基、アセチル基、プロピオニル基、
ブトリル基、カプロリル基及びベンゾイル基; R7として:水素原子、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘキシル基及びフエニル
基; Yとして:エチレン基、トリメチレン基、テトラ
メチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレ
ン基、デカメチレン基、ドデカメチレン基、2
−ヒドロキシプロパン−1,3−ジイル基、3
−オキサペンタン−1,5−ジイル基、ブテ−
2−エン−1,4−ジイル基及びキシリレン
基。 特に興味深い結果を与える式で表わされる化
合物は、 前記式において、 R1及びR2が同一であるかまたは異なることが
でき、水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基を表わすか、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、
炭素原子数6ないし10のシクロアルキル基または
前記式(ここで、R6は水素原子、メチル基、
アリル基、ベンジル基またはアセチル基を表わ
す。)で表わされる基によつて置換された炭素原
子数2ないし6のアルキル基を表わすか、または R1及びR2が、それらが結合している窒素原子
と一緒になつてピロリジン−1−イル基、ピペリ
ジン−1−イル基、ヘキサヒドロアゼピン−1−
イル基またはモルホリン−4−イル基を表わし、 R3及びR5が前記式(式中、R7は水素原子、
メチル基またはエチル基を表わす。)で表わされ
る基を表わし、そしてさらに R4が炭素原子数2ないし12のジアシル基また
は前記式(式中、R1及びR2は前記の意味を表
わす。)で表わされる基を表わし、 aが0.3ないし1の数を表わし、そして bが0ないし0.7の数を表わし;そして数平均
分子量nが1500ないし10000である化合物であ
る。 本発明による使用のために好ましい式で表わ
される化合物は、 前記式において、 R1及びR2が同一であるかまたは異なることが
でき、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シク
ロヘキシル基、2,2,6,6−テトラメチル−
ピペリジン−4−イル基または1,2,2,6,
6−ペンタメチル−ピペリジン−4−イル基を表
わし、 R3及びR5が前記式(式中、R7は水素原子ま
たはメチル基を表わす。)で表わされる基を表わ
し、そしてさらに aが1を表わし、そして bが0を表わし;そして 数平均分子量nが1500ないし6000である化合
物である。 もしbが0以外であるならば、式で表わされ
る化合物は次式:
【式】
(式中、
R1及びR2は前記の意味を表わし、そして
A1及びA2は塩素原子または炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基を表わす。)で表わされる化
合物と次式: A3−R4−A4 () (式中、 R4は前記の意味を表わし、そして A3及びA4は塩素原子または炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基を表わす。)で表わされる化
合物との混合物を次式XI、XII、または:
し4のアルコキシ基を表わす。)で表わされる化
合物と次式: A3−R4−A4 () (式中、 R4は前記の意味を表わし、そして A3及びA4は塩素原子または炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基を表わす。)で表わされる化
合物との混合物を次式XI、XII、または:
【式】
【化】
【式】
【式】
(上記各式中、R7及びYは前記の意味を表わ
す。)で表わされる化合物と、好ましくは化学量
論的割合で反応させることによつて製造すること
ができる。 もしbが0ならば、式で表わされる化合物は
式で表わされる化合物を式XI、XII、または
で表わされる化合物と、ほぼ化学量論的割合
で反応させることによつて製造する。 双方の場合において、反応は不活性有機溶媒の
存在下または不存在下にそしてもしA1、A2、A3
及びA4が塩素原子ならば、有機または無機塩基
の存在下に、またもしA1、A2、A3及びA4がアル
コキシ基ならば、エステル交換触媒の存在下に行
なうことができる。 反応媒体として使用するために適する不活性有
機溶媒は例えばベンゼン、トルエン、キシレン、
エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、テトラリ
ン、デカリン、オクタン、デカン、100ないし200
℃の沸点を有する脂肪族炭化水素の混合物、ジオ
キサン、ジブチルエーテル、1,2−ジメトキシ
エタン、1,2−ジエトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル及びジエチレングリ
コールジエチルエーテルである。 反応中に遊離された塩酸を揮発させないため、
もしA1、A2、A3及びA4が塩素原子である試薬を
使用する場合には、適する有機及び無機塩基は例
えばピリジン、トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウムまたは炭酸カリウムである;全ての場
合において、塩基は反応中に遊離する塩酸とほぼ
当量を使用する。 A1、A2、A3及びA4がアルコキシ基である場合
において、使用することができるエステル交換触
媒の例はたとえばアルカリ金属及びアルカル金属
のアルコラート、水素化物及びアミドである。 重縮合反応は80°ないし280℃、好ましくは100
ないし200℃の温度で、モル比(式の化合物+
式の化合物:式XI、XII、またはの化合
物)を1.3:1ないし1:1.3好ましくは1.2:1な
いし1:1.2として、行なうことができる。 種々の試薬をこの反応に同時にまたは連続的に
加えることができる。 式で表わされる化合物は塩化シアヌルから出
発する公知方法により得ることができる;その製
造されたジクロロ−トリアジンまたはジアルコキ
シートリアジンはその反応混合物において分離し
ないで直接、または分離した後に使用することが
できる。式XI、XII、、の化合物は公知化
合物である。 本発明をさらに明確に説明するために、式で
表わされる化合物の数種の製造例を以下に記載す
る;これらの実施例は説明のためにのみ挙げるも
のであり、いかなる限定をも意味するものではな
い。 実施例 1 溶媒を反応中に遊離するメタノールと一緒にゆ
つくり留去し、同量の新しい溶媒で置き換えなが
ら、2−〔N−(2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル)−ブチルアミノ〕−4,6−
ジメトキシ−1,3,5−トリアジン35.1g
(0.1モル)、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オー
ル20.1g(0.1モル)、水素化ナトリウム0.3g及び
キシレン200mlを還流下に12時間熱する。 その反応混合物を蒸発乾燥して、得られた残留
物を粉砕し水で洗いそして乾燥する。 得られた生成物は融点:205ないし215℃及び数
平均分子量n:4300を有する。 実施例 2及び3 実施例1に記載した操作を下記に挙げた試薬か
ら、指示した割合において式で表わされる別の
化合物の製造のために繰り返す。
す。)で表わされる化合物と、好ましくは化学量
論的割合で反応させることによつて製造すること
ができる。 もしbが0ならば、式で表わされる化合物は
式で表わされる化合物を式XI、XII、または
で表わされる化合物と、ほぼ化学量論的割合
で反応させることによつて製造する。 双方の場合において、反応は不活性有機溶媒の
存在下または不存在下にそしてもしA1、A2、A3
及びA4が塩素原子ならば、有機または無機塩基
の存在下に、またもしA1、A2、A3及びA4がアル
コキシ基ならば、エステル交換触媒の存在下に行
なうことができる。 反応媒体として使用するために適する不活性有
機溶媒は例えばベンゼン、トルエン、キシレン、
エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、テトラリ
ン、デカリン、オクタン、デカン、100ないし200
℃の沸点を有する脂肪族炭化水素の混合物、ジオ
キサン、ジブチルエーテル、1,2−ジメトキシ
エタン、1,2−ジエトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル及びジエチレングリ
コールジエチルエーテルである。 反応中に遊離された塩酸を揮発させないため、
もしA1、A2、A3及びA4が塩素原子である試薬を
使用する場合には、適する有機及び無機塩基は例
えばピリジン、トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウムまたは炭酸カリウムである;全ての場
合において、塩基は反応中に遊離する塩酸とほぼ
当量を使用する。 A1、A2、A3及びA4がアルコキシ基である場合
において、使用することができるエステル交換触
媒の例はたとえばアルカリ金属及びアルカル金属
のアルコラート、水素化物及びアミドである。 重縮合反応は80°ないし280℃、好ましくは100
ないし200℃の温度で、モル比(式の化合物+
式の化合物:式XI、XII、またはの化合
物)を1.3:1ないし1:1.3好ましくは1.2:1な
いし1:1.2として、行なうことができる。 種々の試薬をこの反応に同時にまたは連続的に
加えることができる。 式で表わされる化合物は塩化シアヌルから出
発する公知方法により得ることができる;その製
造されたジクロロ−トリアジンまたはジアルコキ
シートリアジンはその反応混合物において分離し
ないで直接、または分離した後に使用することが
できる。式XI、XII、、の化合物は公知化
合物である。 本発明をさらに明確に説明するために、式で
表わされる化合物の数種の製造例を以下に記載す
る;これらの実施例は説明のためにのみ挙げるも
のであり、いかなる限定をも意味するものではな
い。 実施例 1 溶媒を反応中に遊離するメタノールと一緒にゆ
つくり留去し、同量の新しい溶媒で置き換えなが
ら、2−〔N−(2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル)−ブチルアミノ〕−4,6−
ジメトキシ−1,3,5−トリアジン35.1g
(0.1モル)、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オー
ル20.1g(0.1モル)、水素化ナトリウム0.3g及び
キシレン200mlを還流下に12時間熱する。 その反応混合物を蒸発乾燥して、得られた残留
物を粉砕し水で洗いそして乾燥する。 得られた生成物は融点:205ないし215℃及び数
平均分子量n:4300を有する。 実施例 2及び3 実施例1に記載した操作を下記に挙げた試薬か
ら、指示した割合において式で表わされる別の
化合物の製造のために繰り返す。
【表】
実施例 4
4−オクチルアミノ−2,2,6,6−テトラ
メチル−ピペリジン26.8g(0.1モル)をトリメ
チルベンゼン180ml中に塩化シアヌル18.5g(0.1
モル)を溶解した溶液に10℃を越えないようにし
てゆつくり加えて0℃に冷却する。 次に水50ml中に水酸化ナトリウム4gを溶解し
た溶液を温度を10℃に維持しながら加える。 そのようにして得られた混合物に、1−(2−
ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−ピペリジン−4−オール20.1g(0.1モル)
及び水酸化ナトリウム12gを加え、そしてその混
合物を還流下に20時間、水を共沸混合的に除去し
ながら熱する。 無機生成物を分離するために過した後、そし
て溶媒を除去した後に、145ないし152℃で融解
し、数平均分子量n:2200を有する生成物を得
る。 実施例 5ないし6 実施例4において記載した操作を下記の挙げた
試薬から指示された割合において別に2種の化合
物を得るために繰り返す:
メチル−ピペリジン26.8g(0.1モル)をトリメ
チルベンゼン180ml中に塩化シアヌル18.5g(0.1
モル)を溶解した溶液に10℃を越えないようにし
てゆつくり加えて0℃に冷却する。 次に水50ml中に水酸化ナトリウム4gを溶解し
た溶液を温度を10℃に維持しながら加える。 そのようにして得られた混合物に、1−(2−
ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−ピペリジン−4−オール20.1g(0.1モル)
及び水酸化ナトリウム12gを加え、そしてその混
合物を還流下に20時間、水を共沸混合的に除去し
ながら熱する。 無機生成物を分離するために過した後、そし
て溶媒を除去した後に、145ないし152℃で融解
し、数平均分子量n:2200を有する生成物を得
る。 実施例 5ないし6 実施例4において記載した操作を下記の挙げた
試薬から指示された割合において別に2種の化合
物を得るために繰り返す:
【表】
実施例 7
溶媒を反応中に生成するメタノールと一緒に留
去し、同量の新しいキシレンによつて置き換えな
がら、2,4−ジメトキシ−6−〔N−2,2,
6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−イル)
−オクチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン
20.4g(0.05モル)、及び1−(2−ヒドロキシエ
チル)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−4−オール20.1g(0.1モル)ナトリウム0.25
g及びキシレン200mlを還流下に8時間熱する。 その混合物を80℃に冷却し、コハク酸ジメチル
7.3g(0.05モル)を加えて、そしてその混合物
を還流下にさらに8時間、溶媒の置き換えをつづ
けながら熱する。 反応終了後に、その混合物をキシレン200mlで
希釈し、過しそしてその液を蒸発乾燥する。
得られた生成物は95ないし103℃で融解し、そし
て数平均分子量n:3700を有する。 実施例 8 実施例7に記載したと同様の操作を使用して、
試薬として2−〔N−(2,2,6,6−テトラメ
チル−ピペリジン−4−イル)−ブチルアミノ〕−
4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン
17355g(0.05モル)、1−(2−ヒドロキシエチ
ル)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−オール20.1g(0.1モル)及びコハク酸ジ
メチル7.3g(0.05モル)を使用して、コポリマ
ーを製造する。 得られた生成物は125ないし134℃で融解し、数
平均分子量n:2000を有する。 最初に記載したように、式で表わされる化合
物は合成ポリマー例えば高密度及び低密度ポリエ
チレン、ポリプロピレン、エチレン/プロピレン
コポリマー、エチレン酢酸ビニルコポリマー、ポ
リブタジエン、ポリイソプレン、ポリスチレン、
ブタジエン/スチレンコポリマー、塩化ビニル/
塩化ビニリデンポリマー及びコポリマー、ポリオ
キシメチレン、ポリウレタン、飽和及び不飽和ポ
リエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リアクリレート、アルキド樹脂及びエポキシド樹
脂の光安定性、熱安定性及び酸化安定性を改善す
ることにおいて非常に効果的である。 式で表わされる化合物はポリマーの性質、最
終用途及び他の添加剤に依存して種々の割合で、
合成ポリマーと混合することができる。一般に、
ポリマーの重量に対して式で表わされる化合物
0.01ないし5重量%を使用するのが有利である。 式で表わされる化合物は種々の方法例えば粉
末形態での乾燥配合、または溶液または懸濁液の
形態での混潤混合によつて重合材料中に入れるこ
とができ、これらの操作において合成ポリマーは
粉末、グラニユール、溶液、懸濁液の形態でまた
はラテツクスの形態で使用することができる。 式で表わされる生成物で安定化されたポリマ
ーは成形製品、フイルム、テープ、繊維、モノフ
イラメント、表面塗料等の製造のために使用する
ことができる。 所望ならば他の添加剤、例えば酸化防止剤、紫
外線吸収剤、ニツケル安定剤、顔料、充填剤、可
塑剤、帯電防止剤、難燃剤、潤滑油、腐蝕防止剤
及び金属不活性化剤を式で表わされる化合物と
合成ポリマーとの混合物中に添加することができ
る。 式で表わされる化合物と混合することができ
る添加剤の例は特に以下のものである: 1.1 アルキル化モノフエノール、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフエノ
ール 2−第三ブチル−4,6−ジメチルフエノー
ル 2,6−ジ−第三ブチル−4−エチルフエノ
ール 2,6−ジ−第三ブチル−4−n−ブチルフ
エノール 2,6−ジ−第三ブチル−4−i−ブチルフ
エノール 2,6−ジ−シクロペンチル−4−メチルフ
エノール 2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−
ジメチルフエノール 2,6−ジ−オクタデシル−4−メチルフエ
ノール 2,4,6−トリ−シクロヘキシルフエノー
ル 2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシメチ
ルフエノール 1.2 アルキル化ヒドロキノン、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシフエ
ノール 2,5−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン 2,5−ジ−第三アミル−ヒドロキノン 2,6−ジフエニル−4−オクタデシルオキ
シフエノール 1.3 ヒドロキシル化チオジフエニルエーテル、
例えば 2,2′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4
−メチルフエノール) 2,2′−チオ−ビス−(4−オクチルフエノ
ール) 4,4′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−3
−メチルフエノール) 4,4′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−2
−メチルフエノール) 1.4 アルキリデン−ビスフエノール、例えば 2,2′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル
−4−メチルフエノール) 2,2′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル
−4−エチルフエノール) 2,2′−メチレン−ビス−〔4−メチル−6
−(α−メチルシクロヘキシル)−フエノール〕 2,2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6
−シクロヘキシルフエノール) 2,2′−メチレン−ビス−(6−ノニル−4
−メチルフエノール) 2,2′−メチレン−ビス−〔6−(α−メチル
ベンジル)−4−ノニルフエノール〕 2,2′−メチレン−ビス−〔6−(α,α−ジ
メチルベンジル)−4−ノニルフエノール〕 2,2′−メチレン−ビス−(4,6−ジ−第
三ブチルフエノール) 2,2′−エチリデン−ビス−(4,6−ジ−
第三ブチルフエノール) 2,2′−エチルデン−ビス−(6−第三ブチ
ル−4−イソブチルフエノール) 4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−第
三ブチルフエノール) 4,4′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル
−2−メチルフエノール) 1,1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフエニル)−ブタン 2,6−ジ−(3−第三ブチル−5−メチル
−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフエ
ノール 1,1,3−トリス−(5−第三ブチル−4
−ヒドロキシ−2−メチルフエニル)−ブタン 1,1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフエニル)−3−n−ドデ
シルメルカプトブタン エチレングリコール−ビス−〔3,3−ビス
−(3′−第三ブチル−4′−ヒドロキシフエニル)
−ブチレート ジ−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフエニル)−ジシクロペンタジエン ジ−〔2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ
−5′−メチル−ベンジル)−6−第三ブチル−
4−メチルフエニル〕−テレフタレート 1.5 ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリ−(3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−
トリメチルベンゼン−ジ−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−スルフイ
ド 3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル−メルカプト−酢酸−イソオクチルエス
テル ビス−(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル)ジチオール−テレ
フタレート 1,3,5−トリス−(3,5−ジ−第三ブ
チル−4ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレ
ート 1,3,5−トリス−(4−第三ブチル−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−
イソシアヌレート 3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル−燐酸−ジオクタデシルエステル 3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル−燐酸−モノエチルエステル カルシウム塩 1.6 アシルアミノフエノール、例えば 4−ヒドロキシ−ラウリン酸アニリド 4−ヒドロキシ−ステアリン酸アニリド 2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−
(3,5−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリ
ノ)−s−トリアジン オクチル−N−(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシフエニル)−カルバミネート 1.7 β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフエニル)−プロピオン酸と一価または多
価アルコールとのエステル、例えば メタノール ジエチレングリコール オクタデカノール トリエチレングリコール 1,6−ヘキサンジオール
ペンタエリトリトール ネオペンチルグリコール
トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレート チオジエチレングリコール
ジ−ヒドロキシエチルシユウ酸ジアミド とのエステル 1.8 β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3
−メチルフエニル)プロピオン酸と一価または
多価アルコールとのエステル、例えば メタノール ジエチレングリコール オクタデカノール トリエチレングリコール 1,6−ヘキサンジオール
ペンタエリトリトール ネオペンチルグリコール
トリス−ヒドロキシエチルイソシアノレート チオジエチレングリコール
ジ−ヒドロキシエチレンシユウ酸ジアミド とのエステル 1.9 β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフエニル)−プロピオン酸のアミド、例え
ば、 N,N−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフエニルプロピオニル)−ヘキサ
メチレンジアミン N,N′−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフエニルプロピオニル)−トリメ
チレンジアミン N,N′−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフエニルプロピオニル)−ヒドラ
ジン 2 紫外線吸収剤及び光安定剤 2.1 2−(2′−ヒドロキシフエニル)−ベンズ
トリアゾール 例えば5′−メチル−、3′,5′−ジ−第三ブ
チル−、5′−第三ブチル−、5′−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)−、5−クロ
ロ−3′,5′−ジ−第三ブチル−、5−クロロ
−3′−第三ブチル−5′−メチル−、3′−第二
ブチル−5′−第三ブチル−、4′−オクトキシ
−、3′,5′−ジ−第三アミル−及び3′,5′−
ビス−(α,α−ジメチルベンジル−誘導体。 2.2 2−ヒドロキシ−ベンゾフエノン 例えば、4−ヒドロキシ−、4−メトキシ
−、4−オクトキシ−、4−デシルオキシ
−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオ
キシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−及び
2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導
体。 2.3 場合によつては置換されている安息香酸
のエステル、 例えばサリチル酸フエニル、4−第三ブチ
ルフエニルサリチレート、オクチルフエニル
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノー
ル、ビス−(4−第三ブチルベンゾイル)−レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ安
息香酸2,4−ジ−第三ブチルフエニルエス
テル及び3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。 2.4. アクリレート 例えば、α−シアノ−β,β−ジフエニル
アクリル酸エチルエステルまたはイソオクチ
ルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メ
チルエステル、α−シアノ−β−メチル−p
−メトキシ−桂皮酸メチルエステルまたはブ
チルエステル、α−カルボメトキシ−p−メ
トキシ−桂皮酸メチルエステルN−(β−カ
ルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メ
チル−インドリン。 2.5 ニツケル化合物 例えば2,2′−チオ−ビス−〔4−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−フエノ
ール〕の場合によりさらにn−ブチルアミ
ン、トリエタノールアミン、またはN−シク
ロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような
配位子を有するニツケル錯体(例えばニツケ
ルと2,2′−チオ−ビス−〔4−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)−フエノール
の比が1:1または1:2であるようなも
の。)、ニツケルジブチルジチオカルバメー
ト、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチ
ルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル
例えばメチル、エチルまたはブチルエステル
のニツケル塩、ケトオキシム例えば2−ヒド
ロキシ−4−メチル−フエニルウンデシルケ
トオキシムのニツケル錯体、1−フエニル−
4−ラウロイル−5−ヒドロキシ−ピラゾー
ルの場合によりさらに配位子を有するニツケ
ル錯体。 2.6 立体障害アミン 例えば、ビス−(2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジル)−セバケート、ビス−
(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリ
ジル)−セバケート、n−ブチル−3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマ
ロン酸ビス−(1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジル)エステル、1−ヒドロキ
シエチル−2,2,6,6−テトラメチル−
4−ヒドロキシペピリジンとコハク酸の縮合
生成物、N,N′−(2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジル)−ヘキサメチレンジアミ
ンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジク
ロロ−1,3,5−s−トリアジンの縮合生
成物、トリス−(2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル)−ニトリロトリアセテート、
テトラキス−(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブ
タン−テトラカルボン酸、1,1′(1,2−
エタンジイル)−ビス−(3,3,5,5−テ
トラメチルピペラジノン)。 2.7 シユウ酸ジアミド 例えば、4,4′−ジ−オクチルオキシ−オ
キサニリド、2,2′−ジ−オクチルオキシ−
5,5′−ジ−第三ブチル−オキサニリド、
2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−
第三ブチル−オキサニリド、2−エトキシ−
2′−エチル−オキサニリド、N,N′−ビス−
(3−ジメチルアミノプロピル)−オキサルア
ミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2′−
エチルオキサニリド及び2−エトキシ−2′−
エチル−5,4′−ジ−第三ブチルオキサニリ
ドとの混合物及びオルトー及びパラーメトキ
シ−並びにo及びp−エトキシ−二置換オキ
サニリド。 3 金属奪活剤 例えば、N,N′−ジフエニルシユウ酸ジア
ミド、N−サリチラール−N′−サリチロイル
ヒドラジン、N,N′−ビス−サリチロイルヒ
ドラジン、N,N′−ビス−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシフエニルプロピオニ
ル)−ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−
1,2,4−トリアゾール、ビス−ベンジリデ
ン−シユウ酸ジヒドラジン。 4 亜燐酸エステル及びホスホン酸エステル 例えば、トリフエニルホスフイツト、ジフエ
ニルアルキルホスフイツト、フエニルジアルキ
ルホスフイツト、トリ−(ノニルフエニル)ホ
スフイツト、トリアウリルホスフイツト、トリ
オクタデシルホスフイツト、ジ−ステアリル−
ペンタエリトリトジホスフイツト、トリス−
(2,4−第三ブチルフエニル)ホスフイツト、
ジ−イソデシルペンタエリトリツトジホスフイ
ツト、ジ−(2,4−ジ−第三ブチルフエニル)
ペンタエリトリツトジホスフイツト、トリステ
アリル−ソルビトトリホスフイツト、テトラキ
ス−(2,4−ジ−第三ブチルフエニル)−4,
4′−ビフエニリレンジホスホニツト。 5 過酸化物を破壊する化合物 例えば、β−チオ−ジプロピオン酸のエステ
ル例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルま
たはトリデシルエステル、メルカプト−ベンズ
イミダゾールまたは2−メルカプトベンズイミ
ダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、二硫酸ジオクタデシル、ペンタエリト
リツト−テトラキス−(β−ドデシルメルカプ
ト)−プロピオネート。 6 ポリアミド安定剤 例えば、ヨウ化物及び/または燐化合物及び
二価のマンガンの塩と組合せた銅塩。 7 塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、
ジシアンアミド、トリアリルシアヌレート、尿
素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリア
ミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金
属塩及びアルカリ土類金属塩例えばステアリン
酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン
酸マグネシウム、リシン酸ナトリウム及びパル
ミチン酸カリウム、アンチモンピロカテコレー
トまたは亜鉛ピロカテコレート。 8 成核剤 例えば、4−第三ブチル−安息香酸、アジピ
ン酸、ジフエニル酢酸。 9 充填剤及び補強剤 例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラ
ス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、マイ
カ、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、
カーボンブラツク、黒鉛。 10 他の添加剤 例えば可塑剤、離型剤、乳化材、顔料、蛍光
増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。 本発明により製造された生成物の安定剤として
の効果を以下の実施例で詳しく説明する。実施例
中、製造例で得られた同一の生成物をポリプロピ
レンテープ及び繊維を安定化するために使用す
る。 実施例 9 表1に示された生成物の各々2g、ペンタエリ
トリトールテトラキス−3−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシフエニル)−プロピオネ
ート1g及びステアリン酸カルシウム1gをメル
トインデツクス2.4のポリプロピレン粉末〔プロ
パテン(Propathene)HF18、インペリアル ケ
ミカル インダストリーズ(Imperial Chemical
Industries)の製品〕1000gと粉末ミキサー中で
混合する。 得られた混合物は180ないし220℃の温度で押し
出して、ポリマーグラニユールを得、次に下記の
加工条件下に、50μm厚で2.5mm幅の延伸テープに
加工する: 押し出し温度:220ないし240℃ 頭部温度:240℃ 延伸比:1:6 このようにして製造されたテープをブラツクパ
ネル温度63℃の65WR型ウエザロメーター
(ASTM G27−70)中で白い厚紙にのせて、暴
露する。 残留強力は種々の時間、光に暴露した後の試料
について、定速張力計(tensometer)によつて
測定する;次に最初の強力を半減するために必要
な暴露時間(時間:T50)を計算する。 比較のため、上記と同一の条件であるが本発明
の化合物を添加しないで製造したポリプロピレン
テープを光に暴露する。 結果を表1に示す。
去し、同量の新しいキシレンによつて置き換えな
がら、2,4−ジメトキシ−6−〔N−2,2,
6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−イル)
−オクチルアミノ〕−1,3,5−トリアジン
20.4g(0.05モル)、及び1−(2−ヒドロキシエ
チル)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−4−オール20.1g(0.1モル)ナトリウム0.25
g及びキシレン200mlを還流下に8時間熱する。 その混合物を80℃に冷却し、コハク酸ジメチル
7.3g(0.05モル)を加えて、そしてその混合物
を還流下にさらに8時間、溶媒の置き換えをつづ
けながら熱する。 反応終了後に、その混合物をキシレン200mlで
希釈し、過しそしてその液を蒸発乾燥する。
得られた生成物は95ないし103℃で融解し、そし
て数平均分子量n:3700を有する。 実施例 8 実施例7に記載したと同様の操作を使用して、
試薬として2−〔N−(2,2,6,6−テトラメ
チル−ピペリジン−4−イル)−ブチルアミノ〕−
4,6−ジメトキシ−1,3,5−トリアジン
17355g(0.05モル)、1−(2−ヒドロキシエチ
ル)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−オール20.1g(0.1モル)及びコハク酸ジ
メチル7.3g(0.05モル)を使用して、コポリマ
ーを製造する。 得られた生成物は125ないし134℃で融解し、数
平均分子量n:2000を有する。 最初に記載したように、式で表わされる化合
物は合成ポリマー例えば高密度及び低密度ポリエ
チレン、ポリプロピレン、エチレン/プロピレン
コポリマー、エチレン酢酸ビニルコポリマー、ポ
リブタジエン、ポリイソプレン、ポリスチレン、
ブタジエン/スチレンコポリマー、塩化ビニル/
塩化ビニリデンポリマー及びコポリマー、ポリオ
キシメチレン、ポリウレタン、飽和及び不飽和ポ
リエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポ
リアクリレート、アルキド樹脂及びエポキシド樹
脂の光安定性、熱安定性及び酸化安定性を改善す
ることにおいて非常に効果的である。 式で表わされる化合物はポリマーの性質、最
終用途及び他の添加剤に依存して種々の割合で、
合成ポリマーと混合することができる。一般に、
ポリマーの重量に対して式で表わされる化合物
0.01ないし5重量%を使用するのが有利である。 式で表わされる化合物は種々の方法例えば粉
末形態での乾燥配合、または溶液または懸濁液の
形態での混潤混合によつて重合材料中に入れるこ
とができ、これらの操作において合成ポリマーは
粉末、グラニユール、溶液、懸濁液の形態でまた
はラテツクスの形態で使用することができる。 式で表わされる生成物で安定化されたポリマ
ーは成形製品、フイルム、テープ、繊維、モノフ
イラメント、表面塗料等の製造のために使用する
ことができる。 所望ならば他の添加剤、例えば酸化防止剤、紫
外線吸収剤、ニツケル安定剤、顔料、充填剤、可
塑剤、帯電防止剤、難燃剤、潤滑油、腐蝕防止剤
及び金属不活性化剤を式で表わされる化合物と
合成ポリマーとの混合物中に添加することができ
る。 式で表わされる化合物と混合することができ
る添加剤の例は特に以下のものである: 1.1 アルキル化モノフエノール、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフエノ
ール 2−第三ブチル−4,6−ジメチルフエノー
ル 2,6−ジ−第三ブチル−4−エチルフエノ
ール 2,6−ジ−第三ブチル−4−n−ブチルフ
エノール 2,6−ジ−第三ブチル−4−i−ブチルフ
エノール 2,6−ジ−シクロペンチル−4−メチルフ
エノール 2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−
ジメチルフエノール 2,6−ジ−オクタデシル−4−メチルフエ
ノール 2,4,6−トリ−シクロヘキシルフエノー
ル 2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシメチ
ルフエノール 1.2 アルキル化ヒドロキノン、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシフエ
ノール 2,5−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン 2,5−ジ−第三アミル−ヒドロキノン 2,6−ジフエニル−4−オクタデシルオキ
シフエノール 1.3 ヒドロキシル化チオジフエニルエーテル、
例えば 2,2′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−4
−メチルフエノール) 2,2′−チオ−ビス−(4−オクチルフエノ
ール) 4,4′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−3
−メチルフエノール) 4,4′−チオ−ビス−(6−第三ブチル−2
−メチルフエノール) 1.4 アルキリデン−ビスフエノール、例えば 2,2′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル
−4−メチルフエノール) 2,2′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル
−4−エチルフエノール) 2,2′−メチレン−ビス−〔4−メチル−6
−(α−メチルシクロヘキシル)−フエノール〕 2,2′−メチレン−ビス−(4−メチル−6
−シクロヘキシルフエノール) 2,2′−メチレン−ビス−(6−ノニル−4
−メチルフエノール) 2,2′−メチレン−ビス−〔6−(α−メチル
ベンジル)−4−ノニルフエノール〕 2,2′−メチレン−ビス−〔6−(α,α−ジ
メチルベンジル)−4−ノニルフエノール〕 2,2′−メチレン−ビス−(4,6−ジ−第
三ブチルフエノール) 2,2′−エチリデン−ビス−(4,6−ジ−
第三ブチルフエノール) 2,2′−エチルデン−ビス−(6−第三ブチ
ル−4−イソブチルフエノール) 4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−第
三ブチルフエノール) 4,4′−メチレン−ビス−(6−第三ブチル
−2−メチルフエノール) 1,1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフエニル)−ブタン 2,6−ジ−(3−第三ブチル−5−メチル
−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフエ
ノール 1,1,3−トリス−(5−第三ブチル−4
−ヒドロキシ−2−メチルフエニル)−ブタン 1,1−ビス−(5−第三ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフエニル)−3−n−ドデ
シルメルカプトブタン エチレングリコール−ビス−〔3,3−ビス
−(3′−第三ブチル−4′−ヒドロキシフエニル)
−ブチレート ジ−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフエニル)−ジシクロペンタジエン ジ−〔2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ
−5′−メチル−ベンジル)−6−第三ブチル−
4−メチルフエニル〕−テレフタレート 1.5 ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリ−(3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−
トリメチルベンゼン−ジ−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−スルフイ
ド 3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル−メルカプト−酢酸−イソオクチルエス
テル ビス−(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−
2,6−ジメチルベンジル)ジチオール−テレ
フタレート 1,3,5−トリス−(3,5−ジ−第三ブ
チル−4ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレ
ート 1,3,5−トリス−(4−第三ブチル−3
−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)−
イソシアヌレート 3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル−燐酸−ジオクタデシルエステル 3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル−燐酸−モノエチルエステル カルシウム塩 1.6 アシルアミノフエノール、例えば 4−ヒドロキシ−ラウリン酸アニリド 4−ヒドロキシ−ステアリン酸アニリド 2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−
(3,5−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリ
ノ)−s−トリアジン オクチル−N−(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシフエニル)−カルバミネート 1.7 β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフエニル)−プロピオン酸と一価または多
価アルコールとのエステル、例えば メタノール ジエチレングリコール オクタデカノール トリエチレングリコール 1,6−ヘキサンジオール
ペンタエリトリトール ネオペンチルグリコール
トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレート チオジエチレングリコール
ジ−ヒドロキシエチルシユウ酸ジアミド とのエステル 1.8 β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3
−メチルフエニル)プロピオン酸と一価または
多価アルコールとのエステル、例えば メタノール ジエチレングリコール オクタデカノール トリエチレングリコール 1,6−ヘキサンジオール
ペンタエリトリトール ネオペンチルグリコール
トリス−ヒドロキシエチルイソシアノレート チオジエチレングリコール
ジ−ヒドロキシエチレンシユウ酸ジアミド とのエステル 1.9 β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフエニル)−プロピオン酸のアミド、例え
ば、 N,N−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフエニルプロピオニル)−ヘキサ
メチレンジアミン N,N′−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフエニルプロピオニル)−トリメ
チレンジアミン N,N′−ジ−(3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフエニルプロピオニル)−ヒドラ
ジン 2 紫外線吸収剤及び光安定剤 2.1 2−(2′−ヒドロキシフエニル)−ベンズ
トリアゾール 例えば5′−メチル−、3′,5′−ジ−第三ブ
チル−、5′−第三ブチル−、5′−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)−、5−クロ
ロ−3′,5′−ジ−第三ブチル−、5−クロロ
−3′−第三ブチル−5′−メチル−、3′−第二
ブチル−5′−第三ブチル−、4′−オクトキシ
−、3′,5′−ジ−第三アミル−及び3′,5′−
ビス−(α,α−ジメチルベンジル−誘導体。 2.2 2−ヒドロキシ−ベンゾフエノン 例えば、4−ヒドロキシ−、4−メトキシ
−、4−オクトキシ−、4−デシルオキシ
−、4−ドデシルオキシ−、4−ベンジルオ
キシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−及び
2′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導
体。 2.3 場合によつては置換されている安息香酸
のエステル、 例えばサリチル酸フエニル、4−第三ブチ
ルフエニルサリチレート、オクチルフエニル
サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノー
ル、ビス−(4−第三ブチルベンゾイル)−レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ安
息香酸2,4−ジ−第三ブチルフエニルエス
テル及び3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル。 2.4. アクリレート 例えば、α−シアノ−β,β−ジフエニル
アクリル酸エチルエステルまたはイソオクチ
ルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メ
チルエステル、α−シアノ−β−メチル−p
−メトキシ−桂皮酸メチルエステルまたはブ
チルエステル、α−カルボメトキシ−p−メ
トキシ−桂皮酸メチルエステルN−(β−カ
ルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メ
チル−インドリン。 2.5 ニツケル化合物 例えば2,2′−チオ−ビス−〔4−(1,
1,3,3−テトラメチルブチル)−フエノ
ール〕の場合によりさらにn−ブチルアミ
ン、トリエタノールアミン、またはN−シク
ロヘキシル−ジ−エタノールアミンのような
配位子を有するニツケル錯体(例えばニツケ
ルと2,2′−チオ−ビス−〔4−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)−フエノール
の比が1:1または1:2であるようなも
の。)、ニツケルジブチルジチオカルバメー
ト、4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチ
ルベンジルホスホン酸モノアルキルエステル
例えばメチル、エチルまたはブチルエステル
のニツケル塩、ケトオキシム例えば2−ヒド
ロキシ−4−メチル−フエニルウンデシルケ
トオキシムのニツケル錯体、1−フエニル−
4−ラウロイル−5−ヒドロキシ−ピラゾー
ルの場合によりさらに配位子を有するニツケ
ル錯体。 2.6 立体障害アミン 例えば、ビス−(2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジル)−セバケート、ビス−
(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリ
ジル)−セバケート、n−ブチル−3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマ
ロン酸ビス−(1,2,2,6,6−ペンタ
メチルピペリジル)エステル、1−ヒドロキ
シエチル−2,2,6,6−テトラメチル−
4−ヒドロキシペピリジンとコハク酸の縮合
生成物、N,N′−(2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジル)−ヘキサメチレンジアミ
ンと4−第三オクチルアミノ−2,6−ジク
ロロ−1,3,5−s−トリアジンの縮合生
成物、トリス−(2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジル)−ニトリロトリアセテート、
テトラキス−(2,2,6,6−テトラメチ
ル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブ
タン−テトラカルボン酸、1,1′(1,2−
エタンジイル)−ビス−(3,3,5,5−テ
トラメチルピペラジノン)。 2.7 シユウ酸ジアミド 例えば、4,4′−ジ−オクチルオキシ−オ
キサニリド、2,2′−ジ−オクチルオキシ−
5,5′−ジ−第三ブチル−オキサニリド、
2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−
第三ブチル−オキサニリド、2−エトキシ−
2′−エチル−オキサニリド、N,N′−ビス−
(3−ジメチルアミノプロピル)−オキサルア
ミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2′−
エチルオキサニリド及び2−エトキシ−2′−
エチル−5,4′−ジ−第三ブチルオキサニリ
ドとの混合物及びオルトー及びパラーメトキ
シ−並びにo及びp−エトキシ−二置換オキ
サニリド。 3 金属奪活剤 例えば、N,N′−ジフエニルシユウ酸ジア
ミド、N−サリチラール−N′−サリチロイル
ヒドラジン、N,N′−ビス−サリチロイルヒ
ドラジン、N,N′−ビス−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシフエニルプロピオニ
ル)−ヒドラジン、3−サリチロイルアミノ−
1,2,4−トリアゾール、ビス−ベンジリデ
ン−シユウ酸ジヒドラジン。 4 亜燐酸エステル及びホスホン酸エステル 例えば、トリフエニルホスフイツト、ジフエ
ニルアルキルホスフイツト、フエニルジアルキ
ルホスフイツト、トリ−(ノニルフエニル)ホ
スフイツト、トリアウリルホスフイツト、トリ
オクタデシルホスフイツト、ジ−ステアリル−
ペンタエリトリトジホスフイツト、トリス−
(2,4−第三ブチルフエニル)ホスフイツト、
ジ−イソデシルペンタエリトリツトジホスフイ
ツト、ジ−(2,4−ジ−第三ブチルフエニル)
ペンタエリトリツトジホスフイツト、トリステ
アリル−ソルビトトリホスフイツト、テトラキ
ス−(2,4−ジ−第三ブチルフエニル)−4,
4′−ビフエニリレンジホスホニツト。 5 過酸化物を破壊する化合物 例えば、β−チオ−ジプロピオン酸のエステ
ル例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルま
たはトリデシルエステル、メルカプト−ベンズ
イミダゾールまたは2−メルカプトベンズイミ
ダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、二硫酸ジオクタデシル、ペンタエリト
リツト−テトラキス−(β−ドデシルメルカプ
ト)−プロピオネート。 6 ポリアミド安定剤 例えば、ヨウ化物及び/または燐化合物及び
二価のマンガンの塩と組合せた銅塩。 7 塩基性補助安定剤 例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、
ジシアンアミド、トリアリルシアヌレート、尿
素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリア
ミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金
属塩及びアルカリ土類金属塩例えばステアリン
酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン
酸マグネシウム、リシン酸ナトリウム及びパル
ミチン酸カリウム、アンチモンピロカテコレー
トまたは亜鉛ピロカテコレート。 8 成核剤 例えば、4−第三ブチル−安息香酸、アジピ
ン酸、ジフエニル酢酸。 9 充填剤及び補強剤 例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラ
ス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、マイ
カ、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、
カーボンブラツク、黒鉛。 10 他の添加剤 例えば可塑剤、離型剤、乳化材、顔料、蛍光
増白剤、防炎加工剤、帯電防止剤及び発泡剤。 本発明により製造された生成物の安定剤として
の効果を以下の実施例で詳しく説明する。実施例
中、製造例で得られた同一の生成物をポリプロピ
レンテープ及び繊維を安定化するために使用す
る。 実施例 9 表1に示された生成物の各々2g、ペンタエリ
トリトールテトラキス−3−(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシフエニル)−プロピオネ
ート1g及びステアリン酸カルシウム1gをメル
トインデツクス2.4のポリプロピレン粉末〔プロ
パテン(Propathene)HF18、インペリアル ケ
ミカル インダストリーズ(Imperial Chemical
Industries)の製品〕1000gと粉末ミキサー中で
混合する。 得られた混合物は180ないし220℃の温度で押し
出して、ポリマーグラニユールを得、次に下記の
加工条件下に、50μm厚で2.5mm幅の延伸テープに
加工する: 押し出し温度:220ないし240℃ 頭部温度:240℃ 延伸比:1:6 このようにして製造されたテープをブラツクパ
ネル温度63℃の65WR型ウエザロメーター
(ASTM G27−70)中で白い厚紙にのせて、暴
露する。 残留強力は種々の時間、光に暴露した後の試料
について、定速張力計(tensometer)によつて
測定する;次に最初の強力を半減するために必要
な暴露時間(時間:T50)を計算する。 比較のため、上記と同一の条件であるが本発明
の化合物を添加しないで製造したポリプロピレン
テープを光に暴露する。 結果を表1に示す。
【表】
実施例 10
表2に挙げた各生成物の2.5g、オクタデシル
3−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フエニル)−プロピオネート1g、ステアリン酸
カルシウム1g及び二酸化チタン( KRONOS
RN57)2.5gをメルトインデツクス13のポリプロ
ピレン粉末〔プロパテン( Propathene)
HF85、インペリアル ケミカル インダストリ
ーズ(Imperial Chemical Industries)の製品〕
1000gと粉末ミキサー中で混合する。 その混合物を180ないし220℃で押し出し、ポリ
マーグラニユールを得、次に下記の加工条件で繊
維に加工する: 押し出し温度:220ないし240℃ 紡糸口金温度:240℃ 延伸比:1:3.5 糸の太さ:繊維当り20デニール このようにして製造された繊維をブラツクパネ
ル温度63℃の65WR型ウエザロメーター中で、白
い厚紙にのせて、暴露する。次にT50値を上記の
実施例で記載したと同様に計算する。比較のた
め、上記と同一の条件下であるが本発明の化合物
を添加せずに製造した繊維で得られたデータも挙
げる。 結果を表2に示す。
3−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フエニル)−プロピオネート1g、ステアリン酸
カルシウム1g及び二酸化チタン( KRONOS
RN57)2.5gをメルトインデツクス13のポリプロ
ピレン粉末〔プロパテン( Propathene)
HF85、インペリアル ケミカル インダストリ
ーズ(Imperial Chemical Industries)の製品〕
1000gと粉末ミキサー中で混合する。 その混合物を180ないし220℃で押し出し、ポリ
マーグラニユールを得、次に下記の加工条件で繊
維に加工する: 押し出し温度:220ないし240℃ 紡糸口金温度:240℃ 延伸比:1:3.5 糸の太さ:繊維当り20デニール このようにして製造された繊維をブラツクパネ
ル温度63℃の65WR型ウエザロメーター中で、白
い厚紙にのせて、暴露する。次にT50値を上記の
実施例で記載したと同様に計算する。比較のた
め、上記と同一の条件下であるが本発明の化合物
を添加せずに製造した繊維で得られたデータも挙
げる。 結果を表2に示す。
【表】
上記のデータは本発明による新規化合物で得ら
れる安定化効果を明確に示している。
れる安定化効果を明確に示している。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式: 【化】 〔式中、 R1及びR2は同一であるかまたは異なることが
でき、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、−OH、炭素原子数1ないし18のアルコキ
シ基または炭素原子数2ないし18のジアルキルア
ミノ基によつて置換された炭素原子数2ないし12
のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニ
ル基、炭素原子数5ないし18のシクロアルキル
基、炭素原子数6ないし18のアリール基、炭素原
子数7ないし18のアルアルキル基または次式: 【式】 (式中、R6は水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数3ないし12のアルケニ
ル基、炭素原子数3ないし12のアルキニル基、炭
素原子数7ないし12のアルアルキル基または炭素
原子数1ないし12のアシル基を表わす。)を表わ
すか、または R1及びR2がそれらが結合している窒素原子と
一緒になつてピロリジン−1−イル基、ピペリジ
ン−1−イル基、ヘキサヒドロアゼピン−1−イ
ル基、モルホリン−4−イル基または4−メチル
ピペラジン−1−イル基から選ばれる複素環式基
を表わし、 R3及びR5は同一であるかまたは異なることが
でき、次式、、または: 【化】 【化】 【式】【式】 (上記各式中、 R7は水素原子、炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフエニル基を表わし、 Xは基:−O(―CH2)o――O−または −N(R8)−C(O)(―CH2)o――C(O)−N(R8)−を表
わし、 nは1ないし6の数を表わし、そして R8はR1またはR2と同一の意味を表わす。)で表
わされる基を表わし、 R4は炭素原子数2ないし18のジアシル基また
は次式: 【化】 (式中、R1及びR2は前記の意味を表わす。)で表
わされる基を表わし、 aは0.2ないし1の数を表わし、そして bは0ないし0.8の数を表わす。〕で表わされ; 数平均分子量nが1000ないし20000である化
合物。 2 前記式において、 R1及びR2が同一であるかまたは異なることが
でき、水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基を表わすか、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、
炭素原子数6ないし10のシクロアルキル基または
前記式(ここでR6は水素原子、メチル基、ア
リル基、ベンジル基またはアセチル基を表わす。)
で表わされる基によつて置換された炭素原子数2
ないし6のアルキル基を表わすか、または R1及びR2が、それらが結合している窒素原子
と一緒になつてピリジン−1−イル基、ピペリジ
ン−1−イル基、ヘキサヒドロアゼピン−1−イ
ル基またはモルホリン−4−イル基を表わし、 R3及びR5が前記式(式中、R7は水素原子、
メチル基またはエチル基を表わす。)で表わされ
る基を表わし、そしてさらに R4が炭素原子数2ないし12のジアシル基また
は前記式(式中、R1及びR2は前記の意味を表
わす。)で表わされる基を表わし、 aは0.3ないし1の数を表わし、そして bは0ないし0.7の数を表わし;そして 数平均分子量nが1500ないし10000である特
許請求の範囲第1項記載の化合物。 3 前記式において、 R1及びR2が同一であるかまたは異なることが
でき、炭素原子数1ないし8のアルキル基、シク
ロヘキシル基、2,2,6,6−テトラメチル−
ピペリジン−4−イル基または1,2,2,6,
6−ペンタメチル−ピペリジン−4−イル基を表
わし、 R3及びR5が前記式(式中、R7は水素原子ま
たはメチル基を表わす。)で表わされる基を表わ
し、そしてさらに aが1を表わし bが0を表わし;そして 数平均分子量nが1500ないし6000である特許
請求の範囲第1項記載の化合物。 4 次式: 【化】 〔式中、 R1及びR2は同一であるかまたは異なることが
でき、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、−OH、炭素原子数1ないし18のアルコキ
シ基または炭素原子数2ないし18のジアルキルア
ミノ基によつて置換された炭素原子数2ないし12
のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニ
ル基、炭素原子数5ないし18のシクロアルキル
基、炭素原子数6ないし18のアリール基、炭素原
子数7ないし18のアルアルキル基または次式: 【化】 (式中、R6は水素原子、炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数3ないし12のアルケニ
ル基、炭素原子数3ないし12のアルキニル基、炭
素原子数7ないし12のアルアルキル基または炭素
原子数1ないし12のアシル基を表わす。)を表わ
される基を表わすか、または R1及びR2がそれらが結合している窒素原子と
一緒になつてピロリジン−1−イル基、ピペリジ
ン−1−イル基、ヘキサヒドロアゼピン−1−イ
ル基、モルホリン−4−イル基または4−メチル
ピペラジン−1−イル基から選ばれる複素環式基
を表わし、 R3及びR5は同一であるかまたは異なることが
でき、次式、、または: 【化】 【化】 【式】【式】 (上記各式中、 R7は水素原子、炭素原子数1ないし6のアル
キル基またはフエニル基を表わし、 Xは基:−
O(―CH2)o――O−または −N(R8)−C(O)(―CH2)o――C(O)−N(R8)−を表
わし、 nは1ないし6の数を表わし、そして R8はR1またはR2と同一の意味を表わす。)で表
わされる基を表わし、 R4は炭素原子数2ないし18のジアシル基 または次式: 【化】 (式中、R1及びR2は前記の意味を表わす。)で表
わされる基を表わし、 aは0.2ないし1の数を表わし、そして bは0ないし0.8の数を表わす。〕で表わされ; 数平均分子量nが1000ないし20000である化
合物からなる合成ポリマー用安定剤。 5 合成ポリマーがポリエチレンまたはポリプロ
ピレンである特許請求の範囲第4項記載の安定
剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT22976/83A IT1169843B (it) | 1983-09-23 | 1983-09-23 | Composti polimerici contenenti radicali piperidinici, processo per la loro preparazione e loro impiego quali stabilizzanti per polimeri sintetici |
| IT22976A/83 | 1983-09-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6099131A JPS6099131A (ja) | 1985-06-03 |
| JPH0570652B2 true JPH0570652B2 (ja) | 1993-10-05 |
Family
ID=11202502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59199336A Granted JPS6099131A (ja) | 1983-09-23 | 1984-09-22 | 新規なピペリジン基を含有するポリマー化合物及び該化合物からなる安定剤 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4696961A (ja) |
| EP (1) | EP0142467B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6099131A (ja) |
| DE (1) | DE3473598D1 (ja) |
| IT (1) | IT1169843B (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| IT1169843B (it) * | 1983-09-23 | 1987-06-03 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti polimerici contenenti radicali piperidinici, processo per la loro preparazione e loro impiego quali stabilizzanti per polimeri sintetici |
| IT1222049B (it) * | 1987-07-16 | 1990-08-31 | Ciba Geygi Spa | Composti piperidin triazinici utilizzabili come stabilizzanti per polimeri sintetici |
| AU621082B2 (en) * | 1988-02-08 | 1992-03-05 | Ciba-Geigy Ag | Tetramethylpiperidino-s-triazines |
| US4939437A (en) * | 1988-06-22 | 1990-07-03 | Siemens Energy & Automation, Inc. | Motor controller |
| US4883860A (en) * | 1988-12-15 | 1989-11-28 | Ici Americas Inc. | Triazine-based light stabilizers for plastics |
| IT1230086B (it) * | 1989-05-25 | 1991-10-05 | Ciba Geigy Spa | Composti piperidin-triazinici atti all'impiego come stabilizzanti per materiali organici. |
| US5324834A (en) * | 1990-06-13 | 1994-06-28 | Ciba-Geigy Corporation | Piperidine-triazine co-oligomers for use as stabilizers for organic materials |
| IT1256636B (it) * | 1992-12-10 | 1995-12-12 | Ciba Geigy Spa | Processo per la preparazione di 2,2,6,6-tetrametil-4- piperidilossi-1,3,5-triazine contenenti due o piu' anelli triazinici |
| IT1263892B (it) * | 1993-02-11 | 1996-09-05 | Graziano Vignali | Composti piperidin-triazinici atti all'impiego come stabilizzanti per materiali organici |
| TW270126B (ja) * | 1993-07-13 | 1996-02-11 | Ciba Geigy | |
| US7142351B2 (en) * | 2000-03-03 | 2006-11-28 | Sipix Imaging, Inc. | Electro-magnetophoresis display |
| US7576904B2 (en) * | 2000-03-03 | 2009-08-18 | Sipix Imaging, Inc. | Electro-magnetophoresis display |
| US7236290B1 (en) | 2000-07-25 | 2007-06-26 | E Ink Corporation | Electrophoretic medium with improved stability |
| EP1666964B1 (en) * | 2001-04-02 | 2018-12-19 | E Ink Corporation | Electrophoretic medium with improved image stability |
| TW578121B (en) * | 2002-03-21 | 2004-03-01 | Sipix Imaging Inc | Magnetophoretic and electromagnetophoretic display |
| US7580180B2 (en) * | 2002-03-21 | 2009-08-25 | Sipix Imaging, Inc. | Magnetophoretic and electromagnetophoretic displays |
| US7113323B2 (en) * | 2002-03-21 | 2006-09-26 | Sipix Imaging, Inc. | Magnetophoretic and electromagnetophoretic displays |
| CN1209674C (zh) * | 2002-04-23 | 2005-07-06 | 希毕克斯影像有限公司 | 电磁泳显示器 |
| US6831771B2 (en) * | 2003-01-08 | 2004-12-14 | Sipix Imaging Inc. | Electronic whiteboard using electrophoretic display |
| WO2015148398A1 (en) | 2014-03-25 | 2015-10-01 | E Ink California, Llc | Magnetophoretic display assembly and driving scheme |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4028334A (en) * | 1973-04-11 | 1977-06-07 | Ciba-Geigy Corporation | Piperidine derivatives |
| IT1052501B (it) * | 1975-12-04 | 1981-07-20 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti politriazinici utilizzabili per la stabilizzazione di polimeri sintetici e procedimento per la loro preparazione |
| IT1060458B (it) * | 1975-12-18 | 1982-08-20 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti piperidil triazinici adatti per la stabilizzazione di polimeri sintetici e procedimento per la loro preparazione |
| EP0003542B1 (de) * | 1978-02-08 | 1981-11-25 | Ciba-Geigy Ag | Neue Polyalkylpiperidinderivate von s-Triazinen, ihre Verwendung als Stabilisatoren für Polymere und die so stabilisierten Polymere |
| US4250268A (en) * | 1978-11-28 | 1981-02-10 | Ciba-Geigy Corporation | Polysilylesters having a polyalkylpiperidine as part of the polymer useful as light stabilizers for plastics |
| IT1165130B (it) * | 1979-06-28 | 1987-04-22 | Montedison Spa | Policondensati di piperidine sostituite e loro impiego come stabilizzanti per polimeri |
| IT1151035B (it) * | 1980-07-31 | 1986-12-17 | Chimosa Chimica Organica Spa | Piperidil-derivati di copolimeri triazinici,processi per la loro preparazione e composizioni stabilizzate che li comprendono |
| US4400505A (en) * | 1981-07-20 | 1983-08-23 | American Cyanamid Company | Triazinyl-piperidines as light stabilizers for polymers |
| US4412020A (en) * | 1981-07-20 | 1983-10-25 | American Cyanamid Company | Novel light stabilizers for polymers |
| US4356287A (en) * | 1981-07-20 | 1982-10-26 | American Cyanamid Company | Novel polymeric light stabilizers for polymers |
| IT1198355B (it) * | 1982-02-10 | 1988-12-21 | Apital Prod Ind | Derivati piperidinici e loro uso come stabilizzanti per polimeri |
| JPS59126439A (ja) * | 1983-01-10 | 1984-07-21 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 安定化高分子材料組成物 |
| IT1163815B (it) * | 1983-07-19 | 1987-04-08 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti polimerici contenenti radicali piperidinici processo per la loro preparazione e loro impiego quali stabilizzanti per polimeri sintetici |
| IT1163814B (it) * | 1983-07-19 | 1987-04-08 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti polimerici contenenti radicali piperidinici e triazinici,processo per la loro preparazione e loro impiego quali stabilizzanti per polimeri sintetici |
| IT1169843B (it) * | 1983-09-23 | 1987-06-03 | Chimosa Chimica Organica Spa | Composti polimerici contenenti radicali piperidinici, processo per la loro preparazione e loro impiego quali stabilizzanti per polimeri sintetici |
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