JPH02183440A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
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- JPH02183440A JPH02183440A JP1001248A JP124889A JPH02183440A JP H02183440 A JPH02183440 A JP H02183440A JP 1001248 A JP1001248 A JP 1001248A JP 124889 A JP124889 A JP 124889A JP H02183440 A JPH02183440 A JP H02183440A
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- reflective film
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、ＣＤ−ＲＯＭ等に用いられる光ディスクに関
するものである。
するものである。
［従来の技術］
近年、コンパクトディスクにコンピュータ用のデジタル
情報を記録した光ディスク、いわゆるＣＤ−ＲＯＭが普
及してきており、文献情報の検索等に盛んに利用されて
きているが、このＣＤ−ＲＯＭは基本的にはコンパクト
ディスクと同じ構造を有している。
情報を記録した光ディスク、いわゆるＣＤ−ＲＯＭが普
及してきており、文献情報の検索等に盛んに利用されて
きているが、このＣＤ−ＲＯＭは基本的にはコンパクト
ディスクと同じ構造を有している。
第２図は従来の光ディスクを半径方向に切断した断面図
である。第２図に示すように、ポリカーボネート等の熱
可塑性樹脂からなる透明基板１の表面には、符号化され
た記録情報に対応する凹凸パターンが形成され、この凹
凸パターンの形成された透明基板１の表面には、蒸着法
等によりＡで等の反射率の高い金属からなる反射膜２お
よび保護膜４が順次積層された構造となっている。
である。第２図に示すように、ポリカーボネート等の熱
可塑性樹脂からなる透明基板１の表面には、符号化され
た記録情報に対応する凹凸パターンが形成され、この凹
凸パターンの形成された透明基板１の表面には、蒸着法
等によりＡで等の反射率の高い金属からなる反射膜２お
よび保護膜４が順次積層された構造となっている。
ここで、前述した凹凸パターンを有する透明基板１の形
成は通常割出成形法を用いて行われる。
成は通常割出成形法を用いて行われる。
この射出成形法は、例えば、真利藤雄、林謙二共著「Ｃ
Ｄプレーヤ入門」第２５頁（コロナ社、１９８３年）に
開示されているように、マスタリングプロセスを経て形
成されたマザースタンパに、軟化させたポリカーボネー
ト樹脂を射出、し、前記ポリカーボネート樹脂が硬化し
た後、マザースタンパから剥離し、マザースタンパの凹
凸パターンを割出したポリカーボネート樹脂上に転写し
て、凹凸バターンを有する基板を形成する方法である。
Ｄプレーヤ入門」第２５頁（コロナ社、１９８３年）に
開示されているように、マスタリングプロセスを経て形
成されたマザースタンパに、軟化させたポリカーボネー
ト樹脂を射出、し、前記ポリカーボネート樹脂が硬化し
た後、マザースタンパから剥離し、マザースタンパの凹
凸パターンを割出したポリカーボネート樹脂上に転写し
て、凹凸バターンを有する基板を形成する方法である。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、上述した従来の光ディスクにおいては、
以下に述べるような問題点があった。即ち、基板表面に
形成する凹凸パターンは通常、幅０．４ＩＪＩＩＩ前後
、長さ０．９〜３．３庫の極めて微細な凹凸パターンで
あり、このため凹凸パターンを削出成形法を用いてマザ
ースタンパからポリｈ〜ボネート樹脂製の透明基板１に
転写する際に、凹凸パターンの欠け、突起、パリ等が発
生することかあり、光ディスクの製造工程上大きな問題
となっていた。特に、ＣＤ−ＲＯ〜１の場合には、従来
のコンパクトディスクに較べて格段の信頼性が求められ
ていることから、前述の問題点をいかに解決するかが、
大きな課題となっているのが現状である。
以下に述べるような問題点があった。即ち、基板表面に
形成する凹凸パターンは通常、幅０．４ＩＪＩＩＩ前後
、長さ０．９〜３．３庫の極めて微細な凹凸パターンで
あり、このため凹凸パターンを削出成形法を用いてマザ
ースタンパからポリｈ〜ボネート樹脂製の透明基板１に
転写する際に、凹凸パターンの欠け、突起、パリ等が発
生することかあり、光ディスクの製造工程上大きな問題
となっていた。特に、ＣＤ−ＲＯ〜１の場合には、従来
のコンパクトディスクに較べて格段の信頼性が求められ
ていることから、前述の問題点をいかに解決するかが、
大きな課題となっているのが現状である。
また、既に述べたように、従来の光ディスクでは、反射
膜２は凹凸パターンを有する透明基板１の上の全面に形
成される。ところで、本発明者らの検討によれば、凹凸
パターン上に成膜された反射膜２と透明基板］との密着
不良（反射膜２の透明基板１からの浮き上がり）の殆ど
が、凹凸パターンの凹部と凸部の境界で発生することが
明らかとなった。更に、従来構造のＣＤ−ＲＯＭを長時
間放置した時の反射膜２の腐食発生箇所を評価した結果
、やはり凹凸パターンの凹部と凸部の境界を中心として
、反射膜２の腐食が多く発生することが明らかとなった
。
膜２は凹凸パターンを有する透明基板１の上の全面に形
成される。ところで、本発明者らの検討によれば、凹凸
パターン上に成膜された反射膜２と透明基板］との密着
不良（反射膜２の透明基板１からの浮き上がり）の殆ど
が、凹凸パターンの凹部と凸部の境界で発生することが
明らかとなった。更に、従来構造のＣＤ−ＲＯＭを長時
間放置した時の反射膜２の腐食発生箇所を評価した結果
、やはり凹凸パターンの凹部と凸部の境界を中心として
、反射膜２の腐食が多く発生することが明らかとなった
。
このような、反射膜２の密着不良あるいは腐食は、当然
のことながら光ディスクの信頼性を著しく損なうもので
あり、前述の射出成形時の突起、パリ等の問題と同様、
大ぎな問題となっている。
のことながら光ディスクの信頼性を著しく損なうもので
あり、前述の射出成形時の突起、パリ等の問題と同様、
大ぎな問題となっている。
この反射膜の密着不良・腐食の問題の改善も、より高い
信頼性を求められるＣＤ−ＲＯＭにとっては、極めて単
質な問題と言える。このような反射膜の密着不良や腐食
の発生原因は、未だ不明な点も多いが、密着不良の一因
は凹部と凸部の境界での応力集中により反射膜が大きな
力を受けるためと考えられる。また、反射膜の腐食につ
いては、凹部と凸部の境界で反則膜の膜質が劣化するこ
と、密着不良の場合と同様に、応力集中により、いわゆ
る応力腐食が起こり、腐食か促進されることが原因と考
えられる。
信頼性を求められるＣＤ−ＲＯＭにとっては、極めて単
質な問題と言える。このような反射膜の密着不良や腐食
の発生原因は、未だ不明な点も多いが、密着不良の一因
は凹部と凸部の境界での応力集中により反射膜が大きな
力を受けるためと考えられる。また、反射膜の腐食につ
いては、凹部と凸部の境界で反則膜の膜質が劣化するこ
と、密着不良の場合と同様に、応力集中により、いわゆ
る応力腐食が起こり、腐食か促進されることが原因と考
えられる。
本発明は、以上述べたような従来の問題点を解決するた
めになされたもので、反射膜における密着不良や腐食発
生がなく、高い信頼性を有すると共に、パターン化され
た反射膜以外のｖＡ域での不要な反射を抑制し、Ｓ／Ｎ
比の高い光ディスクを提供することを目的とする。
めになされたもので、反射膜における密着不良や腐食発
生がなく、高い信頼性を有すると共に、パターン化され
た反射膜以外のｖＡ域での不要な反射を抑制し、Ｓ／Ｎ
比の高い光ディスクを提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明は、透明円板状基板上に、所定のデジタル情報に
対応した金属膜パターンよりなる反則膜と、Ｌｉ、Ｃａ
、Ｎａ、ＢａおよびＭｇのフッ化物のうち、少なくとも
一種からなるフッ化物膜と、保護膜とが順次積層されて
なることを特徴とする光ディスクである。
対応した金属膜パターンよりなる反則膜と、Ｌｉ、Ｃａ
、Ｎａ、ＢａおよびＭｇのフッ化物のうち、少なくとも
一種からなるフッ化物膜と、保護膜とが順次積層されて
なることを特徴とする光ディスクである。
本発明において、所定のデジタル情報に対応した金属膜
パターンは、円板状の透明塞板の上に金属膜からなる反
射膜を成膜した後、この反射膜を選択的にエツチングす
ることによって形成することができる。
パターンは、円板状の透明塞板の上に金属膜からなる反
射膜を成膜した後、この反射膜を選択的にエツチングす
ることによって形成することができる。
［作用］
本発明では、平坦な表面を有する円板状の透明基板の上
に、所定のデジタル情報に対応した金属膜パターンが形
成されている。このため従来の光ディスクで問題となっ
ていた凹凸パターンの凹部と凸部の境界における反則膜
の密着不良や腐食の問題が生じることがない。
に、所定のデジタル情報に対応した金属膜パターンが形
成されている。このため従来の光ディスクで問題となっ
ていた凹凸パターンの凹部と凸部の境界における反則膜
の密着不良や腐食の問題が生じることがない。
また、本発明者らの検討によればｌ＋、Ｃａ。
Ｎａ、Ｂａ、ＭＣＩのフッ化物の簿膜（膜厚はいずれも
０．５〜１．０胸）は、光デイスク装置の再生に用いら
れるレーザ光の通常の波長領域、例えば波長７８０ｎｍ
のレーザ光に対する反射率が５〜１０％と極めて小さな
ものであった。従って、これらのフッ化物の少なくとも
一つからなるフッ化物膜を、前述したパターン化された
反射膜を含む透明基板表面上に設けることによって、前
記反射膜の存在しない領域での不必要な反射を抑制する
ことが可能となり、高いＳ／Ｎを有する光ディスクが実
現される。
０．５〜１．０胸）は、光デイスク装置の再生に用いら
れるレーザ光の通常の波長領域、例えば波長７８０ｎｍ
のレーザ光に対する反射率が５〜１０％と極めて小さな
ものであった。従って、これらのフッ化物の少なくとも
一つからなるフッ化物膜を、前述したパターン化された
反射膜を含む透明基板表面上に設けることによって、前
記反射膜の存在しない領域での不必要な反射を抑制する
ことが可能となり、高いＳ／Ｎを有する光ディスクが実
現される。
［実施例］
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の一実施例の光ディスクを半径方向に切
断した断面図である。第１図に示す光ディスクの製造方
法は、まず強化カラスからなる透明基板１の上に八で膜
を０．１５柳の厚さに成膜する。へ！膜の成膜には電子
ビーム蒸着法を用い、その蒸着条件は到達真空度３ｘｌ
Ｏ−７Ｔｏｒｒ 、エミッション電流８５ ｍＡ、蒸着
時の基板温度７０’Ｃとした。次いで、デジタル情報に
対応したパターンを有覆るフォトレジスト膜を前記のＡ
２膜上に形成し、前記フォトレジスト膜をマスクとして
前記へ！膜をイオンエツチングにより除去して、反射膜
３を形成する。その後、フォトレジスト膜を有機溶媒あ
るいは酸素アッシングにより除去する。
断した断面図である。第１図に示す光ディスクの製造方
法は、まず強化カラスからなる透明基板１の上に八で膜
を０．１５柳の厚さに成膜する。へ！膜の成膜には電子
ビーム蒸着法を用い、その蒸着条件は到達真空度３ｘｌ
Ｏ−７Ｔｏｒｒ 、エミッション電流８５ ｍＡ、蒸着
時の基板温度７０’Ｃとした。次いで、デジタル情報に
対応したパターンを有覆るフォトレジスト膜を前記のＡ
２膜上に形成し、前記フォトレジスト膜をマスクとして
前記へ！膜をイオンエツチングにより除去して、反射膜
３を形成する。その後、フォトレジスト膜を有機溶媒あ
るいは酸素アッシングにより除去する。
次いで、電子ビーム蒸着法によりｌｉ、Ｃａ。
Ｎａ、ＢａおよびＭＣＩのフッ化物のいずれかよりなる
フッ化物膜５を曲記反則膜３を含む透明基板１表面全面
にわたって成膜する。フッ化物の成膜条件は到達真空度
３ｘｌＯ−７丁ｏｒｒ 、エミッション電流８５ＩＩＩ
Ａ、蒸着時の基板温度７０°Ｃであり、膜厚は０．６μ
ｍとした。
フッ化物膜５を曲記反則膜３を含む透明基板１表面全面
にわたって成膜する。フッ化物の成膜条件は到達真空度
３ｘｌＯ−７丁ｏｒｒ 、エミッション電流８５ＩＩＩ
Ａ、蒸着時の基板温度７０°Ｃであり、膜厚は０．６μ
ｍとした。
その後、酸化珪素膜からなる保護膜６をノツ化物膜５土
に成膜する。保護膜６の成膜にはスパッタリング法を用
い、その成膜条件はＡ ｒ’ガス圧力５ｘｌＯ−３Ｔｏ
ｒｒ 、投入電力４００Ｗで、成膜した膜厚は２珈であ
る。
に成膜する。保護膜６の成膜にはスパッタリング法を用
い、その成膜条件はＡ ｒ’ガス圧力５ｘｌＯ−３Ｔｏ
ｒｒ 、投入電力４００Ｗで、成膜した膜厚は２珈であ
る。
以上のようにして得られた光ディスクでは、微細な凹凸
パターンを削出成形法で透明基板１の一ヒに形成する必
要が無いため、従来技術におけるような射出成形時の凹
凸パターンの欠け、突起、パリ等の発生という問題点は
解決し、光デイスク製造工程での歩留まりか大幅に向上
した。また、平坦な垂板面上にパターン化した反則膜を
形成する構造であるため、従来の光ディスクで問題とな
っていた凹凸パターンの凹部と凸部の境界での反射膜の
密着不良や腐食の発生も見られなかった。
パターンを削出成形法で透明基板１の一ヒに形成する必
要が無いため、従来技術におけるような射出成形時の凹
凸パターンの欠け、突起、パリ等の発生という問題点は
解決し、光デイスク製造工程での歩留まりか大幅に向上
した。また、平坦な垂板面上にパターン化した反則膜を
形成する構造であるため、従来の光ディスクで問題とな
っていた凹凸パターンの凹部と凸部の境界での反射膜の
密着不良や腐食の発生も見られなかった。
更に、本実施例による光ディスクのＳ／Ｎを測定したと
ころ、従来構造の光ディスクのＳ／Ｎに比較して約２．
０倍の高いＳ／Ｎを示し、フッ化カルシウム等よりなる
フッ化物ｖＡ５を形成しなかった以外は本実施例と同一
の構造を持つ光ディスクに比較しても約１．４倍の高い
Ｓ／Ｎを示した。
ころ、従来構造の光ディスクのＳ／Ｎに比較して約２．
０倍の高いＳ／Ｎを示し、フッ化カルシウム等よりなる
フッ化物ｖＡ５を形成しなかった以外は本実施例と同一
の構造を持つ光ディスクに比較しても約１．４倍の高い
Ｓ／Ｎを示した。
このように、本発明による光ディスクは、従来の光ディ
スクに比較して高い信頼性を有し、コンピュータ用のデ
ジタル情報を記録するＣＤ−ＲＯＭとして優れた特性を
具備することが確認された。
スクに比較して高い信頼性を有し、コンピュータ用のデ
ジタル情報を記録するＣＤ−ＲＯＭとして優れた特性を
具備することが確認された。
また、それと同時に、従来構造の光ディスクあるいはフ
ッ化物膜５を形成しなかった場合に比較して、高いＳ／
Ｎを持つことが確認された。
ッ化物膜５を形成しなかった場合に比較して、高いＳ／
Ｎを持つことが確認された。
なお、上記の実施例では反射膜３の材料として八で膜を
用いたが、他の高反射率材料、例えばＡｕ、ＡＱ、Ｔａ
、ＴｉＮ、ＺｒＮ等を用いても良い。また、実施例中で
はフッ化物膜５として、Ｌ ｉ、Ｃａ、Ｎａ、Ｂａまた
はＭＣＩのフッ化物を単独に使用した例のみを述べたが
、これらのフッ化物を混合したもの、あるいは積層した
ものをフッ化物膜５として使用しても良い。
用いたが、他の高反射率材料、例えばＡｕ、ＡＱ、Ｔａ
、ＴｉＮ、ＺｒＮ等を用いても良い。また、実施例中で
はフッ化物膜５として、Ｌ ｉ、Ｃａ、Ｎａ、Ｂａまた
はＭＣＩのフッ化物を単独に使用した例のみを述べたが
、これらのフッ化物を混合したもの、あるいは積層した
ものをフッ化物膜５として使用しても良い。
［発明の効果１
以上述べたように、本発明の光ディスクは、平坦な透明
基板上に反射膜を成膜した後、この反射膜をエツチング
によってパターン化することによりデジタル情報を記録
するため、従来射出成形時に多く発生していた凹凸パタ
ーンの欠け、突起、パリ等の問題は解決し、光デイスク
製造工程での歩留まりが大幅に向上する。
基板上に反射膜を成膜した後、この反射膜をエツチング
によってパターン化することによりデジタル情報を記録
するため、従来射出成形時に多く発生していた凹凸パタ
ーンの欠け、突起、パリ等の問題は解決し、光デイスク
製造工程での歩留まりが大幅に向上する。
また、基板上に予め形成された凹凸パターン上に反則膜
を成膜する必要か無いため、従来凹凸パターンの凹部と
凸部の境界で発生していた反射膜の密着不良や腐食を抑
制することか可能となり、高い信頼性を持つ光ディスク
が実用される。
を成膜する必要か無いため、従来凹凸パターンの凹部と
凸部の境界で発生していた反射膜の密着不良や腐食を抑
制することか可能となり、高い信頼性を持つ光ディスク
が実用される。
更に、光デイスク装置の再生に用いられる波長領域のレ
ーザ光に対して反射率か極めて小さなフッ化物膜を前記
反射膜を含む透明基板の表面上に成膜することにより、
前述したパターン化された反射膜の存在しない領域での
不必要な反射を抑制することが可能となり、高いＳ／Ｎ
を有する光ディスクが実現される。
ーザ光に対して反射率か極めて小さなフッ化物膜を前記
反射膜を含む透明基板の表面上に成膜することにより、
前述したパターン化された反射膜の存在しない領域での
不必要な反射を抑制することが可能となり、高いＳ／Ｎ
を有する光ディスクが実現される。
第１図は本発明の一実施例による光ディスクの半径方向
の断面図、第２図は従来の光ディスクの半径方向の断面
図である。 １・・・透明基板 ２．３・・・反射膜 ４．６・・・保護膜 ５・・・フッ化物膜
の断面図、第２図は従来の光ディスクの半径方向の断面
図である。 １・・・透明基板 ２．３・・・反射膜 ４．６・・・保護膜 ５・・・フッ化物膜
Claims (1)
- （１）透明円板状基板上に、所定のデジタル情報に対応
した金属膜パターンよりなる反射膜と、Ｌｉ、Ｃａ、Ｎ
ａ、ＢａおよびＭｇのフッ化物のうち、少なくとも一種
からなるフッ化物膜と、保護膜とが順次積層されてなる
ことを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1001248A JPH02183440A (ja) | 1989-01-09 | 1989-01-09 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1001248A JPH02183440A (ja) | 1989-01-09 | 1989-01-09 | 光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02183440A true JPH02183440A (ja) | 1990-07-18 |
Family
ID=11496144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1001248A Pending JPH02183440A (ja) | 1989-01-09 | 1989-01-09 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02183440A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102338896A (zh) * | 2010-07-28 | 2012-02-01 | 盛玉林 | 具有光扩散功能的反射片 |
-
1989
- 1989-01-09 JP JP1001248A patent/JPH02183440A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN102338896A (zh) * | 2010-07-28 | 2012-02-01 | 盛玉林 | 具有光扩散功能的反射片 |
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