JPH0218458A - ウレタン基を有するアズレン四角酸染料、その予備生成物及び光学的記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （式中りは場合によりフェニル基で置換されたｃ、　４
　Ｃ１２−アルキレン基、Ｒ１は０１〜Ｃ２０−アルキ
ル基、Ｃ２〜Ｃ７−シクロアルキル基又は場合により置
換されたフェニル基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同一
でも異なってもよ（互いに独立して、それぞれ水素原子
又は場合によりハロゲン原子、Ｃ０〜Ｃ１２−フルコキ
シ基、フェニル基、置換すれたフェニル基、Ｃ１〜Ｃｌ
２−アルコキシカルボニル基もしくはシアノ基で置換さ
れたＣ、　−Ｃ，□−アルキル基を意味し、ただしＲ５
が水素原子を意味するときは、一方又は両方のアズレン
環において、置換基ＣＨ２−Ｌ−０−Ｃｏ−ＮＨＲ’及
びＲ４の環位置がアズレン環内で互いに交換されていて
もよい）で表わされるウレタン基を有するアズレン四角
酸染料、その予備生成物並びにこの新規染料を含有する
光学的記録媒体に関する。

光学的情報記録用支持体をコスト的に有利に製造するた
めには、特別の性質を有する染料を使用することが必要
である。この染料は下記の要求を満たさなければならな
い。

一半導体レーザーにより書込み可能な層を提供するため
に、７００〜９００　ｎｍで強い吸光を示すこと。

一簡単な層構成（反射層無しの）で間に合わせるために
、近赤外領域（７００〜９００ｎｍ）で高い反射性を層
内で示すこと。

一支持体上に例えばスピンコーティングにより記憶用の
薄層を形成できるように溶解度が高いこと。そして 一薄層中で安定度が高いこと。

従来公知の記憶用材料は、上記の必要条件の少なくとも
１つにおいて欠点を有する。

従って本発明の課題は、上記の欠点を全く有しないか又
は多（とも著しく小さい程度でしか生じない新規な染料
を提供することであった。

この目的により本発明者らは、先に詳細に特徴を示した
式Ｉのアズレン四角酸染料を見出した。

上記の式Ｉに示される全てのアルキレン基及びアルキル
基は、直鎖状でも分岐状でもよい。

式Ｉに置換されたフェニル基が存在する場合には、置換
基としては、例えばＣ，％Ｃ４−アルキル基、０１〜Ｃ
４−アルコキシ基及びハロゲン原子が挙げられる。

・・ロゲンとしては、弗素、塩素又は臭素が好ましい。

基りは、例えばメチレン、エチレン、１，２−又は１，
３−プロピレン、１．２−　１．３−　２．３−又は１
，４−ブチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン　へ
ブタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメ
チレン、ウンデカメチレン、トテカメチレン、フェニル
エチレン、１−フェニル−１，２−７’ロピレン、又は
２−フェニル−１，６−プロピレンである。

式■中の基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、Ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペ
ンチル、ネオペンチル、ｔ　−ペンチル　２−メチルブ
チル、ヘキシル、２−）ｔ　チ／Ｌ／　ヘ：ｙ　チ／ｌ
／　、ヘプチル、オクチル、２−エチルヘキシル、ノニ
ル、デシル、ウンデシル又はドデシルである。

基Ｒ′は更に、例えばトリデシル、テトラデシル、ペン
タデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル
、ノナデシル、エイコシル、シクロヘンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル、フェニル、２−又は４−メチ
ルフェニル、２−又は４−メトキシフェニル、２−又は
４−クロロフェニル又ハ２，４−ジクロロフェニルであ
る。

基Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は更に、次の基である。

例えばフルオロメチル、クロロメチル、ジフルオロメチ
ル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２−フル
オロエチル、　　２−クロロエチル、２−７０モエチル
、１．１．１−　）リフルオロエチル、ヘプタフルオロ
プロピル、　　４−１０ロフチル、５−フルオロペンチ
ル、　６−１０ロヘキシル、シアノメチル、２−シアノ
エチル、３−シアノプロピル、２−シアノブチル、４−
シアノブチル、５−シアノペンチル、６−シアノヘキシ
ル、２−メトキシエチル、２−エトキシエチル、２−プ
ロポキシエチル、２−イソプロポキシエチル、２−ブト
キシエチル、２−又は６−メドキシプロビル、２−又は
３−エトキシエチル、４−エトキシブチル、４−イソプ
ロポキシブチル、５−エトキシペンチル、６−メドキシ
ヘキシル、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニ
ルエチル、４−クロロベンジル、４−メトキシベンジル
、２−（４−メチルフェニル）エチル、メトキシカルボ
ニルメチル、エトキシカルボニルメチル、２−メトキシ
カルボニルエチル、２−エトキシカルボニルエチル、６
−メドキシカルポニルプロビル、６−ニトキシカルポニ
ルプロビル、４−メトキシカルボニルブチル、４−エト
キシカルボニルブチル、５−メトキシカルボニルペンチ
ル、５−エトキシカルボニルヘンチル、６−メドキシカ
ルポニルヘキシル又は６−ニトキシカルポニルヘキシル
。

Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５がそれぞれ０１〜Ｃ０−アル
キル基である式Ｉのアズレン四角酸染料が好ましい。

更にＲ１が０１〜Ｃ１１ｌ−アルキル基又はシクロヘキ
シル基を意味する式■のアズレン四角酸染料が好ましい
。

特に好ましいものは、Ｒ２及びＲ４がそれぞれメチル基
、そしてＲ３及びＲ５はそれぞれ水素原子を意味し、そ
してＬ及びＲ１がそれぞれ前記の意味を有する式■のア
ズレン四角酸染料である。これらの染料は次式で表わさ
れる。

更に特に好ましいものは、Ｒ２及びＲ４がそれぞれ水素
原子、Ｒ３がイソプロピル基、Ｒ５がメチル基を意味し
、そしてＬ及びＲ１がそれぞれ前記の意味を有する式ｌ
のアズレン四角酸染料である。

これらの染料は次式で表わされる。

式Ｉの染料は、Ｌ、Ｒ’、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５が
それぞれ前記の意味を有するアズレン誘導体■から、下
記の反応式に従って式■の四角酸との反応によって得ら
れる。

Ｒ５が水素原子を意味する式■のアズレン誘導体の場合
、５員環の種々の現位置において、四角酸との結合を生
じることができ、前記の様に置換基ＣＨ２−Ｌ−０−Ｃ
ｏ−ＮＨ−Ｒ’及びＲ４の環中の位置が互いに交換され
た異性体生成物が生成する。

即ち、ここで置換基ＣＨ２−Ｌ−０−Ｃｏ−ＮＨ−Ｒ’
が結合する側で四角酸との結合を生じる化合物は、置換
基Ｒ４が結合する側で四角酸との結合を生じる化合物か
ら区別される。これら異性体化合物はクロマトグラフィ
によって分離することができる。しかし記憶層に用いる
ためには、通常は異性体混合物が利用される。

製造方法は自体公知であって、例えばＡｎｇｅｗ。

Ｃｈｅｍ、　７８．９３７　（ｊ　９６６　）　＋又は
古いドイツ特許公開公報ＤＥ−Ａ　３７３３１７３に記
載されている。

本発明は更に、次式 （式中りは場合によりフェニル基で置換された０１〜Ｃ
１□−アルキレン基であり、Ｒ１は０１〜Ｃ２Ｇ−アル
キル基、Ｃ５〜Ｃ１−シクロアルキル基又は場合により
置換されたフェニル基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同
一でも異なってもよく、それぞれ互いに独立して、水素
原子又は場合によりハロゲン原子、Ｃ，〜Ｃｌ２−アル
コキシ基、フェニル基、置換されたフェニル基、Ｃ８〜
Ｃ１２−アルコキシカルボニル基又はシアン基で置換さ
れたＣ１〜Ｃｌ２−アルキル基を意味する）で表わされ
る新規なウレタン基を有するアズレンに関する。

基り、Ｒ’、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５の代表的な実例
については、前記のものがあげられる。

ウレタン基を有する式■のアズレン誘導体は、例えば対
応するヒドロキシアルキルアズレン誘導体から出発する
ときに得られる。この生成物の製造は、例えば古いドイ
ツ特許公開公報ＤＥ−Ａ３７３３１７３に記載されてい
る。

反応には１例えば−殺伐 （式中りは前記の意味を有する）で表わされるアズレン
誘導体が特に適している。

ヒドロキシアルキルアズレン誘導体のための反応関与体
としては、−殺伐 ％式％（） （式中Ｒ１は前記の意味を有する）で表わされるモノイ
ソシアネートが利用される。

ヒドロキシアルキルアズレン誘導体と有機モノイソシア
ネートとの反応は、自体公知の方法により行われる。そ
のために、例えばヒドロキシアルキルアズレンを有機モ
ノイソシアネートと、不活性溶剤（例えば塩化メチレン
、　　１，１．２＝トリクロロエタン、ドルオール、リ
グロイン又はシクロヘキサン）中で２０〜６０℃の温度
で、場合により触媒（例えば第三アミン、テトラアルキ
ルアンモニウムヒドロキシド又は有機錫化合物）の存在
下で反応させる。一般にインシアネートは過剰に用いら
れる。

本発明の別の課題は、簡単な手段で製造することができ
、書込み良好でかつ読出しも良好であり（その際ＳＮ比
はできるだけ高くあるべきである）、そして記憶層の安
定性の高い、記憶材料としてアズレン四角酸誘導体を用
いた新規な光学的記録媒体を提供することであった。

本発明は更に、支持体並びに染料及び場合により結合剤
を含有する感光性の薄層状被膜から成り、この染料が第
１請求項に記載の式Ｉの染料であることを特徴とする、
光学的記録媒体である。

Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５がそれぞれＣ，％　Ｃ，−７
ｋキル基を意味する式Ｉのアズレン四角酸染料を含有す
る光学的記録媒体が好ましい。

更にＲ２がＣ０〜Ｃ１，−アルキル基又はシクロアルキ
ル基を意味する式Ｉのアズレン四角酸染料を含有する光
学的記録媒体が好ましい。

特に好ましいものは、Ｒ２及びＲ４がそれぞれメチル基
、Ｒ３及びＲ５がそれぞれ水素原子を意味する。式■の
アズレン四角酸染料を含有する光学的記録媒体である。

更に特に好ましいものは、Ｒ２及びＲ４がそれぞれ水素
原子、Ｒ３がイソプロピル基、Ｒ５がメチル基を意味す
るアズレン四角酸染料を含有する光学的記録媒体である
。

支持体としては、好ましくは透明な支持体例えばガラス
又は合成樹脂が用いられる。好適な合成樹脂は、例えば
ポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、ポリエ
ステル、エポキシド、ポリオレフィン（例えばポリメチ
ルペンテン）、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリスチ
ロール又はポリビニルエステルである。

好ましい記録媒体は、ポリカーボネート又はポリ（メタ
）アクリレート、特にポリカーボネートからの支持体を
有する。

更に、染料に対して１〜３０重量％の結合剤を含有する
光学的記録媒体が好ましい。

式■の新規なアズレン四角酸染料は良好な光学的特性を
示す。更に新規化合物の場合は、純粋な染料層が非常に
安定である。即ち、これまで純粋な染料層の再結晶化は
認められておらず、従って高分子結合剤の添加を省略す
ることもできる。更に耐光性（安定性）も公知のメチン
染料よりも明らかに高いので、層形成用の配合物に安定
剤の添加を最低限に抑制することができる。新規な染料
■がほとんど全ての有機溶剤に良く溶解することも特に
有利であり、従ってこの染料を直接に（保護層なしに）
、構造用合成樹脂基板特にポリカーボネート基板上に遠
心塗布することができる。

前記の様に、記録媒体の良好な長期安定性を保証し、そ
して特に遠心塗布すべき溶液の粘度を最適にすることが
できるように、遠心塗布すべき溶液は好ましくは結合剤
を含有する。この場合この溶液は好ましくは、遠心塗布
溶液中に溶解した染料の量に対して１〜３０重量％の結
合剤を含む。結合剤としては、例えば次のものが挙げら
れる。ポリオルガノシロキサン、エポキシド、ポリ（メ
タ）アクリレート、スチレンの単重合体及び共重合体、
ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピロリドン、イミ
ダゾール共重合体、ビニルエステル共重合体、ビニルエ
ーテル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、アクリロニ
）　ＩＪル共重合体、ポリ塩化ビニル及びその共重合体
、セルロースアセテート又はニトロセルロース。

好ましい記録媒体は、ビニルピロリドン−ビニルアセテ
ート共重合体又はポリ塩化ビニル−ビニルエーテル共重
合体を基礎とする結合剤を含有する。

本発明の光学的記録媒体は好ましくは、有機溶剤、アズ
レン四角酸染料■及び場合により結合剤を含有する溶液
を遠心塗布することによって製造される。この場合好ま
しくは遠心塗布溶液は、溶液に対し１〜３０重量％の染
料を含有する。

好適な溶剤は、例えばプロパツール、イングロパノール
、ブタノール、ジアセトンアルコール、メチルエチルケ
トン、ドルオール、フロモホルム、Ｌ１，２−）リクロ
ロエタン又はこれらの混合物である。

場合によりこの溶液は、遠心塗布溶液中の溶解した染料
の含有量に対して１０重量％までの添加物例えば酸化防
止剤、−重項酸素吸収剤又は紫外線吸収剤を含有してい
てもよい。

遠心塗布溶液は、２種以上の酸化防止剤、−重項酸素吸
収剤及び紫外線吸収剤の混合物を、遠心塗布溶液中に溶
解した染料の量に対して５重量％まで含有することが好
ましい。近赤外領域で吸光性である酸化防止剤、例えば
ＤＥ−Ａ　３５０５７５０、ＤＥ−Ａ３５０５７５１又
はＫｉｍ　。

Ｍａｔｓｕｏｋａ、　Ｙｏｍｏｔｏ、　Ｔｓｕｃｈｉｙ
ａ及びＫｉｔａｏ著Ｄｙｅｓ　ａｎｄ　Ｐｉｇｍｅｎｔ
Ｓ＋　８１３８１〜３８８（１９８７）に記載されてい
るニッケルジチオール錯化合物等を使用する場合には、
好ましくは塗布液体中の溶解染料の含有量に対して１０
重量％まで含有することができる。

この場合、遠心塗布とは、好ましくは円形を有する回転
状態にある支持体上に溶液を塗布することである。しか
し溶液をまず静止状態の支持体上に施した後に支持体を
回転することも可能である。支持体上への溶液の供給は
、噴霧器又は毛細管により、又は機械的なポンプを用い
て有利に行うことができる。

支持体の回転は、一般に５０〜７０００　ｆｉｌｌ好ま
しくは５００〜５０００　ｒ％の速度で行われ、この場
合溶液の遠心は比較的低回転数（約５００〜２０００ｒ
ｐｌ）で行い、続いて比較的高回転数（約５０００〜７
０００ｒｐ■）で遠心乾燥を行う。レーザー光に感光性
の層の厚さは、４０〜１６０ｎｍ好ましくは８０〜１２
０　ｎｍの範囲内にある。層の厚さは回転数、遠心塗布
溶液の濃度と粘度並びに温度に依存する。

本発明による光学的記録媒体の場合、レーザー光に感光
性の層は光学的品質の高い、均質な薄い平滑な層の形で
存在する。従って反射率の値は一般に１２％より大きい
範囲にある。

新規な記録媒体は更に、使用するレーザー光源の波長に
対して充分に感光性であり、即ち１μｍ以下の焦点直径
で焦点を結ぶ数ｎＪエネルギー含量のパルス光線を入射
する場合に細孔を形成し、優れたＳＮ比が得られる。

レーザー光源としては、構成素子の大きさが小さく、エ
ネルギー要求量が少なく、作動電流を変調することによ
り光学的出力を直接変調することができるために、近赤
外線を放出する固体インジエクションレーｆ−１％に７
ｏｏ〜９００　ｎｍの波長領域内で作動するＡｌＧａＡ
ｓレーザーが特に適している。

実施例１ Ｎ　−（ｎ−ブチル）−〇−プロピルー３−〔７−イソ
プロビル−１−メチルアズレン−４−イル〕−ウレタン
（化合物／１６２）の製造：メチレンクロライド１００
ｍ１中の７−イソプロビル−１−メチル−４−（５−ヒ
ドロキシプロピル）アズレン９．６．９　（０，０４モ
ル）の溶液に、ｎ−ブチルイソシアネート１５０．９（
０，１５モル）を室温で滴下し、次いでこの反応溶液を
還流下に５時間加熱した。次いで溶剤を留去し、残留物
をシリカゲルクロマトグラフィ（メチレンクロライド／
アセトン）により処理した。

前記のウレタンが青色の高粘性清秋物（化合物扁２）と
して７．　ＯＦ　（５１％）得られた。

物理的データ： ＩＲ（ＫＢｒ）　：　　Ｉ／＝４３３６（ｂｒｏａｄ、
ＮＨ）、２９５８．２９６１．２８７１．１６９９ｓ（
Ｃ＝Ｏ）、１５２７．１４６５．１６８７．１２５１．
１１４２．１０６１．１０３０．７８４ｃｒｎ−”； ’　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ、）　：δ＝０，９０ｔ（３
Ｈ）、１．２５〜１．５５ｍ、　１．３８ｄ（６Ｈ）、
２．１７ｑ（２Ｈ）、２．６６　ｓ　（３Ｈ）、３．０
８ｑ（ＩＨ）、３．１７ｍ、　４．５　ｔ（２Ｈ）、４
ｏ４６ｂｒｏａｄ　（ＮＨ）、６．９８ｄ（ＩＨ）、７
．２８ｄ（ＩＨ）、７．３９ｄ（ＩＨ）、７．６１ｄ（
ＩＨ）、８．１８ｓ（ＩＨ）；Ｉ３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣ
１，）　：　δ＝１２．８６．１３．６９．２０．００
゜２４．７５（２Ｃ）、３０．７９．３２．３４．３４
．６５．３８４４．４１．０４．６４．７１．１１２．
４０．１２４．５１．１２５．４４．１３３．２６．１
！１５．１５．１３６．４８．１３６．５９．１３７．
４１．１４０．０２．１４７、９２．１５６．８２； ＭＳ：ｍ／ｅ＝５４１（１００％）、Ｍｅ　＞、３２６
．６１２．２９８．２５８．２４０．２２４（４５％）
、２０９．１９Ｂ（６０％）、１８１ 実施例１と同様にして、第１表に示すアズレン誘導体を
製造した。その構造はＩＲ−’Ｈ−ＮＭＲ−１１３ＣＮ
ＭＲ−及びＭＳ−スペクトルにより確認された。

ＣＨ３ ：１３４０　　　！６９６ Ｃ）１３ コ４１ ３３４０．１６９７ ＣＨ３ ３：１４０．１６９６ ＣＨ３ ３３４０，１６９５ ＣＨ３ ３３４０，１６９６ ココ４０　　１Ｂ９７ ＣＨコ コ９５ ３３４０、　１６９６ Ｃ）＋３ ｉｃＨ２１２０ｃｌｏｌＮＨ−ｎＣ４ＨｇＣＨコ ＣＨコ 実施例２ ビス（０−プロピル−３−Ｃ７−イソプロビル−１−メ
チル〜アズレン−４−イル）−Ｎ−（ｎ−ブチル）−ウ
レタン−四角酸染料（化合物／１６２７）の製造： Ｎ　−（ｎ−ブチル）−０−プロピル−３−〔７−イツ
ブロビルー１−メチルアズレン−４−イルツーウレタン
（実施例１）６．８ｇ（０，００２モル）及び四角酸２
．３．９　（０，０２モル）を、トルエン／ｎ−ブタ／
−＃（１：　１　）　１６０ｍｌ中で５時間還流加熱し
た。溶剤を減圧下に留去したのちに残留した緑色清秋物
を、シリカゲル上でクロマトグラフィにより処理した（
メチレンクロライド／アセトン）。金属光沢を有する結
晶が２．３ｇ（３０％）得られた。

物理的データ： 融点＝１５５〜１５６°Ｃ ＵＶ　（ＣＨ２Ｃｌ１　）　：　　λｍａｘ＝７７０ｎ
ｍ（ε＝１１２２５０）；ＩＲ（ＫＢｒ）：　　ν＝３
３２５　（ＮＨ）、２９５８．２９２８．２８６２．１
６９１．１６０９．１５９２．１５４３．１４３２．１
３８７．１３２６ｓ、１２４Ｂ、１２１７．１０２４．
９１６．７６５．５３７　ｃｍ−’　；’Ｈ−ＮＭＲ（
ＣＤＣｌ５）　：　　δ＝０．８４　ｔ　（６Ｈ）、１
．１６〜１．４５ｍ（８Ｈ）、１．４８　ｄ（１２’Ｈ
）、１．９１ｑ（４Ｈ）、２．５５ｓ（６Ｈ）、２．９
８ｑ（４Ｈ）、３．１１　ｑ（２Ｈ）、５．８８ｍ（４
Ｈ）、５．９８ｍ（４Ｈ）、４．７４　ｂｒｏａｄ（２
ＮＨ）、７．４５ｄ（２Ｈ）、７．５８ｄ（２Ｈ）、８
．０９ｓ（２Ｈ）、８．８２　ｓ　（２Ｈ）　；”Ｃ−
ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、）：δ＝１２．９６　（２Ｃ）、１
３．６６　（２Ｃ）、１９．９５（２Ｃ）、２４．２４
（４Ｃ）、′３１．０２　（２Ｃ）、３２．１６（２Ｃ
）、３６．３０（２Ｃ）、５８．４０（２Ｃ）、４０．
９　１　　（２Ｃ）、　６３．９７（２Ｃ）、　　１２
１．６６（２Ｃ）、１３０．８２　（２Ｃ）、１３　Ｂ
、９８　（２Ｃ’）、１３４．５５（２Ｃ’）、１３８
．２４（２Ｃ）、１３９．８５（２Ｃ）、１４１．８３
（２Ｃ）、１４７．５０（２Ｃ）、１５０．２７（２Ｃ
’）、１５６．０１　（２Ｃ）、１５６．７２（２Ｃ）
、１７９．５３．１８２．７５．１８３．２４（２Ｃ）
；ＭＳ　：　ｍ／　ｅ　＝　７６２．．７６０（４０％
）実施例２と同様にして、第２表に示す四角酸染料を製
造し、更にＩＲ−’Ｈ−ＮＭＲ−”Ｃ−ＮＭＲ−及びＭ
Ｓ−スペクトルにより特性決定した。

ＣＨＣＨ２０ＣＩＯＩＮＨ−Ｃ＠Ｈｓ ｌ Ｈ３ ＣＨＣＨ２０ＣＩＯＩＮＨ−ｎＣ４％ ＣＨコ ＣＨＣＨ２０ＣＩＯＩＮＨ−ｔｃ、Ｈ９ＣＨコ ＣＨＣＨ２ＱＣＩＯＩＮＨ−ｉＣ３Ｈ７Ｈ３ １、）ｌｃＨ２０ｃ暉→ ＣＨコ ＣＨＣＨ２０ＣＩＯＩＮＨ−ｎｃ１ａＨ３７Ｈ３ ＣＨＩＣＨ３１２ ＣＨＩＣＨ３１２ ＣＨＩＣＨ，ｌ２ ＣＨＩＣＨコ）２ ＣＨＩＣＨ３１２ ＣＨＩＣＨ３１２ ＣＨＩＣＨコ）２ Ｃ引ＣＭコ）２ ＣＨＩＣ８３１２ １ｃＨ２１２０ｃｉ０１ＮＨ−Ｃ４Ｈ。

Ｈ３ Ｃ）ＩＩｃ）＋３１２ ＣＨＩＣＨｓ１２ ＣＨＩＣＨ３ｈ １１１５−１６７倉 ０４−１７５倉 ＋６８−１６９愈 １！ｌ７−１９８倉 ９３−　７４會 ２０９食 ２０１−２０２食 ９Ｇ−１１５倉 ｓｏ−ａｓ會 Ｅ４−】會 １０２食 実施例６ トルエン中の染料２７０５重量％溶液を、噴霧器を用い
て約２０００ｒｌｌ■で回転しているポリメチルメタク
リレート製円板上に塗布し、次いで残りの溶剤なｓ　ｏ
　ｏ　ｏ　ｒｐｍで遠心除去した。半導体レーザー（λ
＝　８５０　ｎｍ　）により極めて良好に書き込むこと
のできる均質な高反射性の染料層が得られた。この情報
は良好なコントラストで再び読出すことができる。

実施例４ 染料２７の６重量％溶液（これは溶液に溶解した染料の
含有量に対して６０重量％のポリメチルメタクリレート
を含有する）を、実施例３と同様にして、溝付きポリカ
ーボネート製円板上に遠心塗布した。均質な高反射性の
染料層が得られ、この層は基板上に良好に密着しており
、基板の溝を良好に描写しており、そして半導体レーザ
ー（λ＝８３０ｎｍ）により極めて良好に書き込むこと
ができた。書き込まれた情報は気候に安定であり、良好
なコントラストで任意に繰返し読出すことができる。

実施例５ プロパツール／ジアセトンアルコール（１：１）中の染
料２７０２重量％溶液（これは溶液に溶解した染料の含
有量に対して１ｏ重量％の結合剤としてのフェノール樹
脂及び５重量％の安定剤としての４−オクチル−４′−
フルオロ−ジフェニルジチオールニッケルを含有する）
を、実施例６と同様にして、溝付きポリカーボネート製
円板上に遠心塗布した。得られた記憶層は、実施例３か
らのものとすべての点で比較しうるものであったが、Ｕ
Ｖ光線に対するより高い安定性を有していた。

実施例６ トルエン中の染料４８の２重量％溶液（これは溶液に溶
解した染料の含有量に対して１０重量％のポリメチルメ
タクリレート及び５重量％のビスカンフアラートジチオ
ールニッケルを含有する）を、実施例３と同様にしてガ
ラス板上に遠心塗布した。得られた染料層は均質で、高
い基礎反射性を示した。この層は半導体レーザー（λ＝
７８０ｎｍ）により良好に書き込むことができる。書き
込まれた情報は、普通の試験条件下で安定であり、任意
に繰返し読出すことができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中Ｌは場合によりフェニル基で置換されたＣ＿１〜
   Ｃ＿１＿２−アルキレン基、Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿２＿
   ０−アルキル基、Ｃ＿５〜Ｃ＿７−シクロアルキル基又
   は場合により置換されたフェニル基、Ｒ＾２、Ｒ＾３、
   Ｒ＾４及びＲ＾５は同一でも異なつてもよく互いに独立
   して、それぞれ水素原子又は場合によりハロゲン原子、
   Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２−アルコキシ基、フェニル基、置換
   されたフェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２−アルコキシカ
   ルボニル基もしくはシアノ基で置換されたＣ＿１〜Ｃ＿
   １＿２−アルキル基を意味し、ただしＲ＾５が水素原子
   を意味するときは、一方又は両方のアズレン環において
   、置換基ＣＨ＿２−Ｌ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨＲ＾１及びＲ＾
   ４の環位置がアズレン環内で互いに交換されていてもよ
   い）で表わされるウレタン基を有するアズレン四角酸染
   料。 ２、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４及びＲ＾５がそれぞれＣ＿
   １〜Ｃ＿６−アルキル基を意味することを特徴とする、
   第１請求項に記載のアズレン四角酸染料。 ３、Ｒ＾２及びＲ＾４がそれぞれメチル基、そしてＲ＾
   ３及びＲ＾５がそれぞれ水素原子を意味することを特徴
   とする、第１請求項に記載のアズレン四角酸染料。 ４、Ｒ＾２及びＲ＾４がそれぞれ水素原子、Ｒ＾３がイ
   ソプロピル基、そしてＲ＾５がメチル基を意味すること
   を特徴とする、第１請求項に記載のアズレン四角酸染料
   。 ５、支持体並びに染料及び場合により結合剤を含有する
   感光性の薄層状被膜から成り、この染料が第１請求項に
   記載の式 I の染料であることを特徴とする、光学的記
   録媒体。 ６、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４及びＲ＾５がそれぞれＣ＿
   １〜Ｃ＿６−アルキル基を意味することを特徴とする、
   第５請求項に記載の光学的記録媒体。 ７、Ｒ＾２及びＲ＾４がそれぞれメチル基、そしてＲ＾
   ３及びＲ＾５がそれぞれ水素原子を意味することを特徴
   とする、第５請求項に記載の光学的記録媒体。 ８、Ｒ＾２及びＲ＾４がそれぞれ水素原子、Ｒ＾３がイ
   ソプロピル基、そしてＲ＾５がメチル基を意味すること
   を特徴とする、第５請求項に記載の光学的記録媒体。 ９、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中Ｌは場合によりフェニル基で置換されたＣ＿１〜
   Ｃ＿１＿２−アルキレン基、Ｒ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿２＿
   ０−アルキル基、Ｃ＿５〜Ｃ＿７−シクロアルキル基又
   は場合により置換されたフェニル基、Ｒ＾２、Ｒ＾３、
   Ｒ＾４及びＲ＾５は同一でも異なつてもよく互いに独立
   して、それぞれ水素原子又は場合によりハロゲン原子、
   Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２−アルコキシ基、フェニル基、置換
   されたフェニル基、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２を−アルコキシ
   カルボニル基もしくはシアノ基で置換されたＣ＿１〜Ｃ
   ＿１＿２−アルキル基を意味する）で表わされるウレタ
   ン基含有アズレン。