JPH0690144B2 - 画像処理方法 - Google Patents
画像処理方法Info
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- JPH0690144B2 JPH0690144B2 JP690489A JP690489A JPH0690144B2 JP H0690144 B2 JPH0690144 B2 JP H0690144B2 JP 690489 A JP690489 A JP 690489A JP 690489 A JP690489 A JP 690489A JP H0690144 B2 JPH0690144 B2 JP H0690144B2
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
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- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Closed-Circuit Television Systems (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はTVカメラで撮像した被検査物の画像を画像メモ
リに蓄え、この画像から被検査物に存在する欠け、汚
れ、異物などの欠陥を認識する画像処理方法に関するも
のである。
リに蓄え、この画像から被検査物に存在する欠け、汚
れ、異物などの欠陥を認識する画像処理方法に関するも
のである。
［従来の技術］ 従来被検査物の欠陥を画像を用いて認識する画像処理方
法としては特開昭62−88946号のように被検査物に照明
系で光照射を行って、この照射された光の反射光から被
検査物の画像を得、被検査物の反射特性が一様でないこ
とを利用して被検査物の欠陥を識別する画像処理方法が
あった。
法としては特開昭62−88946号のように被検査物に照明
系で光照射を行って、この照射された光の反射光から被
検査物の画像を得、被検査物の反射特性が一様でないこ
とを利用して被検査物の欠陥を識別する画像処理方法が
あった。
［発明の解決しようとする課題］ しかしながら従来方法は固定又は浮動の閾値で画像を２
値化した後、２値化画像として欠陥を認識する方法であ
ったため、著しい反射によって生じるハイライト部位の
みを２値化してハイライト部位における欠陥を識別する
ことは非常に困難であった。
値化した後、２値化画像として欠陥を認識する方法であ
ったため、著しい反射によって生じるハイライト部位の
みを２値化してハイライト部位における欠陥を識別する
ことは非常に困難であった。
本発明は上述のような点に鑑みて試されたもので、請求
項１記載の発明はハイライト部位の欠陥を認識するため
のハイライト部位の基準線を抽出する画像処理方法を提
供することを目的とし、請求項２〜請求項４記載の発明
は上記基準線によって欠陥を精度良く検出することがで
きる画像処理方法を提供することを目的とする。
項１記載の発明はハイライト部位の欠陥を認識するため
のハイライト部位の基準線を抽出する画像処理方法を提
供することを目的とし、請求項２〜請求項４記載の発明
は上記基準線によって欠陥を精度良く検出することがで
きる画像処理方法を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 請求項１記載の発明は被検査物をTVカメラで撮像して得
られた濃淡画像からなる原画像を画像メモリに記憶さ
せ、原画像のハイライト部位の始点と終点とを結ぶ線上
の画像を中心として直交し、中心点から両方向に一定画
素分のエリアを持つマスクをハイライト部位の始点から
終点まで一画素ずつ走査させ、その走査毎にマスク内の
画素中、濃度が最大である画素の画像メモリ上のアドレ
スをバッファに記憶させ、走査終了時に上記バッファに
記憶させたアドレスを読み出して直線近似を行ない、得
られた直線をハイライト部位の基準線とするものであ
る。
られた濃淡画像からなる原画像を画像メモリに記憶さ
せ、原画像のハイライト部位の始点と終点とを結ぶ線上
の画像を中心として直交し、中心点から両方向に一定画
素分のエリアを持つマスクをハイライト部位の始点から
終点まで一画素ずつ走査させ、その走査毎にマスク内の
画素中、濃度が最大である画素の画像メモリ上のアドレ
スをバッファに記憶させ、走査終了時に上記バッファに
記憶させたアドレスを読み出して直線近似を行ない、得
られた直線をハイライト部位の基準線とするものであ
る。
また請求項２記載の発明は被検査物をTVカメラで撮像し
て得られた濃淡画像からなる原画像を画像メモリに記憶
させ、原画像のハイライト部位の始点を終点とを結ぶ線
上の画像を中心として直交し、中心点から両方に一定の
エリアを持つマスクをハイライト部位の始点から終点ま
で一画素ずつ走査させ、その走査毎にマスク内に位置す
る画素中濃度が最大である画素の画像メモリ上のアドレ
スをバッファに記憶させ、走査終了時にバッファに記憶
させたアドレスを読み出して直線近似を行ない、得られ
た直線をハイライト部位の基準線とし、該基準線上の全
画素について一定画素離れた２点の画像についての濃度
を画像メモリより読み出して両画素の濃度差の絶対値が
予め設定した第１の閾値より大きい場合に欠陥候補点と
判定し、この欠陥候補点より一定画素数分マスクの走査
方向に対して遅れた点の画素からマスクの走査方向に一
定個数離れた画素までの各画素に、上記欠陥候補点より
ある一定画素数分のマスクの走査方向に対して進んだ点
の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた画素まで
の各画素を対応させて対応する画素同士の濃度差の絶対
値と予め定めた第２の閾値とを比較して全て若しくは一
定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも大きいときに
欠陥候補点を欠陥を判定するものである。
て得られた濃淡画像からなる原画像を画像メモリに記憶
させ、原画像のハイライト部位の始点を終点とを結ぶ線
上の画像を中心として直交し、中心点から両方に一定の
エリアを持つマスクをハイライト部位の始点から終点ま
で一画素ずつ走査させ、その走査毎にマスク内に位置す
る画素中濃度が最大である画素の画像メモリ上のアドレ
スをバッファに記憶させ、走査終了時にバッファに記憶
させたアドレスを読み出して直線近似を行ない、得られ
た直線をハイライト部位の基準線とし、該基準線上の全
画素について一定画素離れた２点の画像についての濃度
を画像メモリより読み出して両画素の濃度差の絶対値が
予め設定した第１の閾値より大きい場合に欠陥候補点と
判定し、この欠陥候補点より一定画素数分マスクの走査
方向に対して遅れた点の画素からマスクの走査方向に一
定個数離れた画素までの各画素に、上記欠陥候補点より
ある一定画素数分のマスクの走査方向に対して進んだ点
の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた画素まで
の各画素を対応させて対応する画素同士の濃度差の絶対
値と予め定めた第２の閾値とを比較して全て若しくは一
定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも大きいときに
欠陥候補点を欠陥を判定するものである。
請求項３記載の発明は基準線上の全画素について、各画
素よりある一定画素数分マスクの走査方向に対して進ん
だ点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた画素
までの各画素を対応させて対応する画素同士の濃度差の
絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較して全て若しく
は一定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも大きいと
きに当該点を欠陥を判定するものである。
素よりある一定画素数分マスクの走査方向に対して進ん
だ点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた画素
までの各画素を対応させて対応する画素同士の濃度差の
絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較して全て若しく
は一定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも大きいと
きに当該点を欠陥を判定するものである。
請求項４記載の発明は請求項２又は３記載の発明に於い
て、マスク内に位置する画素中濃度が最大である画素の
画像メモリ上のアドレスをバッファに記憶される際時に
別のバッファに当該画素の濃度データを画像メモリより
読み出して記憶させ、走査終了後に別のバッファに記憶
した濃度データから最も頻度の高い濃度を基準濃度値と
し、この基準濃度値と、上記基準線上の全ての点の画素
の濃度とを各画素毎に比較して画素の濃度が基準濃度値
より大きいときに当該画素の濃度を基準濃度値に補正す
るものである。
て、マスク内に位置する画素中濃度が最大である画素の
画像メモリ上のアドレスをバッファに記憶される際時に
別のバッファに当該画素の濃度データを画像メモリより
読み出して記憶させ、走査終了後に別のバッファに記憶
した濃度データから最も頻度の高い濃度を基準濃度値と
し、この基準濃度値と、上記基準線上の全ての点の画素
の濃度とを各画素毎に比較して画素の濃度が基準濃度値
より大きいときに当該画素の濃度を基準濃度値に補正す
るものである。
［作用］ しかして本発明の画像処理方法では被検査物のハイライ
ト部位の欠陥を判定する基準線を求めることができ、こ
の基準線たる直線より欠陥を精度よく抽出判定でき、被
検査物の良否の判定が確実となる。特に請求項３記載の
発明では処理過程が少なくて判定時間を短くすることが
でき、また請求項４記載の発明ではハイライト部位の高
い濃度の部分のばらつきを少なくすることができる。
ト部位の欠陥を判定する基準線を求めることができ、こ
の基準線たる直線より欠陥を精度よく抽出判定でき、被
検査物の良否の判定が確実となる。特に請求項３記載の
発明では処理過程が少なくて判定時間を短くすることが
でき、また請求項４記載の発明ではハイライト部位の高
い濃度の部分のばらつきを少なくすることができる。
［実施例］ 以下本発明の画像処理方法を実施例によって説明する。
第１図は実施例を用いた画像処理装置の概略構成図を示
す。
す。
この装置ではTVカメラ１で撮像して得た被検査物の濃淡
画像の信号をA/D変換器２によってデジタル信号に変換
し、このデジタル信号を画像メモリ３に原画像データと
して記憶させる。この原画像データはバス４を通じてプ
ロセッサやコンピュータからなる演算処理部５によって
読み出しができるようになっている。
画像の信号をA/D変換器２によってデジタル信号に変換
し、このデジタル信号を画像メモリ３に原画像データと
して記憶させる。この原画像データはバス４を通じてプ
ロセッサやコンピュータからなる演算処理部５によって
読み出しができるようになっている。
ここで画像メモリ３に書き込まれた第２図の原画像ｆは
Ｘ−Ｙ座標系でマッピングされているものとし、画像上
の任意の点Ｐ（x,y）の濃度ａは次の関数で与えられる
ものとする。
Ｘ−Ｙ座標系でマッピングされているものとし、画像上
の任意の点Ｐ（x,y）の濃度ａは次の関数で与えられる
ものとする。
ａ＝ｆ（x,y） 而して今第３図に示すように光源９によって照射された
被検査物７を斜め方向からTVカメラ１で撮像すると、そ
の画像、つまり原画像ｆは第４図に示す如く得られる。
ここで被検査物７の端縁に丸味があったり、照明条件で
は正反射して反射量が多くなり、図示するＡ点とＢ点と
を結ぶ端縁のようにハイライト部位Ｈを生じることがあ
る。
被検査物７を斜め方向からTVカメラ１で撮像すると、そ
の画像、つまり原画像ｆは第４図に示す如く得られる。
ここで被検査物７の端縁に丸味があったり、照明条件で
は正反射して反射量が多くなり、図示するＡ点とＢ点と
を結ぶ端縁のようにハイライト部位Ｈを生じることがあ
る。
本発明画像処理方法はこのハイライト部位Ｈの欠陥を検
出するための方法であって、通常ハイライト部位Ｈは一
様な明るさを持っているが、欠け、欠陥が発生すると、
ハイライト部位Ｈが途切れたり、暗くなったりすること
に着目して、明るさの途切れや暗部を抽出するのであ
る。
出するための方法であって、通常ハイライト部位Ｈは一
様な明るさを持っているが、欠け、欠陥が発生すると、
ハイライト部位Ｈが途切れたり、暗くなったりすること
に着目して、明るさの途切れや暗部を抽出するのであ
る。
まず演算処理部５では画像メモリ３に記憶した原画像デ
ータからハイライト部位Ｈの両端点A,Bを適宜方法で求
めるとともに、第５図に示しマスク６を設定する。この
マスク６は着目点6aの画素を中心として上下方向にｌ画
素ずつとった（2l＋１）画素からなり、以下スティック
マスクと称する。
ータからハイライト部位Ｈの両端点A,Bを適宜方法で求
めるとともに、第５図に示しマスク６を設定する。この
マスク６は着目点6aの画素を中心として上下方向にｌ画
素ずつとった（2l＋１）画素からなり、以下スティック
マスクと称する。
さて計算で求めた点A,点Ｂの座標（アドレス）を夫々
（xA,yA），（xB,yB）とするとともに例えば点Ａを始点
とし、点Ｂを終点とし、スティックマスク６を第６図で
示すように矢印方向に一画素ずつハイライト部位Ｈの方
向に対して直交する方向で且つ着目点の画素が点Ａと点
Ｂとを結ぶ線上の画素に対応するように進める。このと
きスティックマスク６内の（2l＋１）個の画素について
の濃度データを読み出し、最も大きな画素のアドレスを
演算処理部５内のバッファ8aにストアする。この操作を
終点の点Ｂに至るまで続ける。
（xA,yA），（xB,yB）とするとともに例えば点Ａを始点
とし、点Ｂを終点とし、スティックマスク６を第６図で
示すように矢印方向に一画素ずつハイライト部位Ｈの方
向に対して直交する方向で且つ着目点の画素が点Ａと点
Ｂとを結ぶ線上の画素に対応するように進める。このと
きスティックマスク６内の（2l＋１）個の画素について
の濃度データを読み出し、最も大きな画素のアドレスを
演算処理部５内のバッファ8aにストアする。この操作を
終点の点Ｂに至るまで続ける。
このスティックマスク６の操作終了後において演算処理
部５はバッファ8aにストアした各アドレスを読み出して
最小二乗法など適宜な手法によって直線近似を行い、直
線Ｌを求める。求められた直線をナイライト部位Ｈの基
準線Ｌとするのである。
部５はバッファ8aにストアした各アドレスを読み出して
最小二乗法など適宜な手法によって直線近似を行い、直
線Ｌを求める。求められた直線をナイライト部位Ｈの基
準線Ｌとするのである。
ここで基準線Ｌを求めるのはハイライト部位Ｈは第４図
に示すように幅を持ち、この幅が１画素とは限らないた
め、この幅の内最も明るい点を求めて精度を高めること
と、始点Ａと、終点Ｂとを結ぶ線上の画素が必ずしもハ
イライト部位Ｈと一致しないなどの理由からである。
に示すように幅を持ち、この幅が１画素とは限らないた
め、この幅の内最も明るい点を求めて精度を高めること
と、始点Ａと、終点Ｂとを結ぶ線上の画素が必ずしもハ
イライト部位Ｈと一致しないなどの理由からである。
このようにして基準線Ｌを求めると次の欠陥の認識処理
に移るのである。
に移るのである。
一実施例ではまず基準線Ｌ上の任意の点Ｐ（xp,yp）に
おいて、この点Ｐと第７図に示すこの点よりｎ画素だけ
進んだ点Ｑ（xp+n,yp+n）の濃度データを原画像ｆより
読み出す。この読み出した濃度は夫々ｆ（xp,yp）,f（x
p+n,yp+n）で表される。
おいて、この点Ｐと第７図に示すこの点よりｎ画素だけ
進んだ点Ｑ（xp+n,yp+n）の濃度データを原画像ｆより
読み出す。この読み出した濃度は夫々ｆ（xp,yp）,f（x
p+n,yp+n）で表される。
この時濃度差の第１の閾値SL1との間で |f（xp,yp）−ｆ（xp+n,yp+n）｜＞SL1…が成り立て
ば点Ｐを欠陥の候補点として、成り立たなければ走査を
続ける。
ば点Ｐを欠陥の候補点として、成り立たなければ走査を
続ける。
今式が成り立ち、点Ｐが欠陥の候補点であったとする
と、この時第８図に示すように点Ｐよりｍ画素遅れた点
をR1とし、以下走査方向に隣接する画素を点R2,R3,…Rk
とｋ個の点を設定する。同様に点Ｐより１画素進んだ点
をS1とし、以下走査方向に点S2,S3,…Skを設定する。
と、この時第８図に示すように点Ｐよりｍ画素遅れた点
をR1とし、以下走査方向に隣接する画素を点R2,R3,…Rk
とｋ個の点を設定する。同様に点Ｐより１画素進んだ点
をS1とし、以下走査方向に点S2,S3,…Skを設定する。
ここで点Rk,点Skのアドレスは夫々Rk（xp-m+k-1,yp-m+k
-1）,Sk（xp+l+k-1,yp+l+k-1）で表される。
-1）,Sk（xp+l+k-1,yp+l+k-1）で表される。
これらの点R1〜Rk,点S1〜Skの画素の濃度を第２の濃度
差の閾値SL2について |f（xp-m,yp-m）−ｆ（xp+l,yp+l）｜＞SL2で且つ |f（xp-m+1,yp-m+1）−ｆ（xp+l+1,yp+l+1）｜＞SL2で
且つ |f（xp-m+k-1,yp-m+k-1）−ｆ（xp+l+k-1,yp+l+k+1）｜
＞SL2 … が成立するとき、点Ｐを中心に欠陥が存在していると演
算処理部が判定する。この場合式の内ある個数以上成
立すれば欠陥であると判定しても良い。
差の閾値SL2について |f（xp-m,yp-m）−ｆ（xp+l,yp+l）｜＞SL2で且つ |f（xp-m+1,yp-m+1）−ｆ（xp+l+1,yp+l+1）｜＞SL2で
且つ |f（xp-m+k-1,yp-m+k-1）−ｆ（xp+l+k-1,yp+l+k+1）｜
＞SL2 … が成立するとき、点Ｐを中心に欠陥が存在していると演
算処理部が判定する。この場合式の内ある個数以上成
立すれば欠陥であると判定しても良い。
また走査を完了した時点で式を満足する点が存在しな
かった場合にはその被検査物が良品であると判定する。
かった場合にはその被検査物が良品であると判定する。
尚パラメータm,1及びｋハイライト部位Ｈの線上に発生
する欠け、異物等による欠陥の大きさにより、また閾値
SL1,SL2は欠陥のコントラストにより適切な値に設定す
る。
する欠け、異物等による欠陥の大きさにより、また閾値
SL1,SL2は欠陥のコントラストにより適切な値に設定す
る。
ところで上述の実施例では欠陥の判定を行う前に欠陥の
候補点を抽出するための走査を閾値S1を用いて行なって
いるが、候補点を求めずに基準線Ｌ上の全ての画素につ
いて点Ｐよりｍ画素遅れた点を点R1とし、以下走査方向
に隣接する画素を点R2,R3,…Rkとｋ個の点を設定すると
ともに同様に点Ｐより１画素進んだ点をS1とし、以下走
査方向に点S2,S3,…Skを設定し、これらの点R1〜Rk,点S
1〜Skの画素濃度を濃度差の閾値SL2と比較し欠陥を検出
するようにしても良い。この実施例では第８図に示すマ
スクを直線Ｌ上の全ての点に操作して濃度の分布を調べ
るため、処理時間を要するが精度は高くなる。
候補点を抽出するための走査を閾値S1を用いて行なって
いるが、候補点を求めずに基準線Ｌ上の全ての画素につ
いて点Ｐよりｍ画素遅れた点を点R1とし、以下走査方向
に隣接する画素を点R2,R3,…Rkとｋ個の点を設定すると
ともに同様に点Ｐより１画素進んだ点をS1とし、以下走
査方向に点S2,S3,…Skを設定し、これらの点R1〜Rk,点S
1〜Skの画素濃度を濃度差の閾値SL2と比較し欠陥を検出
するようにしても良い。この実施例では第８図に示すマ
スクを直線Ｌ上の全ての点に操作して濃度の分布を調べ
るため、処理時間を要するが精度は高くなる。
また上述の実施例ではスティックマスク６を用いてマス
ク内の最も濃度の大きな値を持つ画素のアドレスをバッ
ファ７にストアする操作を行なっているがこの時同時に
その濃度を別のバッファ8bにストアし、基準線となる基
準線Ｌを求める際に同時にバッファ8bにストアした濃度
についてモード値（最も頻度の高い値）を求めてこのモ
ード値をハイライト部位Ｈの基準濃度値ａとし、この基
準濃度値ａを用いて濃度補正を行ない、ハイライト部位
Ｈの中の濃度の高い部分のバラツキを少なくするように
しても良い。
ク内の最も濃度の大きな値を持つ画素のアドレスをバッ
ファ７にストアする操作を行なっているがこの時同時に
その濃度を別のバッファ8bにストアし、基準線となる基
準線Ｌを求める際に同時にバッファ8bにストアした濃度
についてモード値（最も頻度の高い値）を求めてこのモ
ード値をハイライト部位Ｈの基準濃度値ａとし、この基
準濃度値ａを用いて濃度補正を行ない、ハイライト部位
Ｈの中の濃度の高い部分のバラツキを少なくするように
しても良い。
つまり求めた基準線Ｌの任意の点Ｕ（xu,yu）の濃度Zu
＝f1（xu,yu）と基準濃度値ａについて、 f1（xu,yu）＞ａならばZu＝ａ f1（xu,yu）≦ａならばZu＝ｆ（xu,yu） とする。この操作を基準線Ｌ上の全ての点について行な
い、以下基準線Ｌ上の濃度を用いるときはこの変換され
た濃度ｆ（xu,yu）＝Zuを用いる。第９図はこの様子を
示しており、図中イは濃度分布を、ロは欠陥の部位を示
す。
＝f1（xu,yu）と基準濃度値ａについて、 f1（xu,yu）＞ａならばZu＝ａ f1（xu,yu）≦ａならばZu＝ｆ（xu,yu） とする。この操作を基準線Ｌ上の全ての点について行な
い、以下基準線Ｌ上の濃度を用いるときはこの変換され
た濃度ｆ（xu,yu）＝Zuを用いる。第９図はこの様子を
示しており、図中イは濃度分布を、ロは欠陥の部位を示
す。
この基準濃度値ａで濃度補正を行なう実施例の場合も欠
陥の判定処理は上述した各実施例と同様に行なう。
陥の判定処理は上述した各実施例と同様に行なう。
［発明の効果］ 請求項１記載の発明の画像処理方法は被検査物をTVカメ
ラで撮像して得られた濃淡画像からなる原画像を画像メ
モリに記憶させ、原画像のハイライト部位の始点と終点
とを結ぶ線上の画像を中心として直交し、中心点から両
方向に一定画素分のエリアを持つマスクをハイライト部
位の始点から終点まで一画素ずつ走査させ、その走査毎
にマスク内の画素中、濃度が最大である画素の画像メモ
リ上のアドレスをバッファに記憶させ、走査終了時に上
記バッファに記憶させたアドレスを読み出して直線近似
を行ない、得られた直線をハイライト部位の基準線とす
るので、幅を持っている被検査物のハイライト部位の欠
陥を判定するための基準線の設定することができ、また
請求項２記載の発明は基準線上の全全画素について一定
画素離れた２点の画像についての濃度を画像メモリより
読み出して両画素の濃度差の絶対値が予め設定した第１
の閾値より大きい場合に欠陥候補点と判定し、この欠陥
候補点より一定画素数分マスクの走査方向に対して遅れ
た点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた画素
までの各画素に、上記欠陥候補点よりある一定画素数分
のマスクの走査方向に対して進んだ点の画素からマスク
の走査方向に一定個数離れた画素までの各画素を対応さ
せて対応する画素同士の濃度差の絶対値と予め定めた第
２の閾値とを比較して全て若しくは一定数の画素間の濃
度差が第２の閾値よりも大きいときに欠陥候補点を欠陥
を判定するので、基準線基づいてハイライト部位の欠陥
を精度よく抽出判定でき、被検査物の良否の判定が確実
となるという効果がある。
ラで撮像して得られた濃淡画像からなる原画像を画像メ
モリに記憶させ、原画像のハイライト部位の始点と終点
とを結ぶ線上の画像を中心として直交し、中心点から両
方向に一定画素分のエリアを持つマスクをハイライト部
位の始点から終点まで一画素ずつ走査させ、その走査毎
にマスク内の画素中、濃度が最大である画素の画像メモ
リ上のアドレスをバッファに記憶させ、走査終了時に上
記バッファに記憶させたアドレスを読み出して直線近似
を行ない、得られた直線をハイライト部位の基準線とす
るので、幅を持っている被検査物のハイライト部位の欠
陥を判定するための基準線の設定することができ、また
請求項２記載の発明は基準線上の全全画素について一定
画素離れた２点の画像についての濃度を画像メモリより
読み出して両画素の濃度差の絶対値が予め設定した第１
の閾値より大きい場合に欠陥候補点と判定し、この欠陥
候補点より一定画素数分マスクの走査方向に対して遅れ
た点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた画素
までの各画素に、上記欠陥候補点よりある一定画素数分
のマスクの走査方向に対して進んだ点の画素からマスク
の走査方向に一定個数離れた画素までの各画素を対応さ
せて対応する画素同士の濃度差の絶対値と予め定めた第
２の閾値とを比較して全て若しくは一定数の画素間の濃
度差が第２の閾値よりも大きいときに欠陥候補点を欠陥
を判定するので、基準線基づいてハイライト部位の欠陥
を精度よく抽出判定でき、被検査物の良否の判定が確実
となるという効果がある。
また請求項３記載の発明は基準線上の全画素について、
各画素よりある一定画素数分マスクの走査方向に対して
進んだ点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた
画素までの各画素を対応させて対応する画素同士の濃度
差の絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較して全て若
しくは一定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも大き
いときに当該点を欠陥と判定するので、欠陥抽出の精度
が高くなる。
各画素よりある一定画素数分マスクの走査方向に対して
進んだ点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れた
画素までの各画素を対応させて対応する画素同士の濃度
差の絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較して全て若
しくは一定数の画素間の濃度差が第２の閾値よりも大き
いときに当該点を欠陥と判定するので、欠陥抽出の精度
が高くなる。
更に請求項４記載の発明はマスク内に位置する画素中濃
度が最大である画素の画像メモリ上のアドレスをバッフ
ァに記憶される際に別のバッファに当該画素の濃度デー
タを画像メモリより読み出して記憶させ、走査終了後に
別のバッファに記憶した濃度データから最も頻度の高い
濃度を基準濃度値とし、この基準濃度値と、上記基準線
上の全ての点の画素の濃度とを各画素毎に比較して画素
の濃度が基準濃度値より大きいときに当該画素の濃度を
基準濃度値に補正するので、ハイライト部位の高い濃度
の部分のばらつきを少なくすることができ、一層欠陥の
判定を確実なものとすることができるという効果があ
る。
度が最大である画素の画像メモリ上のアドレスをバッフ
ァに記憶される際に別のバッファに当該画素の濃度デー
タを画像メモリより読み出して記憶させ、走査終了後に
別のバッファに記憶した濃度データから最も頻度の高い
濃度を基準濃度値とし、この基準濃度値と、上記基準線
上の全ての点の画素の濃度とを各画素毎に比較して画素
の濃度が基準濃度値より大きいときに当該画素の濃度を
基準濃度値に補正するので、ハイライト部位の高い濃度
の部分のばらつきを少なくすることができ、一層欠陥の
判定を確実なものとすることができるという効果があ
る。
第１図は本発明画像処理方法に用いる画像処理装置の構
成図、第２図は同上装置のTVカメラで撮像された原画像
の画像メモリ上の説明図、第３図は同上装置の撮像系の
配置構成図、第４図同上実原画像の説明例図、第５図は
本発明の一実施例に使用のスティックマスクの構成図、
第６図は同上のスティックマスクの走査説明図、第７図
は同上の欠陥候補の抽出の説明図、第８図は同上の欠陥
の認識の説明図、第９図は本発明の別の実施例に用いる
基準濃度値による濃度補正の説明図である。 １はTVカメラ、３は画像メモリ、５は演算処理部、６は
スティックマスク、７は被検査物、8a,8bはバッファ、
ｆは原画像、Ｈはハイライト部位、Ｌは基準線、ａは基
準濃度値である。
成図、第２図は同上装置のTVカメラで撮像された原画像
の画像メモリ上の説明図、第３図は同上装置の撮像系の
配置構成図、第４図同上実原画像の説明例図、第５図は
本発明の一実施例に使用のスティックマスクの構成図、
第６図は同上のスティックマスクの走査説明図、第７図
は同上の欠陥候補の抽出の説明図、第８図は同上の欠陥
の認識の説明図、第９図は本発明の別の実施例に用いる
基準濃度値による濃度補正の説明図である。 １はTVカメラ、３は画像メモリ、５は演算処理部、６は
スティックマスク、７は被検査物、8a,8bはバッファ、
ｆは原画像、Ｈはハイライト部位、Ｌは基準線、ａは基
準濃度値である。
Claims (4)
- 【請求項１】被検査物をTVカメラで撮像して得られた濃
淡画像からなる原画像を画像メモリに記憶させ、原画像
のハイライト部位の始点と終点とを結ぶ線上の画素を中
心として直交し、中心点から両方向に一定画素分のエリ
アを持つマスクをハイライト部位の始点から終点まで一
画素ずつ走査させ、その走査毎にマスク内の画素中、濃
度が最大である画素の画像メモリ上のアドレスをバッフ
ァに記憶させ、走査終了時に上記バッファに記憶させた
アドレスを読み出して直線近似を行ない、得られた直線
をハイライト部位の基準線とすることを特徴とする画像
処理方法。 - 【請求項２】被検査物をTVカメラで撮像して得られた濃
淡画像からなる原画像を画像メモリに記憶させ、原画像
のハイライト部位の始点と終点とを結ぶ線上の画素を中
心として直交し、中心点から両方向に一定のエリアを持
つマスクをハイライト部位の始点から終点まで一画素ず
つ走査させ、その走査毎にマスク内に位置する画素中濃
度が最大である画素の画像メモリ上のアドレスをバッフ
ァに記憶させ、走査終了時にバッファに記憶させたアド
レスを読み出して直線近似を行ない、得られた直線をハ
イライト部位の基準線とし、該基準線上の全画素につい
て一定画素離れた２点の画像についての濃度を画像メモ
リより読み出して両画素の濃度差の絶対値が予め設定し
た第１の閾値より大きい場合に欠陥候補点と判定し、こ
の欠陥候補点より一定画素数分マスクの走査方向に対し
て遅れた点の画素からマスクの走査方向に一定個数離れ
た画素までの各画素に、上記欠陥候補点よりある一定画
素数分マスクの走査方向に対して進んだ点の画素からマ
スクの走査方向に一定個数離れた画素までの各画素を対
応させて対応する画素同士の濃度差の絶対値と予め定め
た第２の閾値とを比較して全て若しくは一定数の画素間
の濃度差が第２の閾値よりも大きいときに欠陥候補点を
欠陥と判定することを特徴とする画像処理方法。 - 【請求項３】被検査物をTVカメラで撮像して得られた濃
淡画像からなる原画像を画像メモリに記憶させ、原画像
のハイライト部位の始点と終点とを結ぶ線上の画素を中
心として直交し、中心点から両方向に一定画素分のエリ
アを持つマスクをハイライト部位の始点から終点まで一
画素ずつ走査させ、その走査毎にマスク内に位置する画
素中濃度が最大である画素の画像メモリ上のアドレスを
バッファに記憶させ、走査終了時にバッファに記憶させ
たアドレスを読み出して直線近似を行ない、得られた直
線をハイライト部位の基準線とし、該基準線上の全画素
について、各画素よりある一定画素数分マスクの走査方
向に対して進んだ点の画素からマスクの走査方向に一定
個数離れた画素までの各画素を対応させて対応する画素
同士の濃度差の絶対値と予め定めた第２の閾値とを比較
して全て若しくは一定数の画素間の濃度差が第２の閾値
よりも大きいときに当該点を欠陥と判定することを特徴
とする画像処理方法。 - 【請求項４】被検査物をTVカメラで撮像して得られた濃
淡画像からなる原画像を画像メモリに記憶させ、原画像
のハイライト部位の始点と終点とを結ぶ線上の画素 を
中心として直交し、中心点から両方向に一定画素分のエ
リアを持つマスクをハイライト部位の始点から終点まで
一画素ずつ走査させ、その走査毎にマスク内に位置する
画素中濃度が最大である画素の画像メモリ上のアドレス
をバッファに記憶されるときに同時に別のバッファに当
該画素の濃度データを画像メモリより読み出して記憶さ
せ、走査終了後に別のバッファに記憶した濃度データか
ら最も頻度の高い濃度を基準濃度値とし、この基準濃度
値と、上記基準線上の全ての点の画素の濃度とを各画素
毎に比較して画素の濃度が基準濃度値より大きいときに
当該画素の濃度を基準濃度値に補正することを特徴とす
る請求項２又は３記載の画像処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP690489A JPH0690144B2 (ja) | 1989-01-14 | 1989-01-14 | 画像処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP690489A JPH0690144B2 (ja) | 1989-01-14 | 1989-01-14 | 画像処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02187652A JPH02187652A (ja) | 1990-07-23 |
| JPH0690144B2 true JPH0690144B2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=11651224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP690489A Expired - Lifetime JPH0690144B2 (ja) | 1989-01-14 | 1989-01-14 | 画像処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0690144B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7015001B2 (ja) * | 2018-03-14 | 2022-02-02 | オムロン株式会社 | 欠陥検査装置、欠陥検査方法、及びそのプログラム |
-
1989
- 1989-01-14 JP JP690489A patent/JPH0690144B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02187652A (ja) | 1990-07-23 |
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