JPH021884A - 転写画像の形成方法 - Google Patents
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Landscapes
- Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Color Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は転写画像の形成方法に関し、詳しくは、フォト
ポリマー法を用いたカラープルーフの作成等に好適な転
写画像の形成方法に関する。
ポリマー法を用いたカラープルーフの作成等に好適な転
写画像の形成方法に関する。
[発明の背景]
カラー原稿からPS版等の製版材料を用いた印刷版を作
成し、多数枚の印刷を行う場合、カラー原稿からカラー
スキャナー等を用いて通常4色の網ネガ(又は網ポジ)
を作成した後、貼込み、返し、レタッチ等の工程を経て
、4色の1枚ポジを作成し1校正刷りを行って仕上りを
確認したうえで本刷りを行っている。この場合1.ir
qネガ又は網ポジの作成工程ではスキャナー分解のチエ
ツク、1枚ポジの作成工程では貼込み等のチエツク、校
正刷り工程では印刷の発注者の確認などのチェッりa能
が良好な印刷の仕上りのために必要であり、この目的の
ためにカラープルーフフを作成してチエツクすることが
行われている。このカラープルーフ作成のだめの感光材
11としては、銀塩写真方式の感光材料、電子写真方式
の感光材料、フォトポリマーを用いた感光材料などが知
られており、色画像としてトナー顔料、染料などを用い
るものがあり、その使用目的に応じてネガ−ポジ方式、
ポジーポジ方式の両方がある。
成し、多数枚の印刷を行う場合、カラー原稿からカラー
スキャナー等を用いて通常4色の網ネガ(又は網ポジ)
を作成した後、貼込み、返し、レタッチ等の工程を経て
、4色の1枚ポジを作成し1校正刷りを行って仕上りを
確認したうえで本刷りを行っている。この場合1.ir
qネガ又は網ポジの作成工程ではスキャナー分解のチエ
ツク、1枚ポジの作成工程では貼込み等のチエツク、校
正刷り工程では印刷の発注者の確認などのチェッりa能
が良好な印刷の仕上りのために必要であり、この目的の
ためにカラープルーフフを作成してチエツクすることが
行われている。このカラープルーフ作成のだめの感光材
11としては、銀塩写真方式の感光材料、電子写真方式
の感光材料、フォトポリマーを用いた感光材料などが知
られており、色画像としてトナー顔料、染料などを用い
るものがあり、その使用目的に応じてネガ−ポジ方式、
ポジーポジ方式の両方がある。
本発明は、フォトポリマー(光重合性ポリマー)を用い
た感光材料に像様露光し、コロナ帯電後、トナー現像し
、該トナー像を被転写材料に転写して画像を形成する所
謂ゼロプリンティング法に属する技術である。
た感光材料に像様露光し、コロナ帯電後、トナー現像し
、該トナー像を被転写材料に転写して画像を形成する所
謂ゼロプリンティング法に属する技術である。
従来、フォトポリマーを感光材料にゼロプリンティング
法によりトナー画像を形成する方法は、特開昭62−2
95081号に開示され、また同公報には、この方法が
小規模の印刷、カラー校正刷りの作成などに用いること
ができる旨、開示されている。
法によりトナー画像を形成する方法は、特開昭62−2
95081号に開示され、また同公報には、この方法が
小規模の印刷、カラー校正刷りの作成などに用いること
ができる旨、開示されている。
E’AIrAが解決しようとする課題]しかしながら、
上記従来の方法では、露光域と未露光域の電気的抵抗の
差が不充分のため、地汚れを出さない条件では高濃度の
転写像が得られず1反面高温度の転写像を得る条件では
地汚れが出やすい欠点があることが判った。また同一濃
度の転写像を繰り返し再現よく得ることが困難であると
いう欠点があることが判った。
上記従来の方法では、露光域と未露光域の電気的抵抗の
差が不充分のため、地汚れを出さない条件では高濃度の
転写像が得られず1反面高温度の転写像を得る条件では
地汚れが出やすい欠点があることが判った。また同一濃
度の転写像を繰り返し再現よく得ることが困難であると
いう欠点があることが判った。
このため、カラープルーフとして利用するには性能的に
不充分であるという問題があった。
不充分であるという問題があった。
そこで本発明は、地汚れがなく高濃度の転写像を得るこ
とができ、且つ同一濃度の転写像を繰り返し再現性よく
得ることができ、カラープルーフとして好適に利用でき
る転写画像の形成方法を提供することを課題とする。
とができ、且つ同一濃度の転写像を繰り返し再現性よく
得ることができ、カラープルーフとして好適に利用でき
る転写画像の形成方法を提供することを課題とする。
[課題を解決するだめの手段]
本発明者は上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果
、光重合開始剤として2−o−置換ヘキサアリールビイ
ミダゾールや2−o−il換ヘキサフェニルビイミダゾ
ールを用いた場合には、露光部と未露光部の電気抵抗の
差が不充分となることを見い出し、更に本発明特有の光
重合開始剤を用いることにより、上記課題を解決しうる
ことを見い出し、本発明を完成するに至ったものである
。
、光重合開始剤として2−o−置換ヘキサアリールビイ
ミダゾールや2−o−il換ヘキサフェニルビイミダゾ
ールを用いた場合には、露光部と未露光部の電気抵抗の
差が不充分となることを見い出し、更に本発明特有の光
重合開始剤を用いることにより、上記課題を解決しうる
ことを見い出し、本発明を完成するに至ったものである
。
即ち、本発明に係る転写画像の形成方法は。
導電性支持体の上に光重合性組成物含有層を有する画像
形成材料に像様露光し、該光重合性組成物含有層の露光
された区域の電気的抵抗性を増大させ、次いでコロナ帯
電して前記露光された区域に靜電潜像を形成し1次いで
トナーにより現像し、次いで該トナー像を被転写材料に
転写することにより、転写画像を形成する方法において
、前記光重合性組成物含有層に用いられる光重合開始剤
が、下記一般式(r)で表される化合物を少なくとも1
.1含むことを特徴とする。
形成材料に像様露光し、該光重合性組成物含有層の露光
された区域の電気的抵抗性を増大させ、次いでコロナ帯
電して前記露光された区域に靜電潜像を形成し1次いで
トナーにより現像し、次いで該トナー像を被転写材料に
転写することにより、転写画像を形成する方法において
、前記光重合性組成物含有層に用いられる光重合開始剤
が、下記一般式(r)で表される化合物を少なくとも1
.1含むことを特徴とする。
一般式(I)
[式中、Xは水素原子、アルキル基又はアリール基を表
し、Yはフッ末原子、塩素原子又は臭素原子を表し、n
は1〜3の整数を表し、mは1〜2の整数を表し1文は
O又は1を表す。」[作用J 本発明においては、上記一般式(1)の光重合開始剤を
用いることにより、露光された(重合された)領域の電
気抵抗が大さく、十分高い初期電荷を保持し、またその
電荷の減衰率が極めて低く、一方未露光領域の電荷が、
実質的にゼロとなるまでの減衰が早いため、上記課題を
達成しうるのであり、同時に本発明特有の効果を発揮す
るのである。
し、Yはフッ末原子、塩素原子又は臭素原子を表し、n
は1〜3の整数を表し、mは1〜2の整数を表し1文は
O又は1を表す。」[作用J 本発明においては、上記一般式(1)の光重合開始剤を
用いることにより、露光された(重合された)領域の電
気抵抗が大さく、十分高い初期電荷を保持し、またその
電荷の減衰率が極めて低く、一方未露光領域の電荷が、
実質的にゼロとなるまでの減衰が早いため、上記課題を
達成しうるのであり、同時に本発明特有の効果を発揮す
るのである。
[具体的構成]
本発明の画像形成材料の構成は、導電性支持体上に光重
合性組成物含有層を設けて成るものである。先ず、これ
らの各層の構成を明らかにする。
合性組成物含有層を設けて成るものである。先ず、これ
らの各層の構成を明らかにする。
光重合性組成物含有層
本発明の光重合性!ll静物含有層組成は、上記一般式
CI)で表される光重合開始剤、エチレン系不悠和結合
を有する光重合ないし光架橋可能な化合物と、バインダ
ー、必要に応じて増感剤等を含む。
CI)で表される光重合開始剤、エチレン系不悠和結合
を有する光重合ないし光架橋可能な化合物と、バインダ
ー、必要に応じて増感剤等を含む。
上記一般式(I)において、Xは水素原子炭素数1〜6
のアルキル基又はアリール基であるが、特に好ましいア
ルキル基はメチル基、プロピル基であり、アリール基と
してはフェニル基を挙げることができる。
のアルキル基又はアリール基であるが、特に好ましいア
ルキル基はメチル基、プロピル基であり、アリール基と
してはフェニル基を挙げることができる。
特開昭54−74728号公報及び同55−77742
号公報には、それぞれ2−へコメチル−5−ビニル−1
,3,4−オキサジアゾール化合物、2−トリへロメチ
ルー5−7リールー1.3.4−オキサジアゾール化合
物が開示されているが、フェノール性OH基を含む化合
物の方が溶解性に優れている。
号公報には、それぞれ2−へコメチル−5−ビニル−1
,3,4−オキサジアゾール化合物、2−トリへロメチ
ルー5−7リールー1.3.4−オキサジアゾール化合
物が開示されているが、フェノール性OH基を含む化合
物の方が溶解性に優れている。
このフェノール性OH基を含む化合物は、例えば、特開
昭55−24113号公報、米国特許4,232,10
8号明細書或いは同4,279,982号明細書に記載
されている合成方法に準じて合成される下記一般式(I
I )又は(m)の化合物のエーテル結合部分を脱アル
キル化(或いは脱アルキレン化)することにより合成さ
れる。
昭55−24113号公報、米国特許4,232,10
8号明細書或いは同4,279,982号明細書に記載
されている合成方法に準じて合成される下記一般式(I
I )又は(m)の化合物のエーテル結合部分を脱アル
キル化(或いは脱アルキレン化)することにより合成さ
れる。
一般式(n )
一般式(III)
上式中、X、 V、文1m及びnは一般式(I)と同義
である。Rは低級のアルキル基又はベンジル基を表す。
である。Rは低級のアルキル基又はベンジル基を表す。
一般式(II )及び(III)の化合物のエーテル結
合部分の脱アルキル(或いは脱アルキレン)化反応は、
例えば、 Organic 5yntheses、 C
o11ectvolua+eV 、 412〜414
(1973年)に記載の方法、H,Gereckeら著
、He1vetica ChimicaActa、 5
9.2551〜2557 (1978年)に記載の方法
、E、 H,Vickery ら著、 Journal
ofChemistry、 44.4444〜444
B (1979年)方法、或いはM、 NodeP+著
、Journal ofChemistry、 45.
4275〜427? (1980年)方法等に準じて行
うことができる。
合部分の脱アルキル(或いは脱アルキレン)化反応は、
例えば、 Organic 5yntheses、 C
o11ectvolua+eV 、 412〜414
(1973年)に記載の方法、H,Gereckeら著
、He1vetica ChimicaActa、 5
9.2551〜2557 (1978年)に記載の方法
、E、 H,Vickery ら著、 Journal
ofChemistry、 44.4444〜444
B (1979年)方法、或いはM、 NodeP+著
、Journal ofChemistry、 45.
4275〜427? (1980年)方法等に準じて行
うことができる。
本発明に用いられる一般式CI)で表される光重合開始
剤の具体例を下記に示す。
剤の具体例を下記に示す。
Organic
に記載の
Organic
に記載の
鮭丞1」いり町筋週
N。
O
以下余白
O
N。
・1
No。
N00
NOl
NO
!■
NO
1O
NO
NO。
N。
上記例示化合物のいくつかについて、以下に合成例を示
す。
す。
合成例1
2−トリクロロメチル−5−(p−ヒドロキシスチリル
)−1,3,4−オキサジアゾール(例示化合物No、
l)の合成 17.8gのp−メトキシ桂皮酸と 13.9Hのp−
二トロフェノールを50m文の塩化チオニルと50II
1文のベンゼン中で1時間加8還流した。過胴の塩化チ
オニルとベンゼンを蒸留後書られる固体を水洗した後乾
燥した。実質的に理論量のp−メトキシ桂皮酸p−ニト
ロフェニルエステルを得た。
)−1,3,4−オキサジアゾール(例示化合物No、
l)の合成 17.8gのp−メトキシ桂皮酸と 13.9Hのp−
二トロフェノールを50m文の塩化チオニルと50II
1文のベンゼン中で1時間加8還流した。過胴の塩化チ
オニルとベンゼンを蒸留後書られる固体を水洗した後乾
燥した。実質的に理論量のp−メトキシ桂皮酸p−ニト
ロフェニルエステルを得た。
p−メトキシa皮酸p′−二トロフェニルエステル18
.0gを80%抱水ヒドラジン11.4gとメタノール
75m文の溶液に添加し、30分間加熱還流した0反応
液を放冷後、トリエチルアミン8.3gを加え、水40
0m1に注加した。無色結晶のp−メトキシ桂皮酸ヒド
ラジド7.8gが析出した。
.0gを80%抱水ヒドラジン11.4gとメタノール
75m文の溶液に添加し、30分間加熱還流した0反応
液を放冷後、トリエチルアミン8.3gを加え、水40
0m1に注加した。無色結晶のp−メトキシ桂皮酸ヒド
ラジド7.8gが析出した。
p−メトキシ桂皮酸ヒドラジド19.2gを、ヘキサク
ロルアセトン29.2gとアセトニトリル100mJL
の溶液に加え、20分間加熱還流した0反応液を冷却す
ると無色結晶のN−p−メトキシシンナモイル−N′−
トリクロロアセチルヒドラジド30.1gが析出した。
ロルアセトン29.2gとアセトニトリル100mJL
の溶液に加え、20分間加熱還流した0反応液を冷却す
ると無色結晶のN−p−メトキシシンナモイル−N′−
トリクロロアセチルヒドラジド30.1gが析出した。
N−p−メトキシシンナモイル−N′−)リクロロアセ
チルヒドラジド4gとオキシ塩化リン4(Janを3時
間加熱還流後、氷水200gに割り、得られる沈殿をメ
タノールより再結晶して、2−トリクロロメチル5−(
p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾー
ル2.5gを得た。
チルヒドラジド4gとオキシ塩化リン4(Janを3時
間加熱還流後、氷水200gに割り、得られる沈殿をメ
タノールより再結晶して、2−トリクロロメチル5−(
p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾー
ル2.5gを得た。
塩化メチレン20m1に無水塩化アルミニウム18gを
添加し、室温にて攪拌しながら、2−トリクロロメチル
−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール14gを塩化メチレン80mJ1に溶解させ
た溶液を滴下した0滴下後、室温にて7吟間攪拌し1反
応を続けた。
添加し、室温にて攪拌しながら、2−トリクロロメチル
−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール14gを塩化メチレン80mJ1に溶解させ
た溶液を滴下した0滴下後、室温にて7吟間攪拌し1反
応を続けた。
反応液は水冷した水にて水洗した後、減圧下で塩化メチ
レンを留去させた。留去後の残存固体を酢酸エチル、n
−へキサン混合溶媒より再結晶し、2−トリクロロメチ
ル−5−(p−ヒドロキシスチリル)−1,3,4−オ
キサジアゾール(融点179〜180°C) 9.6g
を得た。
レンを留去させた。留去後の残存固体を酢酸エチル、n
−へキサン混合溶媒より再結晶し、2−トリクロロメチ
ル−5−(p−ヒドロキシスチリル)−1,3,4−オ
キサジアゾール(融点179〜180°C) 9.6g
を得た。
合成例2
2−トリクロロメチル−5−(3′、4’−ジヒドロキ
シスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール(例示化
合物No、5)の合成 3.4−メチレンジオキシ桂皮酸28.7g、 p−二
トロフェノール19.3gをトルエン60rmlに加え
、これに塩化チオニル33.1gを滴下した後、2時間
加熱;流した。過剰の塩化チオニル及びトルエンを留去
した後に、3.4−メチレンジオキシ桂皮酸4′−二ト
ロフェニルエステル42.を得た。
シスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール(例示化
合物No、5)の合成 3.4−メチレンジオキシ桂皮酸28.7g、 p−二
トロフェノール19.3gをトルエン60rmlに加え
、これに塩化チオニル33.1gを滴下した後、2時間
加熱;流した。過剰の塩化チオニル及びトルエンを留去
した後に、3.4−メチレンジオキシ桂皮酸4′−二ト
ロフェニルエステル42.を得た。
3.4−メチレンジオキシ桂皮酸4′−二トロフェニル
エステル31.3g及び80%抱水ヒドラジン18.8
gをメチルアルコール125mJ1に加え、1時間加熱
還流した。冷却後の反応液を水700m1に投入し、得
られる沈殿を謹別して、3.4−メチレンジオキシ桂皮
酸ヒドラジド!9.7.を得た。
エステル31.3g及び80%抱水ヒドラジン18.8
gをメチルアルコール125mJ1に加え、1時間加熱
還流した。冷却後の反応液を水700m1に投入し、得
られる沈殿を謹別して、3.4−メチレンジオキシ桂皮
酸ヒドラジド!9.7.を得た。
3.4−メチレンジオキシ桂皮酸ヒドラジド17.5g
とへキサクロロアセトン28.3gにアセトニトリル1
00alを加え、30分間加熱還流した0反応液を冷却
することにより N−(3,4−メチレンジオキシシン
ナモイル)−N’−トリクロロアセチルヒドラジド28
.2gを得た。
とへキサクロロアセトン28.3gにアセトニトリル1
00alを加え、30分間加熱還流した0反応液を冷却
することにより N−(3,4−メチレンジオキシシン
ナモイル)−N’−トリクロロアセチルヒドラジド28
.2gを得た。
N−(3,4−メチレンジオキシシンナモイル)−に′
−トリクロロアセチルヒドラジド20.0.にオキシ塩
化リン150mJLを加え、3時間加熱還流後に氷水中
に反応液を投入し、得られる沈殿を性別し、メタノール
より再結晶して、2−トリクロロメチル5−(3′、4
′−メチレンジオキシスチリル)−1,3,4−オキサ
ジアゾールlft、Igを得た。
−トリクロロアセチルヒドラジド20.0.にオキシ塩
化リン150mJLを加え、3時間加熱還流後に氷水中
に反応液を投入し、得られる沈殿を性別し、メタノール
より再結晶して、2−トリクロロメチル5−(3′、4
′−メチレンジオキシスチリル)−1,3,4−オキサ
ジアゾールlft、Igを得た。
塩化メチレン20mJ1に無水塩化アルミニウム11g
を添加し、氷冷しながらエタンジチオール5oJLを加
え、これに2−トリクロロメチル−5−(3′。
を添加し、氷冷しながらエタンジチオール5oJLを加
え、これに2−トリクロロメチル−5−(3′。
4′−メチレンジオキシスチリル)−1,3,4−オキ
サジアゾール6.7gを添加した0反応液は室温に戻し
た少さらに3時間反応を続けた1反応液は水冷した水に
て水洗した後、減圧下にて塩化メチレンを留去させ、残
存物を酢酸エチル、n−へキサン混合溶媒より再結晶し
、2−トリクロロメチル−5−(3”、4′−ジヒドロ
キシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール(融点
183〜185℃) 3.7gを得た。
サジアゾール6.7gを添加した0反応液は室温に戻し
た少さらに3時間反応を続けた1反応液は水冷した水に
て水洗した後、減圧下にて塩化メチレンを留去させ、残
存物を酢酸エチル、n−へキサン混合溶媒より再結晶し
、2−トリクロロメチル−5−(3”、4′−ジヒドロ
キシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール(融点
183〜185℃) 3.7gを得た。
合成例3
2−クロロメチル−5−(p−ヒドロキシスチリル)−
1,3,4−オキサジアゾール(例示化合物No、7)
の合成 合成例1で得られた中間体p−メトキシ桂皮酸ヒドラジ
ド1.9gをモノクロロ酢酸無水物1.7gと酢酸+5
n+1の混合物中で室温下30分間攪拌した。その接水
へ割り、得られる沈殿をメタノールと水の混合溶媒より
再結晶してN−p−メトキシシンナモイル、N′−クロ
ロアセチルヒドラジド0.8gを得た。
1,3,4−オキサジアゾール(例示化合物No、7)
の合成 合成例1で得られた中間体p−メトキシ桂皮酸ヒドラジ
ド1.9gをモノクロロ酢酸無水物1.7gと酢酸+5
n+1の混合物中で室温下30分間攪拌した。その接水
へ割り、得られる沈殿をメタノールと水の混合溶媒より
再結晶してN−p−メトキシシンナモイル、N′−クロ
ロアセチルヒドラジド0.8gを得た。
N−p−メトキシシンナモイル−N′−クロロアセチル
ヒドラジド0.8gとオキシ塩化9710111文を1
時間加f!+還流後反応液を氷水に割り、得られる沈殿
をエタノールより再結晶して、2−クロロメチル−5−
(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾ
ールを得た。
ヒドラジド0.8gとオキシ塩化9710111文を1
時間加f!+還流後反応液を氷水に割り、得られる沈殿
をエタノールより再結晶して、2−クロロメチル−5−
(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾ
ールを得た。
塩化メチレン20+JLに無水三臭化ホウ素togを加
え、 −20℃に冷却し、攪拌しなから2−クロロメチ
ル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキ
サジアゾール5gを塩化メチレン40m1に溶解させた
溶液を滴下した0m下後、−20°Cにて2時間、室温
にて3時間反応を続けた。水冷した水による水洗の後、
減圧下にて塩化メチレンを留去し、残存物を酢酸エチル
、n−ヘキサンの混合溶媒より再結晶し、2−クロロメ
チル−5−(p−ヒドロキシスチリル)−1,3,4−
オキサジアゾール(融点174〜175℃)3.5gを
得た。
え、 −20℃に冷却し、攪拌しなから2−クロロメチ
ル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキ
サジアゾール5gを塩化メチレン40m1に溶解させた
溶液を滴下した0m下後、−20°Cにて2時間、室温
にて3時間反応を続けた。水冷した水による水洗の後、
減圧下にて塩化メチレンを留去し、残存物を酢酸エチル
、n−ヘキサンの混合溶媒より再結晶し、2−クロロメ
チル−5−(p−ヒドロキシスチリル)−1,3,4−
オキサジアゾール(融点174〜175℃)3.5gを
得た。
合成例4
2−トリクロロメチル−5−(3’、4′−ジヒドロキ
シフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(例示化
合物NO,15)の合成 3.4−ジメトキシ安息香酸メチル9.8g (0,0
5モル)と85%抱水ヒドラジン15m1とを攪拌しな
がら2.5時間還流した。この反応溶液を冷却して生じ
た結晶を濾別し、水洗して3,4−ジメトキシ安息香酸
ヒドラジドを得た。収率は定量的であった。
シフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(例示化
合物NO,15)の合成 3.4−ジメトキシ安息香酸メチル9.8g (0,0
5モル)と85%抱水ヒドラジン15m1とを攪拌しな
がら2.5時間還流した。この反応溶液を冷却して生じ
た結晶を濾別し、水洗して3,4−ジメトキシ安息香酸
ヒドラジドを得た。収率は定量的であった。
上で得られた3、4−ジメトキシ安息香酸ヒドラジド3
.9g (0,02モル)をトリクロロ酢酸無水物8.
2g (0,02モル)中に、攪拌下添加して、30分
間攪拌をh2けた後、オキシ塩化リン15g(1)、
1モル)を加え、3時間攪拌しながら酬流した。この反
応液を冷却後、砕氷aoog中へ投入した。生成した沈
澱を成果、水洗、乾燥後、酢酸エチルから再結晶して2
−トリクロロメチル−5−(3′、4′−ジメトキシフ
ェニル−1,3,4−才キサジアゾール5.0gを得た
。
.9g (0,02モル)をトリクロロ酢酸無水物8.
2g (0,02モル)中に、攪拌下添加して、30分
間攪拌をh2けた後、オキシ塩化リン15g(1)、
1モル)を加え、3時間攪拌しながら酬流した。この反
応液を冷却後、砕氷aoog中へ投入した。生成した沈
澱を成果、水洗、乾燥後、酢酸エチルから再結晶して2
−トリクロロメチル−5−(3′、4′−ジメトキシフ
ェニル−1,3,4−才キサジアゾール5.0gを得た
。
塩化メチレン20mftに無水三臭化ホウ酢10gとエ
タンチオール50文を加え、−20°Cに冷却しなから
2−トリクロロメチル−5−(3’、4′−ジメトキシ
フェニル)−1,3,4−オキサジアゾール5gtl−
塩化メチレン20mMに溶解させた溶液を滴下した0滴
下後−20°Cにて2時間、室温にて3時間の反応を続
けた。水冷した水による水洗の後、減圧下にて塩化メチ
レンを留去し、残存物を酢酸エチルより再結晶し、2−
トリクロロメチル−5−(3′、4′−ジヒドロキシフ
ェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(融点192
〜194℃) 3.1gを得た。
タンチオール50文を加え、−20°Cに冷却しなから
2−トリクロロメチル−5−(3’、4′−ジメトキシ
フェニル)−1,3,4−オキサジアゾール5gtl−
塩化メチレン20mMに溶解させた溶液を滴下した0滴
下後−20°Cにて2時間、室温にて3時間の反応を続
けた。水冷した水による水洗の後、減圧下にて塩化メチ
レンを留去し、残存物を酢酸エチルより再結晶し、2−
トリクロロメチル−5−(3′、4′−ジヒドロキシフ
ェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(融点192
〜194℃) 3.1gを得た。
合成例5
2−トリクロロメチル−5−(p−ヒドロキシフェニル
)−1,3,4−オキサジアゾール(例示化合物NO,
11)の合成 上記化合物が合成例4と同じ方法により、p−メトキシ
安息香酸メチルを原料として得られた。
)−1,3,4−オキサジアゾール(例示化合物NO,
11)の合成 上記化合物が合成例4と同じ方法により、p−メトキシ
安息香酸メチルを原料として得られた。
融点147〜149℃。
合成例6
2−トリブロモメチル−5−(p−ヒドロキシスチリル
)−1,3,4−オキサジアゾール(例示化合物NO,
8)の合成 合成例1で得られた中間体p−メトキシ桂皮酸ヒドラジ
ド8.73gをジオキサン180+i文に溶解後、攪拌
しながらトリブロモ酢酸プロミド8.2gを10分間で
滴下した。この反応液を4時間室温で攪拌後、得られる
沈澱を謎別した。11液に水を200+JL添加後、冷
却してN−P−メトキシシンナモイル−N′−)リブロ
モアセチルヒドラジド8.8gの結晶を得た。
)−1,3,4−オキサジアゾール(例示化合物NO,
8)の合成 合成例1で得られた中間体p−メトキシ桂皮酸ヒドラジ
ド8.73gをジオキサン180+i文に溶解後、攪拌
しながらトリブロモ酢酸プロミド8.2gを10分間で
滴下した。この反応液を4時間室温で攪拌後、得られる
沈澱を謎別した。11液に水を200+JL添加後、冷
却してN−P−メトキシシンナモイル−N′−)リブロ
モアセチルヒドラジド8.8gの結晶を得た。
この結晶を3.9gとオキシ塩化リン20m1を1時間
加熱還流後、反応液を氷水に注ぎ、得られる沈Sを酢酸
エチルより再結晶して、2−トリブロモメチル−5−(
p−メトキシスチリル)−1,3,4−才キサジアゾー
ル2.0gを得た。
加熱還流後、反応液を氷水に注ぎ、得られる沈Sを酢酸
エチルより再結晶して、2−トリブロモメチル−5−(
p−メトキシスチリル)−1,3,4−才キサジアゾー
ル2.0gを得た。
塩化メチレン20mJ1に無水塩化アルミニウム2.0
gを添加し、室温にて攪拌しながら、2−トリブロモメ
チル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オ
キサジアゾール1.5gを塩化メチレン2h文に溶解さ
せた溶液を滴下した0滴下後さらに室温にて7時間攪拌
し、反応を続けた0反応液を氷水に注いだ後、水洗を繰
り返した0g圧下にて塩化メチレンを留去させ、得られ
る固体を酢酸エチルより再結晶し、2−トリブロモメチ
ル−5−(p−ヒドロキシスチリル)−1,3,4−オ
キサゾール(融点179〜181℃)1.1gを得た。
gを添加し、室温にて攪拌しながら、2−トリブロモメ
チル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オ
キサジアゾール1.5gを塩化メチレン2h文に溶解さ
せた溶液を滴下した0滴下後さらに室温にて7時間攪拌
し、反応を続けた0反応液を氷水に注いだ後、水洗を繰
り返した0g圧下にて塩化メチレンを留去させ、得られ
る固体を酢酸エチルより再結晶し、2−トリブロモメチ
ル−5−(p−ヒドロキシスチリル)−1,3,4−オ
キサゾール(融点179〜181℃)1.1gを得た。
エチレン系不飽和結合を宥する光重合ないし光架橋可能
な化合物(以下、必要に応じ本発明モノマーという)は
、その化学構造中に少なくとも1個のエチレン性不飽和
結合を有する化合物であって、モノマー、プレポリマー
、即ち2量体、3量体及び他のオリゴマーそれらの混合
物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつもの
である。それらの例としては不飽和カルボン酸及びその
他、脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、脂肪族
多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
な化合物(以下、必要に応じ本発明モノマーという)は
、その化学構造中に少なくとも1個のエチレン性不飽和
結合を有する化合物であって、モノマー、プレポリマー
、即ち2量体、3量体及び他のオリゴマーそれらの混合
物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつもの
である。それらの例としては不飽和カルボン酸及びその
他、脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、脂肪族
多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酎、メタ
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、インクロトン酸、
マレイン酸などがある。
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、インクロトン酸、
マレイン酸などがある。
不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のナトリウム
塩及びカリウム塩などがある。
塩及びカリウム塩などがある。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールトリアクリレート1.3−ブタンジオールジアクリ
レート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プ
ロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリア
クリレート、1.4−シクロヘキサンジオールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート。
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールトリアクリレート1.3−ブタンジオールジアクリ
レート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プ
ロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリア
クリレート、1.4−シクロヘキサンジオールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート。
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトール
ジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソ
ルビトールトリアクリレート、ソルビトールトリアクリ
レート、ンルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルへキサアクリレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴブー等がある。
リトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトール
ジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソ
ルビトールトリアクリレート、ソルビトールトリアクリ
レート、ンルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルへキサアクリレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴブー等がある。
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、1.3−ブタンジオー
ルジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリ
レート、ペンタエリスリトールトリメタクリート、ジペ
ンタエリスリトールジメタクリレート、ソルビトールト
リメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート
、ビス−[p−(3−メタクリルオキシ−2ヒドロキシ
プロポキシ)フェニル]ジメチルエタン、ビス=[p−
(アクリルオキシエトキシ)フェニル]ジメチルメタン
等がある。
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、1.3−ブタンジオー
ルジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリ
レート、ペンタエリスリトールトリメタクリート、ジペ
ンタエリスリトールジメタクリレート、ソルビトールト
リメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート
、ビス−[p−(3−メタクリルオキシ−2ヒドロキシ
プロポキシ)フェニル]ジメチルエタン、ビス=[p−
(アクリルオキシエトキシ)フェニル]ジメチルメタン
等がある。
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールシイ
タコネート、プロピレングリコールシイタコネート、1
.3−ブタンジオールシイタコネート、1.4−ブタン
ジオールシイタコネート、テトラメチレングリコールシ
イタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネート、
ソルビトールテトライタコネート等がある。
タコネート、プロピレングリコールシイタコネート、1
.3−ブタンジオールシイタコネート、1.4−ブタン
ジオールシイタコネート、テトラメチレングリコールシ
イタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネート、
ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジク
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトール
テトラクロトネート等がある。
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート
、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトール
テトラクロトネート等がある。
インクロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジインクロトネート、ペンタエリスリトールジインクロ
トネート、ソルビトールテトラインクロトネート等があ
る。
ジインクロトネート、ペンタエリスリトールジインクロ
トネート、ソルビトールテトラインクロトネート等があ
る。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールシマ
レート、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエ
リスリトールシマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
レート、トリエチレングリコールシマレート、ペンタエ
リスリトールシマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
さらに前述のエステルの混合物も挙げることができる。
脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミド
の具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メ
チレンビス−メタクリルアミド、l、6=へキサメチレ
ンビス−アクリルアミド、1,6−へキサメチレンビス
−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアク
リルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレ
ンビスメタクリルアミド等がある。
の具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メ
チレンビス−メタクリルアミド、l、6=へキサメチレ
ンビス−アクリルアミド、1,6−へキサメチレンビス
−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアク
リルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレ
ンビスメタクリルアミド等がある。
その他の例としては、特公昭48−41708号公報中
に記載されている1分子に2個以上のインシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に。
に記載されている1分子に2個以上のインシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に。
下記の一般式で示される水酸基を含有するビニル七ツマ
−を付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
−を付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
GHz−C(R)COOCHzCH(R′)OH(ただ
し、R及びR′は水素原子又はメチル基を示す、) 本発明の七ツマ−は感光性系中での主要な電荷キャリア
ーである。モノマーは未露光域における電荷が、帯電後
約15秒以内にゼロ又は殆んどセロにまで減衰するよう
な、十分な帯電面をもたねばならない、一方、ハイライ
ト区域中の小さな露光された網点(dat+)のトナー
処理を容易とするために、即ち大きな未露光域に囲まれ
た中にある、小さな孤立した露光された網点から、余り
に急速に電荷が消失するのを避けるため、未露光域は若
干の初期電荷を受は入れ、そして数秒間これを保持する
のが好ましい、そこで、約105〜109オーム範囲の
抵抗をもつ七ツマ−を用いるのが好ましいと考えられる
。
し、R及びR′は水素原子又はメチル基を示す、) 本発明の七ツマ−は感光性系中での主要な電荷キャリア
ーである。モノマーは未露光域における電荷が、帯電後
約15秒以内にゼロ又は殆んどセロにまで減衰するよう
な、十分な帯電面をもたねばならない、一方、ハイライ
ト区域中の小さな露光された網点(dat+)のトナー
処理を容易とするために、即ち大きな未露光域に囲まれ
た中にある、小さな孤立した露光された網点から、余り
に急速に電荷が消失するのを避けるため、未露光域は若
干の初期電荷を受は入れ、そして数秒間これを保持する
のが好ましい、そこで、約105〜109オーム範囲の
抵抗をもつ七ツマ−を用いるのが好ましいと考えられる
。
バインダーとしては、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレン、ポリアクリル酸アルキルエステル(アルキ
ル基としては、メチル基、エチル基、n−ブチル基、
jsa−ブチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシ
ル基など)、アクリル酸アルキルエステル(アルキル基
は同上)と7クリロニトリル、If! 化ビニル、塩化
ビニリデン、スチレン、ブタジェンなどのモノマーの少
なくとも一種との共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニ
ルと7クリロニトリルとの共重合体、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニリデンと7クリロニトリルとの共重合体、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリロ
ニトリル、アクリロニトリルとスチレンとの共重合体、
アクリロニトリルとブタジェン及びスチレンとの共重合
体、ポリメタアクリル酸アルキルエステル(アルキル基
としては、メチル基。
プロピレン、ポリアクリル酸アルキルエステル(アルキ
ル基としては、メチル基、エチル基、n−ブチル基、
jsa−ブチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシ
ル基など)、アクリル酸アルキルエステル(アルキル基
は同上)と7クリロニトリル、If! 化ビニル、塩化
ビニリデン、スチレン、ブタジェンなどのモノマーの少
なくとも一種との共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニ
ルと7クリロニトリルとの共重合体、ポリ塩化ビニリデ
ン、塩化ビニリデンと7クリロニトリルとの共重合体、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリロ
ニトリル、アクリロニトリルとスチレンとの共重合体、
アクリロニトリルとブタジェン及びスチレンとの共重合
体、ポリメタアクリル酸アルキルエステル(アルキル基
としては、メチル基。
エチル基、n−プロピルノ^、n−ブチル基、1so−
ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エ
チルヘキシル基など)、メタアクリル酸アルキルエステ
ル(アルキル基は同上)と7クリロニトリル、In化ビ
ニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジェンなどのモ
ノマーの少なくとも一種との共重合体、ポリスチレン、
ポリ−α−メチルスチレン、ポリアミド(8−ナイロン
、6.6−ナイロン等)、メチルセルロース、エチルセ
ルロース、アセチルセルロース、ポリビニルホルマール
、ポリビニルブチラール等を用いることができる。
ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エ
チルヘキシル基など)、メタアクリル酸アルキルエステ
ル(アルキル基は同上)と7クリロニトリル、In化ビ
ニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジェンなどのモ
ノマーの少なくとも一種との共重合体、ポリスチレン、
ポリ−α−メチルスチレン、ポリアミド(8−ナイロン
、6.6−ナイロン等)、メチルセルロース、エチルセ
ルロース、アセチルセルロース、ポリビニルホルマール
、ポリビニルブチラール等を用いることができる。
必要に応じ用いられる増感剤としては、一般式(1)で
表される光重合開始剤との併用により光重合速度を増大
させる増感剤なら制限なく使用できる。
表される光重合開始剤との併用により光重合速度を増大
させる増感剤なら制限なく使用できる。
本発明の光重合性組成物含有層には、上記以外に本発明
以外の重合開始剤、或いは8重合防止剤、UV吸収剤、
可塑剤、染料又は顔料などの添加剤を含有させることが
できる。
以外の重合開始剤、或いは8重合防止剤、UV吸収剤、
可塑剤、染料又は顔料などの添加剤を含有させることが
できる。
本発明の光重合性組成物含有層の組成物の配合比は1本
発明上ツマー100重量部に対し、光重合開始剤は0.
01〜50重量部が好ましく、より好ましくは0.1〜
1offii部、バインダーはO〜1000ii部が好
ましく、より好ましくはO〜500fii部であり、増
感剤は0〜100重量部が好ましく、より好ましくは0
〜20重量部である。
発明上ツマー100重量部に対し、光重合開始剤は0.
01〜50重量部が好ましく、より好ましくは0.1〜
1offii部、バインダーはO〜1000ii部が好
ましく、より好ましくはO〜500fii部であり、増
感剤は0〜100重量部が好ましく、より好ましくは0
〜20重量部である。
ユ」ましく撲卦
本発明の導電性支持体は、■全体が導電性を有する支持
体であってもよいし、また■前記光重合性Nl酸物含有
層と接する側に導電性層を有する支持体であってもよい
し、ざらに■前記光重合性組成物含有層と接する側に層
状でない導電性部分が形成された支持体であってもよい
、前記導電性支持体、導電性層及び導電性部分は、任意
の方法で接地されている。
体であってもよいし、また■前記光重合性Nl酸物含有
層と接する側に導電性層を有する支持体であってもよい
し、ざらに■前記光重合性組成物含有層と接する側に層
状でない導電性部分が形成された支持体であってもよい
、前記導電性支持体、導電性層及び導電性部分は、任意
の方法で接地されている。
■の導電性支持体としては、全屈シー)(A文製又はC
u製が好ましい)、導電性紙、導電性ポリマーフィルム
等が用いられ、又■の導電性層を有する支持体としては
、例えばアルミ蒸着ポリエチレンテレフタレート等が用
いられ、■の導電性部分が形成された支持体としては、
例えばフィルム表面や紙表面にA文粉やCu粉を適当な
手段で固着したもの等が用いられる。
u製が好ましい)、導電性紙、導電性ポリマーフィルム
等が用いられ、又■の導電性層を有する支持体としては
、例えばアルミ蒸着ポリエチレンテレフタレート等が用
いられ、■の導電性部分が形成された支持体としては、
例えばフィルム表面や紙表面にA文粉やCu粉を適当な
手段で固着したもの等が用いられる。
画像形成材料の作成
本発明に用いられる画像形成材料を作成するには、型温
光重合性組成物をエチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メチルセロツル少、エチルセ
ロンルブ、酢酸メチルセロンルブ、モノクロロベンゼン
、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの
溶媒の1種又は2種以上と混合し、例えば、リバースロ
ールコータ、エアーナイフコータ、メーヤバーコータ等
の通常のコータ、或いtカホエラーのような回転塗布装
置を用いて、塗布乾燥して得ることができる。
光重合性組成物をエチレンジクロリド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メチルセロツル少、エチルセ
ロンルブ、酢酸メチルセロンルブ、モノクロロベンゼン
、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの
溶媒の1種又は2種以上と混合し、例えば、リバースロ
ールコータ、エアーナイフコータ、メーヤバーコータ等
の通常のコータ、或いtカホエラーのような回転塗布装
置を用いて、塗布乾燥して得ることができる。
光重合性組成物含有層の厚みは、1〜11001Lが好
ましく、より好ましくは2〜1OJL11である。
ましく、より好ましくは2〜1OJL11である。
第1図には1本発明に用いられる画像形成材料の一例が
示されており、同図において、■は導電性層IAと支持
体IBからなる導電性支持体であり、2は導電性組成物
含有層である。
示されており、同図において、■は導電性層IAと支持
体IBからなる導電性支持体であり、2は導電性組成物
含有層である。
画像形成方法
(1)上記で得られた画像形成材料を所定位置にセット
し第2図に示すように像様露光する。
し第2図に示すように像様露光する。
原稿からカラースキャナー等を用いて通常4色の網ネガ
を作成した後、該網ネガを露光源と画像形成材料との間
に挿若して露光する。
を作成した後、該網ネガを露光源と画像形成材料との間
に挿若して露光する。
露光源としては、メタルハライドランプ、ケミカルラン
プ等のいずれを用いてもよいが、露光された区域に実質
的な重合を生じさせるに十分で、且つ露光域と未露光域
との間の抵抗性に相違を与えるものでなければならない
。
プ等のいずれを用いてもよいが、露光された区域に実質
的な重合を生じさせるに十分で、且つ露光域と未露光域
との間の抵抗性に相違を与えるものでなければならない
。
本発明において、第2図に示すように露光域2Aと未露
光域2Bの電位差は150〜200vが好ましく、より
好ましくは150■である。ここに電位差は、川口電機
社製エレクトロスタティックペーパーアナライザー5P
−428にて測定した。
光域2Bの電位差は150〜200vが好ましく、より
好ましくは150■である。ここに電位差は、川口電機
社製エレクトロスタティックペーパーアナライザー5P
−428にて測定した。
(2)次いで第3図のようにしてコロナ帯電して前記露
光域に静電潜像3Aを形成する。コロナ帯電器3に用い
られる帯電極はコロトロンが好ましいが、スコロトロン
であってもよい。
光域に静電潜像3Aを形成する。コロナ帯電器3に用い
られる帯電極はコロトロンが好ましいが、スコロトロン
であってもよい。
本発明においては、特有の光重合開始剤を用いたため、
露光域は電気抵抗性が大きく十分高い初期電荷を保持し
、その電荷の減衰率も極めて低いばかりでなく、未露光
域の電荷が実質的にゼロとなるまでの減衰が早いという
特性を有する。
露光域は電気抵抗性が大きく十分高い初期電荷を保持し
、その電荷の減衰率も極めて低いばかりでなく、未露光
域の電荷が実質的にゼロとなるまでの減衰が早いという
特性を有する。
このためコロナぼ電器3によって露光域2Aには電荷を
残した部分が形成され、未露光域2Bの電荷は接地を介
して外部に流出することにより。
残した部分が形成され、未露光域2Bの電荷は接地を介
して外部に流出することにより。
前記の残存電荷により静電潜像3Aが形成される。
(3)次いでトナー現像する(第4図参照)。
トナー4は前記帯電電荷と反対の電荷に帯電したものが
好ましく用いられる。クーロン力により容易にトナー現
像が可能となるからである。
好ましく用いられる。クーロン力により容易にトナー現
像が可能となるからである。
特に良好な画像解像力を得るには、液体現像が好ましい
。
。
液体現像液は、揮発性の絶縁性キャリヤー液中における
高分子トナー粒子のコロイド状懸濁液である。キャリヤ
ー液の主な例はアイソパル(l5opar) Gの商品
で市販されているイソパラフィン系液体である。微細な
トナー粒子は通常バインダー樹脂、例えばスチレン−ア
クリル系コポリマー、或いはポリエステル、並びに顔料
からなる。現像液はイオン電荷rlJ整剤または安定剤
を含有してもよく、これはトナー粒子上の靜電荷を維持
するのに役立つ、トナー、に自己固着性を与えるために
、現像液はろうを分散含有してもよい0本発明方法の実
施に際し特に使用できるこの種の現像液の説明は欧州特
許出願公開第098,084号明細書(11384年1
月11日発行)に示されている。
高分子トナー粒子のコロイド状懸濁液である。キャリヤ
ー液の主な例はアイソパル(l5opar) Gの商品
で市販されているイソパラフィン系液体である。微細な
トナー粒子は通常バインダー樹脂、例えばスチレン−ア
クリル系コポリマー、或いはポリエステル、並びに顔料
からなる。現像液はイオン電荷rlJ整剤または安定剤
を含有してもよく、これはトナー粒子上の靜電荷を維持
するのに役立つ、トナー、に自己固着性を与えるために
、現像液はろうを分散含有してもよい0本発明方法の実
施に際し特に使用できるこの種の現像液の説明は欧州特
許出願公開第098,084号明細書(11384年1
月11日発行)に示されている。
本発明において、カラー画像を得るには、Y(イエロー
)用トナー、M(マゼンタ)用トナー、C(シアン)用
トナー、Bk(ブラック)用トナーの4種のトナーを用
いて現像を繰り返せばよい。
)用トナー、M(マゼンタ)用トナー、C(シアン)用
トナー、Bk(ブラック)用トナーの4種のトナーを用
いて現像を繰り返せばよい。
(4)次いで上記のトナー像を第5図に示すように被転
写材料5(例えば紙、フィルム等)に転写する。これに
よって転写画像(ポジ)が得られる。
写材料5(例えば紙、フィルム等)に転写する。これに
よって転写画像(ポジ)が得られる。
[発明の効果]
本発明によれば、地汚れがなく高濃度の転写像を得るこ
とができ、且つ同一濃度の転写像を縁り返し再現性よく
得ることができ、カラープルーフとして利用できる転写
画像の形成方法を提供することができる。
とができ、且つ同一濃度の転写像を縁り返し再現性よく
得ることができ、カラープルーフとして利用できる転写
画像の形成方法を提供することができる。
〔実施例]
以下、実施例を挙げるが1本発明はこれらにより限定さ
れるものではない。
れるものではない。
以下の組成の光重合組成塗布液を厚み100 g ff
lのアルミ蒸着ポリエチレンテレフタレートフィルム上
に5用量厚になるよう塗布し、この塗膜の上に厚み20
gmのポリプロピレンカバーシートをラミネートした。
lのアルミ蒸着ポリエチレンテレフタレートフィルム上
に5用量厚になるよう塗布し、この塗膜の上に厚み20
gmのポリプロピレンカバーシートをラミネートした。
スチレン−メチルメタクリレート
(モル比70:30)共重合体 5.0gペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート3.6g 光重合開始剤 X。
ンタエリスリトールテトラアクリレート3.6g 光重合開始剤 X。
連鎖移動剤又は増感剤 1gメチルエ
チルケトン 20gメチルセルソル
ブアセテ−) 20gこのフィルムをネガ
マスクと重ね合せ、3kwメタルハライドランプで50
c+sの距離から像様露光した後、フィルムからカバー
シートを取り除き、コロナ帯電にて静電潜像を形成した
。
チルケトン 20gメチルセルソル
ブアセテ−) 20gこのフィルムをネガ
マスクと重ね合せ、3kwメタルハライドランプで50
c+sの距離から像様露光した後、フィルムからカバー
シートを取り除き、コロナ帯電にて静電潜像を形成した
。
露光域と未露光域の電位は、川口を機社製エレクトロス
タティックペーパーアナライザー5P−428にてA(
11足した。
タティックペーパーアナライザー5P−428にてA(
11足した。
初期電圧VOは、帯電後1秒以内に測定され、そして1
分までは15秒間隔で(V15・・・・V2O) 、そ
して2分IG (V120) i:fl16定を行ツタ
。
分までは15秒間隔で(V15・・・・V2O) 、そ
して2分IG (V120) i:fl16定を行ツタ
。
露光された区域での減衰%は、
+00(1−V120/V15)
として計算した。
結果を表1に示す。
以下余白
画像は以下の手順によって評価した。
潜像を形成させ、且つ現像するために、前記の光重合開
始剤を含有した光重合層を有するフィルム(マスター)
を、像様露光した後、ギアで駆動される二つのアルミニ
ウムドラムが0.08〜0.13+++s(3〜5ミル
)のギャップで隔てられている試験装置に取付けた。
始剤を含有した光重合層を有するフィルム(マスター)
を、像様露光した後、ギアで駆動される二つのアルミニ
ウムドラムが0.08〜0.13+++s(3〜5ミル
)のギャップで隔てられている試験装置に取付けた。
下側ドラムには、コロナ放電極とトナー処理装置があり
、このドラムを反時計方向に回転させることにより、マ
スターは最初に帯電され1次いで現像され、そして最後
に画像は紙の上に転写される。
、このドラムを反時計方向に回転させることにより、マ
スターは最初に帯電され1次いで現像され、そして最後
に画像は紙の上に転写される。
帯電は、十ElkVのコロナ放電を10秒間行った。
(+F電完了後、Hs像は下側のドラムがトナー処理位
置を通るように回転することにより現像される。
置を通るように回転することにより現像される。
現像は、イソパラフィン系溶剤アイソパーGを担体蔽体
としたリコー社製MRPトナーを用いて液体現像した。
としたリコー社製MRPトナーを用いて液体現像した。
次に転写は、バイアスロール法を用いて行った。トナー
粒子とは反対極性の高電圧が上部ドラムに与えられる。
粒子とは反対極性の高電圧が上部ドラムに与えられる。
この電圧は、電場を形成し、マスター上のトナー粒子を
上部ドラムに巻き付けた紙の上に移動させる。マスター
と転写ドラムとは0.08〜0.13m+* (3〜5
ミル)の隙間で離れているので、転写は純粋に静電的な
ものである。
上部ドラムに巻き付けた紙の上に移動させる。マスター
と転写ドラムとは0.08〜0.13m+* (3〜5
ミル)の隙間で離れているので、転写は純粋に静電的な
ものである。
この方法で、前記記載の光重合開始剤を含有した光重合
層を有するフィルム(マスター)の画像再現性の評価を
行った。評価は、1枚目の画像、10枚目、20枚目に
ついて行った。
層を有するフィルム(マスター)の画像再現性の評価を
行った。評価は、1枚目の画像、10枚目、20枚目に
ついて行った。
結果を表2に示す。
尚、rOJは転写画像良好、「Δ」はベタ濃度アップ、
一部地汚れ、「×」はベタ濃度アップ、かなり地汚れ有
り、を各々示す。
一部地汚れ、「×」はベタ濃度アップ、かなり地汚れ有
り、を各々示す。
以下余白
表
本発明の光重合開始剤は、露光部と未露光部の電位差が
大きく、且つ露光部の電荷の減衰率が極めて低いので、
地汚れのない高濃度の転写像を得ることができた。また
、転写像の経り返し再現性もよいことが明らかになった
。
大きく、且つ露光部の電荷の減衰率が極めて低いので、
地汚れのない高濃度の転写像を得ることができた。また
、転写像の経り返し再現性もよいことが明らかになった
。
第1図〜第5図は本発明の画像形成方法の一例を示す概
略断面図である。 l:導電性支持体 lA:導電性層 1B:支持体 2:光重合性組成物含有層 2A:露光域 2B:未露光域 3:コロナ帯電器 3A:帯電電荷 4:トナー 5:被転写材料
略断面図である。 l:導電性支持体 lA:導電性層 1B:支持体 2:光重合性組成物含有層 2A:露光域 2B:未露光域 3:コロナ帯電器 3A:帯電電荷 4:トナー 5:被転写材料
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 導電性支持体の上に光重合性組成物含有層を有する画像
形成材料に像様露光し、該光重合性組成物含有層の露光
された区域の電気的抵抗性を増大させ、次いでコロナ帯
電して前記露光された区域に静電潜像を形成し、次いで
トナーにより現像し、次いで該トナー像を被転写材料に
転写することにより、転写画像を形成する方法において
、前記光重合性組成物含有層に用いられる光重合開始剤
が、下記一般式( I )で表される化合物を少なくとも
1種含むことを特徴とする転写画像の形成方法。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Xは水素原子、アルキル基又はアリール基を表
し、Yはフッ素原子、塩素原子又は臭素原子を表し、n
は1〜3の整数を表し、mは1〜2の整数を表し、lは
0又は1を表す。]
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14453288A JPH021884A (ja) | 1988-06-10 | 1988-06-10 | 転写画像の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14453288A JPH021884A (ja) | 1988-06-10 | 1988-06-10 | 転写画像の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH021884A true JPH021884A (ja) | 1990-01-08 |
Family
ID=15364505
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14453288A Pending JPH021884A (ja) | 1988-06-10 | 1988-06-10 | 転写画像の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH021884A (ja) |
-
1988
- 1988-06-10 JP JP14453288A patent/JPH021884A/ja active Pending
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