JPH0375230B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、被塗布支持体を浮かせて塗布する方
法およびその装置に関する。更に詳しくは、写真
感光材料等の被塗布支持体の塗布面とは反対側の
面を無接触支持させながら連続状に走行させて１
種または２種以上の塗布液を塗布する方法および
その装置に関す、とくに連続的な画面塗布を行な
うのに適切な塗布方法およびその装置に関する。

従来、被塗布支持体の両面に塗布層を有する写
真感光材料の製造においては、該支持体の片面に
塗布後を塗布し、ゲル化して乾燥させた後、同じ
工程をもう一度通過させて、もう一方の面に塗布
液を塗布・ゲル化・乾燥させていたが、生産効率
を上げる要請から塗布・乾燥工程を１度通過させ
るだけで支持体の両面に塗布層を形成する両面塗
布法が種々提案されている。その中の１つに、先
ず被塗布支持体の片面に塗布し、ゲル化した後、
反対面に連続して塗布する方法がある。この方法
には、）特公昭48−44171号公報に記載の如く、
被塗布支持体の片面に塗布し、ゲル化した後、ゲ
ル化した面を支持ロールに直接接触させて反対面
に塗布する方法、あるいは）特公昭49−17853
号、特公昭51−38737号の各公報に記載の如く、
ある曲率をもつた支持ロール面から気体を噴出し
て被塗布支持体を浮上させ、反対面に塗布する方
法等がある。前記）の如き方法では、支持ロー
ルに少しでも傷・塵埃があるとそのまま塗布故障
となり、メンテナンスが非常に困難であること、
たとえ傷・塵埃がないとしても、塗布の開始部
分、スプライス部分等の塗布膜厚に変動のある箇
所が支持ロールに接触して通過する時には塗布層
を乱し、ロールにその一部分が付着して後に続く
塗布層を乱す等の欠点を有している。又、前記
）の方法においては、被塗布支持体の張力変動
などによる該被塗布支持体の浮上距離（浮き量）
の微少変動により、横段状の塗布ムラを発生し易
い欠点がある。特に、特公昭49−17853号公報に
記載の技術の如く、小孔もしくはスリツトを有す
るロール曲面から気体を噴出させて被塗布支持体
を浮上させ、塗布機先端を支持体面に押付けて塗
布する方法においては、支持体端部でその傾向が
著しく、また、特公昭51−38737号公報に記載の
技術の如く、被塗布支持体の両端縁を支承するロ
ールを設けて浮上させ塗布する装置においては、
被塗布支持体中央付近で、その傾向が著しい。

そこで、本発明の目的は、上述の如き欠点を解
消し、被塗布支持体の浮上距離（浮き量）の変動
を抑えて支持ロールに無接触支持させ、反対面に
均一に塗布する方法およびその装置を提供すると
共に、それによつて被塗布支持体の両面に連続し
て塗布することができる塗布方法およびその装置
を提供するにある。

本発明のその他の目的は、本明細書の以下の記
述によつて明らかにされる。

本発明の上記目的は、一端がロールの中空部に
連通し、他端がロールの表面に開口している複数
の円筒状の気体噴出孔をほぼ一様に設けることに
より前記ロール表面に形成された無接触支持部に
対して、塗布されるべき面とは反対側のゲル化し
た塗布層を有する面を向けて支持体を無接触支持
させ、かつ、前記ロール表面の無接触支持部をか
こむように進行方向を転換させて連続状に走行さ
せながら、１種または２種以上の塗布液をスライ
ドホツパー塗布法により塗布する塗布方法におい
て、前記支持体が接線方向に進入してくる前記ロ
ール表面の円周方向の位置から、進行方向を転換
して、ロール表面から離れる該ロール表面の円周
方向の位置までのロール表面に形成された無接触
支持部の面積に対する前記気体噴出孔の総面積の
比率が0.1％以下であり、前記気体噴出孔の長さ
に対する直径の比が0.1以下となように構成した
ロールを用いるとともに、前記ロールの中空部の
圧力を0.05Kg／cm〜1.0Kg／cmに保つた状態で塗
布することを特徴とする塗布方法によつて達成さ
れる。

さらに上記本発明の塗布方法の実施は、前記無
接触支持部におけるロール曲面の曲率半径を30〜
200mmとし、該無接触支持部におけるロール曲面
の面積に対する前記気体噴出孔の総面積（ロール
表面における総面積をいう。）の比率を0.1％以下
とし、該気体噴出孔の長さに対する該気体噴出孔
の直径の比を各0.1以下としたことを特徴とする
塗布装置を用いることによつて行なわれる得る。

本発明者らは、前記）に記載の塗布方法およ
び塗布装置において、被塗布支持体の浮き量変動
がみられる原因について探究したところ、次のこ
とが判明した。即ち、これらの技術は、被塗布支
持体を支持ロール上で浮き上がらせる手段とし
て、支持ロールの無接触支持部の曲面と、該無接
触支持部に対向する支持体の片面との間に、該支
持体の他の片面（塗布面側）側より高い静圧を有
する空間を形成することを考慮しており、且つこ
の高い静圧を維持するため該高静圧空間における
気体の漏洩を防止することを考慮している。この
ため外乱による無接触支持部における支持体の張
力変動が生じると、高静圧空間の気体が気体噴出
孔から噴出する気体量に影響を及ぼし、その増減
変動がみられることが判つた。そして、この気体
噴出量の増減変動による支持体浮量の変動は数十
ミクロンにも及び、この場合に横段状の塗布ムラ
を生じることが判つた。なお、このように支持体
浮き量変動の大きい場合に均一塗布する技術とし
て、特開昭53−115754号公報記載の技術が知られ
ている。この技術は、塗布液がベース（支持体）
に衝突する際の線速度を通常より大きくすること
によつて、ベース振動によつて生ずる塗布液の付
量の差を小さくしようとする技術であり、ベース
振動そのものを抑止する技術ではない。従つて、
塗布ムラ防止効果を得るためには塗布液の線速度
としてはかなり大きくしなければならないと考え
られ、その場合塗布液の流れが不安定になるし、
塗布後が衝突することによつてベースの振動が誘
起され、塗布としては極めて不安定なものになる
と思われる。

本発明者らは、上記の現象を把握した上で本発
明を完成したものであり、前記無接触支持部の気
体噴出孔における各気体噴出量の変動をなくすこ
とにより、横段状の塗布ムラの発生を防止するこ
とに成功したのである。

次に本発明の代表的実施態様を示す図面に基い
て本発明を具体的に説明する。

第１図は本発明の一実施例を示す塗布装置の縦
断面図であり、塗布方法としてスライドホツパー
による二層塗布方式を採用し、連続的に支持体の
両面に塗布する場合を示している。第２図は本発
明に用いられる支持ロールの一例を示す縦断面図
である。第３図は支持体の引張張力と無接触支持
部における支持体の浮き量との関係を示すグラフ
であつて、Ａ曲線が従来方式による場合、Ｂ曲線
が本発明方式による場合を示す。第３図のグラフ
において、通常使用される張力範囲での曲線の接
線がなるべく水平に近づくことが望ましい。その
ためには、第３図において明らかな様に、張力を
上げ、浮き量を小さくするほどよいわけだが、支
持体の強度、搬送系の問題、無接触支持部での接
触の危険性等からいずれも、かなり限定されてし
まう。よつて、技術課題とすべきことは、曲線の
型をＡ曲線よりもＢ曲線の型に基づく条件設定を
することである。これを実現する手段は、前述し
た様に、支持体張力の変動、すなわち支持静圧の
変動があつても、常にほとんど不変の気体噴出量
の得られる様な気体噴出器を用いることである。
理想的な方法は、支持体張力の変動に応じて供給
圧を変化させ、一定の浮き量に保てる様な気体噴
出量を常に与えることであるが、突発的な支持体
張力の変動に即座に対応して供給圧を変化させる
ことは非常に困難であり、実際にはこれを行つて
も、供給圧、噴出量とも変化する際に応答の遅れ
がでて、かえつて浮き量の不安定さを増してしま
うことになる。そこで本発明においては、無接触
支持部の各気体噴出口が、外乱による無接触支持
部における支持体の浮き量変動を吸収可能な流出
抵抗を有することによつて、気体噴出量を不変に
保つこととしている。そして、第４図は本発明に
用いられる支持ロールの他の一例を示す縦断面図
である。

第１図において、被塗布支持体２は、先ず支持
ロール３に直接接触して塗布機１にて従来公知の
方法で塗布される。塗布された塗布層４をゲル化
させるため、該支持体２は冷風ゾーン８を通過す
る。該冷風ゾーン８ではスリツト板もしくは小孔
群７により塗布面４に冷風を当て、更に冷却効率
を上げるため、支持体２の塗布されていない面側
に２〜３mmの間隔を置いて且つ中央ボツクス５に
設置されたロール群６を接触させ、その反対側か
らサクシヨンしてロール６との接触面積を増大さ
せ、塗布層４を冷却ゲル化することが望ましい。
ゲル化された塗布層４を有する支持体２は続いて
本発明に係る塗布装置の支持ロール３′の無接触
支持部（被塗布支持体が接線方向に進入してくる
ロール表面の円周方向の位置から、進行方向を転
換して前記ロール表面から離れる円周方向の位置
までのロール表面部）にてその反対面に塗布層１
１が塗布機１′より塗布される。この無接触支持
部においては、表面にほぼ一様に形成された複数
個の気体噴出孔１０を有するロール曲面９から、
ゲル化された塗布層４の面に気体を噴出して被塗
布支持体２を無接触の状態で支持するものである
が、写真感光材料の製造においては、塗布された
層の湿潤状態又は乾燥後の膜厚は通常１％以下の
変動に抑える必要があり、そのためには塗布機
１′の先端部と被塗布支持体２の塗布されるべき
面との間隙をできるだけ一定に保つ必要がある。
この間隙の許容されるべき変動幅は、種々検討を
重ねた結果、数μ以下、最大でも10μ以下に抑え
る必要のあることがわかつた。本発明の方法によ
れば、無接触支持部におけるロール曲面９の曲率
半径を30〜200mmとし、噴出孔１０の開孔率を0.1
％以下とし、且つ第２図に示す如く、該噴出孔１
０の直径ｄ（噴出孔１０が同一直径に形成されな
い場合は、該噴出孔１０の最も狭い部分における
直径をいう。以下、同じ。）と該曲面の外表面か
ら内表面までの厚さｌの比ｄ／ｌを0.1以下にな
る様にして気体を噴出させ被塗布支持体２を無接
触支持することにより、各気体噴出孔１０におけ
る気体噴出量の変動をなくし、被塗布支持体２の
浮量変動を上記許容幅に抑えることができる。そ
の理由は以下の通りである。

被塗布支持体２の変動を引起す主な原因は、塗
布層１１を塗設されたのち該支持体２が支持ロー
ル曲面９による無接触支持部を通過するとフリー
の状態になり、一時期は全く支持されない状態に
なることにより、支持体２が走行方向に直角な方
向へ振れること、あるいは搬送系そのものに起因
する支持体２の浮量の変動である。そこで、支持
体２に加える張力の値を種々変化させた時の曲面
９の表面と、ゲル化された塗布層４の表面までの
距離、即ち浮き量との関係をグラフ化すると第３
図の如くなる。第３図のＡ曲線は開孔率１％、曲
面９の曲率半径100mm、ｄ＝２mm、ｌ＝５mm、気
体の供給圧＝500mmAqとした場合のもので、例え
ば、張力を0.1Kg／cmにした場合、張力変動がそ
の10％であるとすると、浮き量の変動は数十ミク
ロンにも及び、この場合には横段状の塗布ムラを
生じる。一方、第３図のＡ曲線の条件で開孔率を
小さくする、あるいは孔径ｄを小さくして深さｌ
を長くして本発明による条件すると、第３図のＢ
曲線に示す様なグラフとなる。このＢ曲線は開孔
率を0.05％、ｄ＝0.4mm、ｌ＝７mm（ｄ／ｌ＝
0.057）とし、供給圧＝1000mmAqとした場合のも
ので、張力を同じく0.1Kg／cmにとり、その変動
を10％とすると、浮き量の変動は数ミクロン〜10
ミクロンの範囲である。即ち、浮き量の変動を抑
えるには第３図のグラフで、通常使用する張力の
各点における曲線の傾きの絶対値が小さくなるこ
とが必要であり、そのためには開孔率を小さく
し、孔径ｄを小さく且つ深さｌを大きくとり、そ
れによつて噴出孔から噴出する気体の量が減るた
め、気体供給圧を大きくする必要のあることが判
明した。実験により種々検討した結果、写真感光
材料の製造の様に、非常に均一な膜厚分布を必要
とする場合には、上述の如く開孔率を0.1％以下、
噴出孔直径ｄと厚さｌとの比ｄ／ｌを0.1以下と
なる条件で気体を噴出させ、無接触支持すること
により、浮き量変動は許容幅に抑えることがきる
ことが判明した。

本発明の無接触支持部における気体噴出孔１０
は、支持ロールの中空部１２から高圧気体を供給
されるが、該中空部１２の気体の供給圧は、0.05
〜１Kg／cm²の範囲が望ましい。0.05Kg／cm²未満に
すると、曲面９の外表面とゲル化された塗布層４
の表面までの浮上距離（浮き上り量）が小さくな
り、両者が接触して塗布層４を乱す恐れがあり、
更に１Kg／cm²を越えると、噴出孔１０より流出す
る気体の流量が増加して上記浮上距離が大きくな
り、被塗布支持体２の変動（又は振動）が急激に
増大して塗布層１１に横段状の塗布故障が発生す
ることがある。又、開孔率及びｄ／ｌの値を前記
数値範囲外にとると気体噴出孔１０からの気体の
流出抵抗が減少することにより、流出流量が増減
して同様に浮上距離が大きくなり、被塗布支持体
の浮き量変動が許容幅を越えてしまう。また本発
明における曲面９の外表面の曲率は30〜200mmの
範囲である。30mm未満になると被塗布支持体２は
一定張力の下で搬送されているが、一定張力の下
でも無接触支持するために必要な曲面９の外表面
と塗布層４との間の圧力は増加ていくため、この
圧力によりゲル化した塗布層４が乱され易くな
る。又2200mmを越えると、張力変動に対する浮き
量変化が第３図に示すＡ曲線の如く大きくなり、
無接触支持部における支持体２の振動が大きくな
つて、均一な塗布ができなくなる。

本発明における無接触支持に用いる気体として
は、N₂ガス、フレオンガス、空気等、安全上問
題のないものであれば何でも良いが、最も一般的
には空気であり、更にこの空気もゲル化した塗布
層４に衝突するため、再びゾル化しない様に予め
０〜10℃程度に冷却しておくことが望ましい。無
接触支持部において反対面に塗布された被塗布支
持体２は、その後、図示しない冷風ゾーンにおい
て無接触の状態で両面に冷風を当てながら塗布層
１１をゲル化した後、図示しない無接触乾燥ゾー
ンへ搬送されていくが、本発明によれば、この無
接触でのゲル化する部分あるいは無接触乾燥ゾー
ンにおいて、被塗布支持体が走行方向に垂直な方
向に変動（又は振動）しても、無接触支持部にお
いて吸収されて伝播せず、均一な塗布が可能であ
ることがわかつた。尚、本発明で使用する被塗布
支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、
三酢酸セルロース等のプラスチツクフイルム、ペ
ーパー等写真感光材料用支持体等を使用すること
ができる。又無接触支持部での曲面９の材質は特
に制約はなく中空部１２の内圧に耐え得るもので
あれば何でも良いが、表面にハードクロムメツキ
を施したステンレス鋼あるいは真ちゆう鋼が望ま
しく、穴あけ加工の容易さを考えるとベークライ
トあるいはアクリル樹脂等のプラスチツク材料も
用いることができる。更に本発明にに用いられる
支持ロール３′における気体噴出孔１０は、第４
図に示す如く構成されてもよい。すなわち、ロー
ル曲面９の外表面から内表面側へ引込めた部分を
狭少となし（第４図の構成に変えて、狭少となす
ために別部材を挿入する構成としてもよいことは
勿論である。）、この狭小部分を実質的な気体噴出
孔１０の直径ｄとすることである。この場合のｌ
は第４図に示すように前記狭少部分の厚さになる
ことは勿論である。また本発明においては上記第
４図の構成とは逆に、ロール曲面９の内表面から
外表面側へ引込めた部分を狭少となし、この部分
を実質的な気体噴出孔１０の直径ｄとすることも
できる（図示せず。）。

又本発明を実施するに当つては、無接触支持部
においてゲル化された塗布層４に気体が衝突し、
該塗布層４がこの気体の動圧により乱されない様
にするため、無接触支持部に進入する直前の該塗
布層の温度を２〜10℃、好ましくは２〜５℃にし
て塗布層４のゲル強度を上げておくことが望まし
い。

本発明によれば次のような効果がある。

１） 被塗布支持体の片面に写真用感光液等の１
種以上の塗布液を塗布した後、該塗布層をゲル
化し、該ゲル化した塗布面を接触させることな
く連続して反対面に塗布する塗布部において、
複雑な装置を用いることなく簡便な装置で被塗
布支持体を浮上させ、浮上距離の変動を抑え
て、塗布機先端部と塗布されるべき面との間隙
を正確に保ちながら、均一な塗布が可能とな
る。

２） それによつて、塗布乾燥工程を１回通過さ
せるだけで被塗布支持体の両面にほとんど同時
に塗布できるため、生産効率を飛躍的に増大さ
せることが可能である。

以上、本発明について第１図〜第３図に基き本
発明の代表的実施態様について説明したが、本発
明の実施態様はこれに限定されず、無接触支持部
の気体噴出孔における各気体噴出量が実質的に変
動せずに被塗布支持体に衝突し、これを浮き上が
らせせる方式、即ち外乱による無接触支持部にお
ける支持体の浮き量変動を吸収可能な一定量が各
気体噴出孔から噴出される方式を実施できるもの
であれば、他の構成の塗布装置が採用されてもよ
い。また、２種以上の塗布液の塗布を行う場合
は、塗布液を供給するためのホツパーの数（第１
図の塗布機は２つのホツパーからなる）を増やす
ことにより達成される。

以下に本発明の具体的実施例を上げる。

実施例 １ 第１図に示す塗布装置において、幅1400mm（気
体噴出孔が存在する幅；1245mm）の支持ロール
３′の曲面９の曲率半径を100mm、無接触支持部に
ほぼ一様に形成される円筒状の気体噴出孔１０の
直径ｄを0.4mm、長さｌを15mm、開孔率を0.1％と
し、約７℃の冷却した空気を第２図に示す中空部
１２の圧力を0.2Kg／cm²として噴出させた。厚さ
0.18mm、幅1235mmのポリエチレンテレフタレート
フイルムを単位巾当りの張力を0.1Kg／cmとして
毎分60mの速度で搬送しながら、塗布機１にて、
ゼラチンをバインダーとしたレントゲン用のハロ
ゲン化銀乳剤を下層として、湿潤時の厚さ60μと
なるように、上層として保護層用セラチン水溶液
を湿潤時の厚さ20μとなるように２層同時に塗布
した。続けてスリツト板７より約５℃の冷風を塗
布面４に吹かせながらゲル化した後、無接触支持
部において上記条件にて無接触搬送しながら、塗
布機１′にて塗布機１と同じ条件でレントゲン用
乳剤、保護層用ゼラチン水溶液を２層同時に塗布
し、該塗布層１１をゲル化した後、乾燥した。得
られた塗布層１１は横段状の塗布故障もなく、均
一な膜厚であつた。また塗布層４も問題がなかつ
た。

実施例 ２ 実施例１において、他の条件は同一で塗布速度
を毎分100mとして両面に塗布し乾燥して得られ
たものは、横段状の塗布故障もなく、均一な膜厚
のものであつた。

実施例 ３ 第１図に示す塗布装置において幅1400mm（気体
噴出孔が存在する幅；1245mm）の支持ロール３′
の曲面９の曲率半径75mm、無接触支持部にほぼ一
様円筒状の気体噴出孔１０の直径ｄを0.3mm、深
さｌを10mm、開孔率を0.05％とし、中空部１２の
圧力を0.15Kg／cm²として、約７℃に冷却した空気
を噴出させ、無接触支持しながら厚さ0.1mm、幅
1235mmのポリエチレンテレフタレートフイルムを
単位巾当りの張力を0.1Kg／cmとして、毎分80m
の速度で搬送しながら、塗布機１にて下層液とし
て印刷感材用ハレーシヨン防止用の色素を溶解さ
せたゼラチン水溶液とを湿潤時の厚さ65μとなる
様に、上層液として保護層用ゼラチン水溶液を
25μになる様に同時に塗布した。続けて冷風ゾー
ン８にてゲル化した後、無接触支持部にて反対面
に、下層として印刷感材用ハロゲン化銀乳剤を
60μの湿潤厚さとなるように、上層として保護層
用ゼラチン水溶液を20μの湿潤時の厚さとなるよ
うに塗布し、該塗布層をゲル化した後乾燥し、得
られたものは、均一な塗布面をもつものであつ
た。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す塗布装置の縦
断面図であり、塗布方法としてスライドホツパー
による二層塗布方式を採用し、連続的に支持体の
両面に塗布する場合を示している。第２図は本発
明に用いられる支持ロールの一例を示す縦断面図
である。第３図は支持体の引張張力と無接触支持
部における支持体の浮き量との関係を示すグラフ
であつて、Ａ曲線が従来方式による場合、Ｂ曲線
が本発明方式による場合を示す。そして、第４図
は本発明に用いられる支持ロールの他の一例を示
す縦断面図である。 図中、１，１′は塗布機、２は支持体、３′はロ
ール、４，１１は塗布層、９はロール曲面、１０
は気体噴出孔、ｌは噴出口の深さ、ｄはその直径
を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一端がロールの中空部に連通し、他端がロー
   ルの表面に開口している複数の円筒状の気体噴出
   孔をほぼ一様に設けることにより前記ロール表面
   に形成された無接触支持部に対して、塗布される
   べき面とは反対側のゲル化した塗布層を有する面
   を向けて支持体を無接触支持させ、かつ、前記ロ
   ール表面の無接触支持部をかこむように進行方向
   を転換させて連続状に走行させながら、１種また
   は２種以上の塗布液をスライドホツパー塗布法に
   より塗布する塗布方法において、 前記支持体が接線方向に進入してくる前記ロー
   ル表面の円周方向の位置から、進行方向を転換し
   て、ロール表面から離れる該ロール表面の円周方
   向の位置までのロール表面に形成された無接触支
   持部の面積に対する前記気体噴出孔の総面積の比
   率が0.1％以下であり、 前記気体噴出孔の長さに対する該気体噴出孔の
   直径の比が0.1以下となるように構成したロール
   を用いるとともに、 前記ロールの中空部の圧力を0.05Kg／cm〜1.0
   Kg／cmに保つた状態で塗布することを特徴とする
   塗布方法。 ２ 前記支持体のゲル化した塗布層面は、前記無
   接触支持部に進入する直前に、２〜10℃に温度管
   理されることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の塗布方法。 ３ 前記支持体はポリエチレンテレフタレートフ
   イルムであり、該フイルムは単位幅あたり0.1
   Kg／cmの張力が付与されていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の塗布方法。