JPH02192017A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は非磁性支持体と磁性層からなる磁気記録媒体に
関するものであり、さらには少なくとも、2層以上の磁
性層を有する磁気記録媒体に関するものであり、特にビ
デオテープに関するものである。
関するものであり、さらには少なくとも、2層以上の磁
性層を有する磁気記録媒体に関するものであり、特にビ
デオテープに関するものである。
磁気記録媒体には、高度な特性が要求され、種々の改良
がなされている。これらの特性の1つとしてはS/N比
がある。塗布型の磁気テープのS/N比を良くするため
には強磁性体をバインダー中に均一に分散し、塗布した
磁性層に表面性を平滑にすることが要求される。このよ
うな観点から特開昭60−187931では、強磁性体
の吸着水分を0,8wt%以上に調湿することを規定し
ている。
がなされている。これらの特性の1つとしてはS/N比
がある。塗布型の磁気テープのS/N比を良くするため
には強磁性体をバインダー中に均一に分散し、塗布した
磁性層に表面性を平滑にすることが要求される。このよ
うな観点から特開昭60−187931では、強磁性体
の吸着水分を0,8wt%以上に調湿することを規定し
ている。
しかし、これらの技術においては強磁性体の水分を0,
8wt%以上としているため、分散性、配向性は向上す
るが、強磁性体表面の水分と塗布液中のインシアネート
化合物とが反応することにより、塗布液のポットライフ
が低下し、塗布して得た磁気テープの表面性が劣化する
。又、同様な理由からイソシアネート化合物の反応が速
くなり、塗膜の硬化も速くなる。この為実際の製造にお
いてはカレンダー成形性が劣化し、磁気テープ表面性が
低下し、必ずしも十分なS/N比が得られなかった。
8wt%以上としているため、分散性、配向性は向上す
るが、強磁性体表面の水分と塗布液中のインシアネート
化合物とが反応することにより、塗布液のポットライフ
が低下し、塗布して得た磁気テープの表面性が劣化する
。又、同様な理由からイソシアネート化合物の反応が速
くなり、塗膜の硬化も速くなる。この為実際の製造にお
いてはカレンダー成形性が劣化し、磁気テープ表面性が
低下し、必ずしも十分なS/N比が得られなかった。
本発明は、上述した問題点を解決すべくなされたもので
あって、非磁性支持体上に強磁性体を結合剤中に分散さ
せてなる磁性層を2層以上設けてなる磁気記録媒体にお
いて、上層に吸着水分を0゜3wt%以上2.3wt%
以下に調湿した強磁性体を用い、下層に吸着水分が0.
3wt%未満で上層の強磁性体よりも0.1wt%以上
吸着水分の少ない強磁性体を用いたことを特徴とした磁
気記録媒体に係るものである。上層および下層の強磁性
体の水分を調整することで、分散性、カレンダー成形性
、ポットライフが良好で、表面性がよく、S/N比の良
い磁気テープが得られる。
あって、非磁性支持体上に強磁性体を結合剤中に分散さ
せてなる磁性層を2層以上設けてなる磁気記録媒体にお
いて、上層に吸着水分を0゜3wt%以上2.3wt%
以下に調湿した強磁性体を用い、下層に吸着水分が0.
3wt%未満で上層の強磁性体よりも0.1wt%以上
吸着水分の少ない強磁性体を用いたことを特徴とした磁
気記録媒体に係るものである。上層および下層の強磁性
体の水分を調整することで、分散性、カレンダー成形性
、ポットライフが良好で、表面性がよく、S/N比の良
い磁気テープが得られる。
ここで上層の強磁性体の吸着水分は383wt%以上2
,3wt%以下が好ましく、特に0.8wt%以上1.
2wt%以下が好ましい。0.8wt%未満では、分
散性、配向性が劣り、S/N比が劣化して好ましくなく
、2,3wt%より大きいと混練が不十分になり角型比
が低下して好ましくない。又、下層の強磁性体の吸着水
分は0,8wt%未満が好ましく、特に0. 3wt%
以上0.8wt%未満で上層の強磁性体よりもO,1w
t%以上吸着水分の少ない方が好ましい。0. 3wt
%以上ではイソシアネート化合物の反応性が高まり、ポ
ットライフの低下、カレンダー成形性の低下のため表面
性が劣化して好ましくない。このように、本特許では上
層は分散性、配向性を高め、下層はカレンダー成形性、
ポットライフ向上により表面性を高めることで、S/N
比の高い磁気記録媒体が得られる。又、上下層の強磁性
体の水分の差が0.1wt%以上ないと上記の効果が明
確に出ない。
,3wt%以下が好ましく、特に0.8wt%以上1.
2wt%以下が好ましい。0.8wt%未満では、分
散性、配向性が劣り、S/N比が劣化して好ましくなく
、2,3wt%より大きいと混練が不十分になり角型比
が低下して好ましくない。又、下層の強磁性体の吸着水
分は0,8wt%未満が好ましく、特に0. 3wt%
以上0.8wt%未満で上層の強磁性体よりもO,1w
t%以上吸着水分の少ない方が好ましい。0. 3wt
%以上ではイソシアネート化合物の反応性が高まり、ポ
ットライフの低下、カレンダー成形性の低下のため表面
性が劣化して好ましくない。このように、本特許では上
層は分散性、配向性を高め、下層はカレンダー成形性、
ポットライフ向上により表面性を高めることで、S/N
比の高い磁気記録媒体が得られる。又、上下層の強磁性
体の水分の差が0.1wt%以上ないと上記の効果が明
確に出ない。
本発明で用いられる強磁性体としては、特に、制限はな
く、強磁性酸化鉄、コバルト添加の強磁性酸化鉄等の金
属酸化物系、例えば、rFe2O3、Co含有(被着、
変成、ドープ)のr−Fe203、Fe3O4、Co含
有(被着、変成、ドープ)のFe3O4、FeOx、C
o含有(被着、変成、ドープ)のFeOx (X=1.
33〜1、 50) 、cro2やRn、Te、5bS
Sr、Fe、TiSVSMnSCrzO+の少なくとも
一種類を含むCrO2等、合金あるいは金属単体系、例
えば、金属分が75重量%以上であり、そして金属分の
80重量%以上が少なくとも1種類の強磁性金属あるい
は合金(例、Fe、Co、Nl5Fe−CoSFe−N
iSCo−Ni、Co−Ni−Fe5Co−Ni−P、
Co−N1Fe−B、Fe−Ni−Zn5Fe−Co−
Cr)であり、該金属分の20重量%以下の範囲内で他
の成分(例、AI、Si、S、Sc、Ti、v。
く、強磁性酸化鉄、コバルト添加の強磁性酸化鉄等の金
属酸化物系、例えば、rFe2O3、Co含有(被着、
変成、ドープ)のr−Fe203、Fe3O4、Co含
有(被着、変成、ドープ)のFe3O4、FeOx、C
o含有(被着、変成、ドープ)のFeOx (X=1.
33〜1、 50) 、cro2やRn、Te、5bS
Sr、Fe、TiSVSMnSCrzO+の少なくとも
一種類を含むCrO2等、合金あるいは金属単体系、例
えば、金属分が75重量%以上であり、そして金属分の
80重量%以上が少なくとも1種類の強磁性金属あるい
は合金(例、Fe、Co、Nl5Fe−CoSFe−N
iSCo−Ni、Co−Ni−Fe5Co−Ni−P、
Co−N1Fe−B、Fe−Ni−Zn5Fe−Co−
Cr)であり、該金属分の20重量%以下の範囲内で他
の成分(例、AI、Si、S、Sc、Ti、v。
Cr、Mn、CuSZn、Y、Mo1RhSPd。
Ag5STI、5bSTe、Ba、Ta、WSRe、A
u、Hg、Pb、Bi、La、Ce、Pr。
u、Hg、Pb、Bi、La、Ce、Pr。
Nd、B、P)を含むことのある合金等、その他の金属
系、例えば、窒化鉄、あるいは合金系に水酸化物または
酸化物を含むもの等、更に、これら系の混合系が挙げら
れる。
系、例えば、窒化鉄、あるいは合金系に水酸化物または
酸化物を含むもの等、更に、これら系の混合系が挙げら
れる。
これらの強磁性体を用いた場合の塗布液の含水率は、0
,00〜0.5Qwt%である。これらの強磁性体は、
1wt%以内でS r、PbSMn。
,00〜0.5Qwt%である。これらの強磁性体は、
1wt%以内でS r、PbSMn。
N1、Cd、Cr、AI、S i、T+、Cu、Zn等
の重金属を含む事が好ましい。これらの強磁性体にアル
ミナ等を被着、溶融させてもよい。
の重金属を含む事が好ましい。これらの強磁性体にアル
ミナ等を被着、溶融させてもよい。
また本発明に使用する強磁性体としては、板状六万品の
バリウムフェライトも使用できる。バリウムフェライト
の粒子サイズは約0.001〜1ミクロンの直径で厚み
が直径の1/2〜1/20である。バリウムフェライト
の比重は4〜6g/CCで、比表面積は1 m’/ g
〜70 m’/ gである。
バリウムフェライトも使用できる。バリウムフェライト
の粒子サイズは約0.001〜1ミクロンの直径で厚み
が直径の1/2〜1/20である。バリウムフェライト
の比重は4〜6g/CCで、比表面積は1 m’/ g
〜70 m’/ gである。
これらの強磁性体の表面には後で述べる分散剤、潤滑剤
、帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先立って
溶剤中で含浸させて、吸着させてもよい。
、帯電防止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先立って
溶剤中で含浸させて、吸着させてもよい。
特に、強磁性合金粉末の製造方法の例としては、下記の
方法を挙げることができる。
方法を挙げることができる。
(a)複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)を水素など
の還元性気体で還元する方法: (b)酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してFeあ
るいはFe−Co粒子などを得る方法: (c)金属カルボニル化合物を熱分解する方法(d)強
磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン
酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元す
る方法 (e)水銀陰極を用い強磁性合金粉末を電解析出させた
のち水銀と分離する方法; (f)金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法; 強磁性合金粉末を使用する場合に、その形状にとくに制
限はないが通常は針状、粒状、サイコロ状、米粒状およ
び板状のものが使用される。この強磁性合金粉末の比表
面積(SRET )は35m’/g以上、好ましくは、
40m”72以上、更に好ましくは、45m’/g以上
である。
の還元性気体で還元する方法: (b)酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してFeあ
るいはFe−Co粒子などを得る方法: (c)金属カルボニル化合物を熱分解する方法(d)強
磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン
酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元す
る方法 (e)水銀陰極を用い強磁性合金粉末を電解析出させた
のち水銀と分離する方法; (f)金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法; 強磁性合金粉末を使用する場合に、その形状にとくに制
限はないが通常は針状、粒状、サイコロ状、米粒状およ
び板状のものが使用される。この強磁性合金粉末の比表
面積(SRET )は35m’/g以上、好ましくは、
40m”72以上、更に好ましくは、45m’/g以上
である。
上層の強磁性体の抗磁力は下層より大きい方が好ましく
、BET法による比表面積は下層より大きく、平均長軸
径、結晶子サイズは下層より小さい方が好ましい。
、BET法による比表面積は下層より大きく、平均長軸
径、結晶子サイズは下層より小さい方が好ましい。
さらに、本発明の含水量を強磁性体に与えるには、特に
新しい手法を用いなくとも可能である。
新しい手法を用いなくとも可能である。
それは、例えば、コバルト添加の強磁性体酸化鉄を作る
工程において可能である。つまり、酸化鉄磁性粉末にコ
バルト化合物を被着し、ついで水洗、濾過、乾燥を行う
に当たり、その乾燥工程において、水分を制御すること
により可能である。または、後工程として調湿工程を設
けることにより達成することができる。
工程において可能である。つまり、酸化鉄磁性粉末にコ
バルト化合物を被着し、ついで水洗、濾過、乾燥を行う
に当たり、その乾燥工程において、水分を制御すること
により可能である。または、後工程として調湿工程を設
けることにより達成することができる。
又、本発明における含水量は、カールフィッシャー法に
よる水分測定の原理を用いて測定したものを言う。
よる水分測定の原理を用いて測定したものを言う。
又、上層の厚みは1.5μ以下が好ましく、更に好まし
くは、1.0μ以下、最も好ましくは0゜5μ以下であ
る。
くは、1.0μ以下、最も好ましくは0゜5μ以下であ
る。
さらに塗布方式は特願昭62−124631に示された
ような同時重層塗布方式を用いても良い。
ような同時重層塗布方式を用いても良い。
本発明の磁性層あるいは所望により設けられるバック層
に使用されるバインダーとしては従来公知の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用
される。
に使用されるバインダーとしては従来公知の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用
される。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分
子量が10000〜300000、重合度が約50〜2
000程度のもので、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重
合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン
共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、アク
リル酸エステルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸
エステル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル
スチレン共重合体、メタクリル酸エステルアクリロニト
リル共重合体、メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共
重合体、メタクリル酸エステルスチレン共重合体、ウレ
タンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロ
セルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化
ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタジェンアク
リロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブ
チラール、セルロース誘導体(セルロースアセテートブ
チレート、セルロースダイアセテート、セルローストリ
アセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロ
ース、エチルセルロース、メチルセルロース、プロピル
セルロース、メチルエチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、アセチルセルロース等)、スチレンブタ
ジェン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエー
テルアクリル酸エステル共重合体、アミン樹脂、各種の
合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用
される。
子量が10000〜300000、重合度が約50〜2
000程度のもので、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重
合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン
共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル共重合体、アク
リル酸エステルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸
エステル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル
スチレン共重合体、メタクリル酸エステルアクリロニト
リル共重合体、メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共
重合体、メタクリル酸エステルスチレン共重合体、ウレ
タンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロ
セルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化
ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブタジェンアク
リロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブ
チラール、セルロース誘導体(セルロースアセテートブ
チレート、セルロースダイアセテート、セルローストリ
アセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロ
ース、エチルセルロース、メチルセルロース、プロピル
セルロース、メチルエチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、アセチルセルロース等)、スチレンブタ
ジェン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエー
テルアクリル酸エステル共重合体、アミン樹脂、各種の
合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用
される。
熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では
200000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱
することにより、縮合、付加等の反応により分子量は無
限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好まし
い。具体的には例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂
、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、
メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセル
ロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイン
シアネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重
合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリニ
ステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿
素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子
量ジオール/トリフェニルメタントリイソシアネートの
混合物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの
混合物等である。
200000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱
することにより、縮合、付加等の反応により分子量は無
限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好まし
い。具体的には例えばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂
、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、
メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセル
ロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイン
シアネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重
合体とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリニ
ステルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿
素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子
量ジオール/トリフェニルメタントリイソシアネートの
混合物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの
混合物等である。
これらの結合剤の単独又は組合わされたものが使われ、
ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁性体と結合剤
との混合割合は重量比で強磁性体100重量部に対して
結合剤5〜300重量部の範囲で使用される。バック層
の微粉末と結合剤の混合割合は重量比で微粉末100重
量部に対して結合剤30〜300重量部の範囲で使用さ
れる。
ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁性体と結合剤
との混合割合は重量比で強磁性体100重量部に対して
結合剤5〜300重量部の範囲で使用される。バック層
の微粉末と結合剤の混合割合は重量比で微粉末100重
量部に対して結合剤30〜300重量部の範囲で使用さ
れる。
添加剤は分散剤、潤滑剤、研磨剤、帯電防止剤、酸化防
止剤、溶剤等がくわえられる。
止剤、溶剤等がくわえられる。
これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂は、
主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸、スルフィ
ン酸、スルフ・エン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸、ホス
ホン、ホスフィン、ホウ酸、硫酸エステル基、燐酸エス
テル基、これらのアルキルエステル基等の酸性基(これ
らの酸性基は、Na塩などの形でもよい〉、アミノ酸類
;アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または
燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性類基、ア
ミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基、エポキシ基、
等また、水酸基、アルコキシル基、チオール基、ハロゲ
ン基、シリル基、シロキサン基を通常1種以上6種以内
含み、各々の官能基は樹脂1gあたり1 x 10−6
e q−1x 10−2e q含む事が好ましい。
主たる官能基以外に官能基としてカルボン酸、スルフィ
ン酸、スルフ・エン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸、ホス
ホン、ホスフィン、ホウ酸、硫酸エステル基、燐酸エス
テル基、これらのアルキルエステル基等の酸性基(これ
らの酸性基は、Na塩などの形でもよい〉、アミノ酸類
;アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または
燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性類基、ア
ミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基、エポキシ基、
等また、水酸基、アルコキシル基、チオール基、ハロゲ
ン基、シリル基、シロキサン基を通常1種以上6種以内
含み、各々の官能基は樹脂1gあたり1 x 10−6
e q−1x 10−2e q含む事が好ましい。
本発明にもちいるポリイソシアネートとしては、トリレ
ンジイソンアネート、4.4’−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシ
リレンジイソシアネート、ナフチレン−15−ジイソシ
アネート、0−トルイジンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシア
ネート、インホロンジイソシアネート等のイソシアネー
ト類、又当該イソシアネート類とポリアルコールとの生
成物、又イソシアネート類の縮合に依って生成した2〜
15量体のポリイソシアネート等を使用することができ
る。これらポリイソシアネート類の平均分子量は、10
0〜20000のものが好適である。これらポリイソシ
アネートの市販されている商品名としては、コロネート
しいコロネートHL、コロネート2030、コロネート
2031、ミリオネートMR,ミリオネートMTL(日
本ポリウレタン■製)、タケネートD−102、タケネ
ートD−LLON、タケネートD−200、タケネー)
D−202、タケネート300S1タケネート500
(武田薬品■製)、スミジュールT−80、スミジュー
ル44S1スミジユールPF、スミジュールL1スミジ
ュールN1デスモジュールL1デスモジュールIL、デ
スモジュールN1デスモジュールHL、デスモジュール
T65、デスモジュール15、デスモジュールR1デス
モジニールRF、テ°スモジニールSL、デスモジュー
ルZ4273 (住友バイエル社製)等があり、これら
を単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若しくは
それ以上の組み合わせによって使用することができる。
ンジイソンアネート、4.4’−ジフェニルメタンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシ
リレンジイソシアネート、ナフチレン−15−ジイソシ
アネート、0−トルイジンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシア
ネート、インホロンジイソシアネート等のイソシアネー
ト類、又当該イソシアネート類とポリアルコールとの生
成物、又イソシアネート類の縮合に依って生成した2〜
15量体のポリイソシアネート等を使用することができ
る。これらポリイソシアネート類の平均分子量は、10
0〜20000のものが好適である。これらポリイソシ
アネートの市販されている商品名としては、コロネート
しいコロネートHL、コロネート2030、コロネート
2031、ミリオネートMR,ミリオネートMTL(日
本ポリウレタン■製)、タケネートD−102、タケネ
ートD−LLON、タケネートD−200、タケネー)
D−202、タケネート300S1タケネート500
(武田薬品■製)、スミジュールT−80、スミジュー
ル44S1スミジユールPF、スミジュールL1スミジ
ュールN1デスモジュールL1デスモジュールIL、デ
スモジュールN1デスモジュールHL、デスモジュール
T65、デスモジュール15、デスモジュールR1デス
モジニールRF、テ°スモジニールSL、デスモジュー
ルZ4273 (住友バイエル社製)等があり、これら
を単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若しくは
それ以上の組み合わせによって使用することができる。
又、硬化反応を促進する目的で、水酸基(ブタンジオー
ル、ヘキサンジオール、分子量が1000〜10000
のポリウレタン、水 等)、アミノ基(モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン等)を有する化
合物や金属酸化物の触媒を併用する事も出来る。
ル、ヘキサンジオール、分子量が1000〜10000
のポリウレタン、水 等)、アミノ基(モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン等)を有する化
合物や金属酸化物の触媒を併用する事も出来る。
これらの水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能であ
る事が望ましい。これらのポリイソシアネートはバイン
ダー総量の5〜4 Qwt%で用いることが好ましい。
る事が望ましい。これらのポリイソシアネートはバイン
ダー総量の5〜4 Qwt%で用いることが好ましい。
本発明に使用する分散剤としては、カプリル酸、カプリ
ン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステ
アリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノ
ール酸、リルン酸、ステアロール酸等の炭素数10〜2
6個の脂肪酸(RICOOH,R,は炭素数9〜25個
のアルキル基)、前記の脂肪酸のアルカリ金属(L i
、Na5KsNH,Φ等)またはアルカリ土類金属(M
g、CaBa等)、Cu、Pb等から成る金属石鹸、上
記脂肪酸の脂肪酸アミド;レシチン等が使用される。こ
の他に炭素数4以上の高級アルコール(ブタノ−ル、オ
クチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリル
アルコール)及びこれらの硫酸エステル、燐酸エステル
、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリアルキ
レンオキサイド及びこれらの硫酸エステル、燐酸エステ
ル、アミン化合物等やスルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エス
テル等も使用可能である。これらの化合物にはバインダ
ーとの相溶性や特性を変えることから81、Fの置換基
を導入することも可能である。これらの分散剤は通常一
種類以上で用いられ、一種類の分散剤は結合剤100重
量部に対して0.005〜20重量部の範囲で添加され
る。これら分散剤の使用方法は、強磁性体や非磁性微粉
末の表面に予め被着させても良く、また分散途中で添加
してもよい。
ン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステ
アリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノ
ール酸、リルン酸、ステアロール酸等の炭素数10〜2
6個の脂肪酸(RICOOH,R,は炭素数9〜25個
のアルキル基)、前記の脂肪酸のアルカリ金属(L i
、Na5KsNH,Φ等)またはアルカリ土類金属(M
g、CaBa等)、Cu、Pb等から成る金属石鹸、上
記脂肪酸の脂肪酸アミド;レシチン等が使用される。こ
の他に炭素数4以上の高級アルコール(ブタノ−ル、オ
クチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリル
アルコール)及びこれらの硫酸エステル、燐酸エステル
、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリアルキ
レンオキサイド及びこれらの硫酸エステル、燐酸エステ
ル、アミン化合物等やスルホ琥珀酸、スルホ琥珀酸エス
テル等も使用可能である。これらの化合物にはバインダ
ーとの相溶性や特性を変えることから81、Fの置換基
を導入することも可能である。これらの分散剤は通常一
種類以上で用いられ、一種類の分散剤は結合剤100重
量部に対して0.005〜20重量部の範囲で添加され
る。これら分散剤の使用方法は、強磁性体や非磁性微粉
末の表面に予め被着させても良く、また分散途中で添加
してもよい。
このほかに分散剤として好ましい化合物としては、カル
ボン酸、燐酸エステル等の界面活性剤やフッ素系界面活
性剤フロラードFC95、FCl29、FC430、F
C431を用いる事ができる。
ボン酸、燐酸エステル等の界面活性剤やフッ素系界面活
性剤フロラードFC95、FCl29、FC430、F
C431を用いる事ができる。
本発明の磁性層あるいはバック層に使用される潤滑剤、
酸化防止剤としては、二硫化モリブデン、窒化硼酸、弗
化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化硅素、酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステン等の
無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベンゾグ
アナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオ
レフィン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポ
リアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリ
弗化エチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末、シリコンオ
イル、脂肪酸変性シリコンオイル、グラファイト、弗化
アルコール、ポリオレフィン(ポリエチレンワックス等
)、ポリグリコール(ポリエチレンオキシドワックス等
)、テトラフルオロエチレンオキシドワックス、ポリテ
トラフルオログリコール、パーフルオロ脂肪酸、パーフ
ルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキル硫酸エス
テノペパーフルオロアルキル燐酸エステル、アルキル燐
酸エステル、ポリフェニルエーテル、炭素数10〜20
の一塩基性脂肪酸と炭素数3〜12個の−価のアルコー
ルもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価
のアルコール、六価のアルコールのいずれか1つもしく
は2つ以上とから成る脂肪酸エステル類、炭素数10個
以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭
素数が11〜28個と成る一価〜六価のアルコールから
成る脂肪酸エステル類等の有機化合物潤滑剤が使用でき
る。又、炭素数8〜22の脂肪酸或いは脂肪酸アミド、
脂肪族アルコールも使用できる。
酸化防止剤としては、二硫化モリブデン、窒化硼酸、弗
化黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化硅素、酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステン等の
無機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベンゾグ
アナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオ
レフィン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポ
リアミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリ
弗化エチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末、シリコンオ
イル、脂肪酸変性シリコンオイル、グラファイト、弗化
アルコール、ポリオレフィン(ポリエチレンワックス等
)、ポリグリコール(ポリエチレンオキシドワックス等
)、テトラフルオロエチレンオキシドワックス、ポリテ
トラフルオログリコール、パーフルオロ脂肪酸、パーフ
ルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキル硫酸エス
テノペパーフルオロアルキル燐酸エステル、アルキル燐
酸エステル、ポリフェニルエーテル、炭素数10〜20
の一塩基性脂肪酸と炭素数3〜12個の−価のアルコー
ルもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価
のアルコール、六価のアルコールのいずれか1つもしく
は2つ以上とから成る脂肪酸エステル類、炭素数10個
以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭
素数が11〜28個と成る一価〜六価のアルコールから
成る脂肪酸エステル類等の有機化合物潤滑剤が使用でき
る。又、炭素数8〜22の脂肪酸或いは脂肪酸アミド、
脂肪族アルコールも使用できる。
これら有機化合物潤滑剤の具体的な例としては、カプリ
ル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチル、
ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチン酸
エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸エチル、パ
ルミチン酸エチル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸
オクチル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル、
ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、アンヒド
ロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタンジ
ステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、
アンヒドロソルビクンテトラステアレート、アンヒドロ
ソルビクンエチレンオキシドモノステアレート、オレイ
ルオレート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール
等が有り単独若しくは組合わせ使用出来る。また本発明
に使用される潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独若
しくは組合わせで使用出来、酸化防止剤(アルキルフェ
ノール等)、錆どめ剤(ナフテン酸、アルケニルコハク
酸、ジラウリルフォスフェート等)、油性剤(ナタネ油
、ラウリルアルコール等)、極圧剤(ジベンジルスルフ
ィド、トリクレジルフォスフェート、トリブチルホスフ
ァイト等)、清浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下
剤、泡どめ剤等がある。これらの潤滑剤は結合剤100
重量部に対して0.05〜20重量部の範囲で添加され
る。
ル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチル、
ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチン酸
エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸エチル、パ
ルミチン酸エチル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸
オクチル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル、
ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、アンヒド
ロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタンジ
ステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、
アンヒドロソルビクンテトラステアレート、アンヒドロ
ソルビクンエチレンオキシドモノステアレート、オレイ
ルオレート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール
等が有り単独若しくは組合わせ使用出来る。また本発明
に使用される潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独若
しくは組合わせで使用出来、酸化防止剤(アルキルフェ
ノール等)、錆どめ剤(ナフテン酸、アルケニルコハク
酸、ジラウリルフォスフェート等)、油性剤(ナタネ油
、ラウリルアルコール等)、極圧剤(ジベンジルスルフ
ィド、トリクレジルフォスフェート、トリブチルホスフ
ァイト等)、清浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下
剤、泡どめ剤等がある。これらの潤滑剤は結合剤100
重量部に対して0.05〜20重量部の範囲で添加され
る。
また、酸化防止剤としてはベンゾトリアジン、ベンゾチ
アゾール、ベンゾジアジン、EDTA等の複素環化合物
、複素化合物を用いる事ができる。
アゾール、ベンゾジアジン、EDTA等の複素環化合物
、複素化合物を用いる事ができる。
本発明に用いる帯電防止剤としてはグラファイト、カー
ボンブラック、カーボンブラックグラフトポリマー、酸
化錫−酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−
酸化アンチモン、等の導電性粉末;サポニン等の天然界
面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、多価アルコール、多価アルコールエステ
ル、アルキルフェノールEO付加体等のノニオン界面活
性剤;高級アルキルアミン類、環状アミン、ヒダントイ
ン誘導体、アミドアミン、エステルアミド、第四級アン
モニウム塩類、ピリジンそのほかの複素環類、ホスホニ
ウムまたはスルホニウム類、等のカチオン界面活性剤;
カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸
エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤;ア
ミノ酸類・アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫
酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性
界面活性剤等が使用される。これらの界面活性剤は単独
または混合して添加しても良い。また、これらの界面活
性剤は磁気記録媒体の表面に1mg/ my〜550m
g/m’オーバーコートしても良い。
ボンブラック、カーボンブラックグラフトポリマー、酸
化錫−酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−
酸化アンチモン、等の導電性粉末;サポニン等の天然界
面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、多価アルコール、多価アルコールエステ
ル、アルキルフェノールEO付加体等のノニオン界面活
性剤;高級アルキルアミン類、環状アミン、ヒダントイ
ン誘導体、アミドアミン、エステルアミド、第四級アン
モニウム塩類、ピリジンそのほかの複素環類、ホスホニ
ウムまたはスルホニウム類、等のカチオン界面活性剤;
カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸
エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤;ア
ミノ酸類・アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫
酸または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性
界面活性剤等が使用される。これらの界面活性剤は単独
または混合して添加しても良い。また、これらの界面活
性剤は磁気記録媒体の表面に1mg/ my〜550m
g/m’オーバーコートしても良い。
磁気記録媒体における、これらの界面活性剤の使用量は
、強磁性体100重量部当たり0.01〜10重量部で
ある。これらは帯電防止剤として用いられるものである
が、時としてそのほかの目的、例えば分散、磁気特性の
改良、潤滑性の改良、塗布助剤として適用される場合も
ある。
、強磁性体100重量部当たり0.01〜10重量部で
ある。これらは帯電防止剤として用いられるものである
が、時としてそのほかの目的、例えば分散、磁気特性の
改良、潤滑性の改良、塗布助剤として適用される場合も
ある。
本発明に用いる磁性層あるいはバック層の研磨剤として
は一般に使用される研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材
料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、α−γ−アルミナ
、熔融アルミナ、炭化硅素、酸化クロム、酸化セリウム
、コランダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ
石、エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)、ガーネ
ット、珪石、窒化硅素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭
化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、クォー
ツ、トリポリ、珪藻土、ドロマイト等で、主としてモー
ス硬度6以上より好ましくはモース硬度8以上の材料が
1内至4種迄の組合わせで使用される、これらの研磨剤
は平均粒子サイズが0゜005〜5ミクロンの大きさの
ものが使用され、特に好ましくは0.01〜2ミクロン
である。これらの研磨剤は結合剤100重量部に対して
0゜01〜20重量部の範囲で添加される。
は一般に使用される研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材
料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、α−γ−アルミナ
、熔融アルミナ、炭化硅素、酸化クロム、酸化セリウム
、コランダム、人造ダイヤモンド、α−酸化鉄、ザクロ
石、エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)、ガーネ
ット、珪石、窒化硅素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭
化硼素、炭化タングステン、チタンカーバイド、クォー
ツ、トリポリ、珪藻土、ドロマイト等で、主としてモー
ス硬度6以上より好ましくはモース硬度8以上の材料が
1内至4種迄の組合わせで使用される、これらの研磨剤
は平均粒子サイズが0゜005〜5ミクロンの大きさの
ものが使用され、特に好ましくは0.01〜2ミクロン
である。これらの研磨剤は結合剤100重量部に対して
0゜01〜20重量部の範囲で添加される。
本発明の分散、混練、塗布の際に使用する有機溶媒とし
ては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン
、テトラヒドロフラン等のケトン系;メタノール、エタ
ノール、プロパツール、ブタノール、イソブチルアルコ
ーノヘイソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノ
ールなどのアルコール系;酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エ
チル、酢酸クリコールモノエチルエーテル等のエステル
系;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、グリコー
ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、
ジオキサンなどのエーテル系;ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレンなどの
タール系(芳香族炭化水素);メチレンクロライド、エ
チレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレ
ンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水
素、N、N−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサン等の
ものが使用できる。
ては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン
、テトラヒドロフラン等のケトン系;メタノール、エタ
ノール、プロパツール、ブタノール、イソブチルアルコ
ーノヘイソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノ
ールなどのアルコール系;酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エ
チル、酢酸クリコールモノエチルエーテル等のエステル
系;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、グリコー
ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、
ジオキサンなどのエーテル系;ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレンなどの
タール系(芳香族炭化水素);メチレンクロライド、エ
チレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレ
ンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水
素、N、N−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサン等の
ものが使用できる。
混練の方法には特に制限はなく、また各成分の添加順序
などは適宜設定することができる。磁性塗料およびバッ
ク層塗料の調製には通常の混練機、例えば、二本ロール
ミノペ三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロ
ンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ (Szegv
ar i) 、アトライター、高速インペラー、分散機
、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、デイスパー、ニ
ーダ−高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダーイ
ンテンシブミキサー、タンブラ−、ブレンダーディスパ
ーザー、ホモジナイザー、車軸スクリュー押し出し機、
二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機などを用
いることができる。混線分散に関する技術の詳細は、T
、C0FATTON著(チー、シー、パラトン)“Pa
1nt Flow andPigment Dispe
rsion” (ペイント フロー アンド ピグメ
ント ディスバージョン)1964年John Wil
ey & 5ons社発行(ジョン ウイリーアンド
サンズ)や田中信−著「工業材料」25巻37 (1
977>などや当該書籍の引用文献に記載されており、
連続処理の為これらの混線分散機を適宜組み合わせ送液
し塗布する。また、米国特許第2581414号及び同
第2855156号などの明細書にも記載がある。本発
明においても上記の書籍や当該書籍の引用文献などに記
載された方法に準じて混線分散を行い磁性塗料およびバ
ック層塗料を調製することができる。
などは適宜設定することができる。磁性塗料およびバッ
ク層塗料の調製には通常の混練機、例えば、二本ロール
ミノペ三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロ
ンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ (Szegv
ar i) 、アトライター、高速インペラー、分散機
、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、デイスパー、ニ
ーダ−高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダーイ
ンテンシブミキサー、タンブラ−、ブレンダーディスパ
ーザー、ホモジナイザー、車軸スクリュー押し出し機、
二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機などを用
いることができる。混線分散に関する技術の詳細は、T
、C0FATTON著(チー、シー、パラトン)“Pa
1nt Flow andPigment Dispe
rsion” (ペイント フロー アンド ピグメ
ント ディスバージョン)1964年John Wil
ey & 5ons社発行(ジョン ウイリーアンド
サンズ)や田中信−著「工業材料」25巻37 (1
977>などや当該書籍の引用文献に記載されており、
連続処理の為これらの混線分散機を適宜組み合わせ送液
し塗布する。また、米国特許第2581414号及び同
第2855156号などの明細書にも記載がある。本発
明においても上記の書籍や当該書籍の引用文献などに記
載された方法に準じて混線分散を行い磁性塗料およびバ
ック層塗料を調製することができる。
磁性層の形成は上記の組成などを任意に組合せて有機溶
媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥する
。テープとして使用する場合には支持体の厚み2.5〜
100ミクロン程度、好ましくは3〜70ミクロン程度
が良い。ディスクもしくはカード状の場合は厚みが0.
03〜10m0程度であり、ドラムの場合は円筒状で用
いる事も出来る。素材としてはポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、
ポリプロピレン、ポリエチレン等ポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等
のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン等のビニル系樹脂類、ポリカーボネート、ポリアミ
ド、ポリスルホン等のプラスチックのほかにアルミニウ
ム、銅等の金属、ガラス等のセラミックス等も使用出来
る。これらの支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理
、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属
蒸着処理、アルカリ処理をおこなってもよい。
媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥する
。テープとして使用する場合には支持体の厚み2.5〜
100ミクロン程度、好ましくは3〜70ミクロン程度
が良い。ディスクもしくはカード状の場合は厚みが0.
03〜10m0程度であり、ドラムの場合は円筒状で用
いる事も出来る。素材としてはポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、
ポリプロピレン、ポリエチレン等ポリオレフィン類、セ
ルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等
のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン等のビニル系樹脂類、ポリカーボネート、ポリアミ
ド、ポリスルホン等のプラスチックのほかにアルミニウ
ム、銅等の金属、ガラス等のセラミックス等も使用出来
る。これらの支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理
、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属
蒸着処理、アルカリ処理をおこなってもよい。
支持体上へ前記の磁性層ならびにバック層を塗布する方
法としてはエアードクターコート、ブレードコート、エ
アナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバー
スロールコート、トランスファーロールコート、グラビ
アコート、キスコート、キャストコート、スプレィコー
ト、バーコード、スピンコード等が利用出来、その他の
方法も可能であり、これらの具体的説明は浅倉書店発行
の「コーティング工業」253頁〜277頁(昭和46
. 3. 20.発行)に詳細に記載されている。特に
、磁性層が多層構造の場合、下層用塗布液と上層用塗布
液を湿潤状態重畳して塗布するいわゆるウェットオンウ
ェット塗布方式が好ましい。
法としてはエアードクターコート、ブレードコート、エ
アナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバー
スロールコート、トランスファーロールコート、グラビ
アコート、キスコート、キャストコート、スプレィコー
ト、バーコード、スピンコード等が利用出来、その他の
方法も可能であり、これらの具体的説明は浅倉書店発行
の「コーティング工業」253頁〜277頁(昭和46
. 3. 20.発行)に詳細に記載されている。特に
、磁性層が多層構造の場合、下層用塗布液と上層用塗布
液を湿潤状態重畳して塗布するいわゆるウェットオンウ
ェット塗布方式が好ましい。
ウェットオンウェット方式としては特開昭611399
29号公報に記載の塗布方法を用いることができる。
29号公報に記載の塗布方法を用いることができる。
また、上記の強磁性粉末と結合剤の分散方法および支持
体への塗布方法などの詳細は特開昭5446011号お
よび同54−21805号等の各公報に記載されている
。
体への塗布方法などの詳細は特開昭5446011号お
よび同54−21805号等の各公報に記載されている
。
このような方法により、支持体上に塗布された磁性層は
必要により層中の強磁性粉末を直ちに乾燥しながら所望
の方向へ配向させる処理を施したのち、形成した磁性層
を乾燥する。このときの支持体の搬送速度は、通常10
m/分〜1000m/分でおこなわれ、乾燥温度が20
℃〜130℃で制御される。又必要により表面平滑化加
工を施したり、所望の形状に裁断したりして、本発明の
磁気記録体を製造する。これらの製造方法はフィラーの
表面処理、混練・分散、塗布、熱処理、カレンダー放射
線照射(EB)処理、表面研磨処理、裁断の工程を連続
して行う事が好ましい。また必要に応じて幾つかに工程
を分ける事ができる。
必要により層中の強磁性粉末を直ちに乾燥しながら所望
の方向へ配向させる処理を施したのち、形成した磁性層
を乾燥する。このときの支持体の搬送速度は、通常10
m/分〜1000m/分でおこなわれ、乾燥温度が20
℃〜130℃で制御される。又必要により表面平滑化加
工を施したり、所望の形状に裁断したりして、本発明の
磁気記録体を製造する。これらの製造方法はフィラーの
表面処理、混練・分散、塗布、熱処理、カレンダー放射
線照射(EB)処理、表面研磨処理、裁断の工程を連続
して行う事が好ましい。また必要に応じて幾つかに工程
を分ける事ができる。
これらの工程においては、温度、湿度が制御され、温度
は10℃〜130°、湿度は空気中の水分量で表すと、
5 m g / m’〜20mg/m’である。
は10℃〜130°、湿度は空気中の水分量で表すと、
5 m g / m’〜20mg/m’である。
これらは、例えば、特公昭40−23625号公報、特
公昭3 !It−28368号公報、米日特許第347
3960号明細書、等にしめされている。
公昭3 !It−28368号公報、米日特許第347
3960号明細書、等にしめされている。
又、特公昭41−13181号公報にしめされる方法は
この分野における基本的、且つ重要な技術と考えられて
いる。
この分野における基本的、且つ重要な技術と考えられて
いる。
以下に本発明を実施例により更に具体的に説明する。こ
こに示す成分、割合、操作順序等は本発明の精神から逸
脱しない範囲において変更しうるものであることは本業
界に携わるものにとっては容易に理解されることである
。
こに示す成分、割合、操作順序等は本発明の精神から逸
脱しない範囲において変更しうるものであることは本業
界に携わるものにとっては容易に理解されることである
。
従って、本発明は下記の実施例に制限されるべきではな
い。尚、実施例及び比較例中の部は重・置部をしめす。
い。尚、実施例及び比較例中の部は重・置部をしめす。
(実施例)
塗布液 A (上層)
コバルト含有酸化鉄(水分は第1表)100部(抗磁力
=690エルステッド、平均長軸径=0.2μ、結晶子
サイズ=330オングストローム)塩化ビニル酢酸ビニ
ル共重合体 15部(カルボキシル基0.5%
含有、重合度42o)ポリエステルポリウレタン
5部(カルボキシル基0.3%含有) ポリイソシアネート(コロネー)L) 6.7部オ
レイン酸 2部ブチルス
テアレート 1部導電性カーボン
(0,05μ) 3部α−アルミナ(0
,4μ) 3部メチルエチルケトン
/シクロヘキサン=773溶剤200部 塗布液 a (下層) コバルト含有酸化鉄(水分は第1表)100部(抗磁力
=640エルステッド、平均長軸径:0.24μ、結晶
子サイズ:450オングストローム)塩化ビニル酢酸ビ
ニル共重合体 15部(カルボキシル基0,5
%含有、重合度420)ポリエステルポリウレタン
5部ポリイソシアネート (コロネー)L)
6.7部オレイン酸
2部ブチルステアレート 1
部導電性カーボン(0,05μ) 3部
メチルエチルケトン/シクロへキサノン=773溶剤
20
0部上記2つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続
ニーダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた
。得られた分散液にポリイソシアネートを第1層の塗布
液には5部、第2層の塗布液には6部を加え、さらにそ
れぞれに酢酸ブチル40部を加え、1μmの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、第1磁性層形成用お
よび第2磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調整した。
=690エルステッド、平均長軸径=0.2μ、結晶子
サイズ=330オングストローム)塩化ビニル酢酸ビニ
ル共重合体 15部(カルボキシル基0.5%
含有、重合度42o)ポリエステルポリウレタン
5部(カルボキシル基0.3%含有) ポリイソシアネート(コロネー)L) 6.7部オ
レイン酸 2部ブチルス
テアレート 1部導電性カーボン
(0,05μ) 3部α−アルミナ(0
,4μ) 3部メチルエチルケトン
/シクロヘキサン=773溶剤200部 塗布液 a (下層) コバルト含有酸化鉄(水分は第1表)100部(抗磁力
=640エルステッド、平均長軸径:0.24μ、結晶
子サイズ:450オングストローム)塩化ビニル酢酸ビ
ニル共重合体 15部(カルボキシル基0,5
%含有、重合度420)ポリエステルポリウレタン
5部ポリイソシアネート (コロネー)L)
6.7部オレイン酸
2部ブチルステアレート 1
部導電性カーボン(0,05μ) 3部
メチルエチルケトン/シクロへキサノン=773溶剤
20
0部上記2つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続
ニーダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた
。得られた分散液にポリイソシアネートを第1層の塗布
液には5部、第2層の塗布液には6部を加え、さらにそ
れぞれに酢酸ブチル40部を加え、1μmの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、第1磁性層形成用お
よび第2磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調整した。
得られた第1磁性層用塗布液を、乾燥後の厚さが3.0
μmになるようにさらにその直後にその上に第2磁性層
の厚さが1.0μmなるように、厚さ15μmのポリエ
チレンテレフタレート支持体上に同時重層塗布をおこな
い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに3000Gの磁力
をもつコバルト磁石と1500Gの磁力を持つソレノイ
ドにより配向させた乾燥後、金属ロールのみから構成さ
れる7段のカレンダで温度120℃にて処理を行い、1
部2インチの幅にスリットし、ビデオテープを製造した
。このようにして得られたテープをサンプルNo、 1
〜13としその特性を第1表に示した。
μmになるようにさらにその直後にその上に第2磁性層
の厚さが1.0μmなるように、厚さ15μmのポリエ
チレンテレフタレート支持体上に同時重層塗布をおこな
い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに3000Gの磁力
をもつコバルト磁石と1500Gの磁力を持つソレノイ
ドにより配向させた乾燥後、金属ロールのみから構成さ
れる7段のカレンダで温度120℃にて処理を行い、1
部2インチの幅にスリットし、ビデオテープを製造した
。このようにして得られたテープをサンプルNo、 1
〜13としその特性を第1表に示した。
尚サンプルNo、14.15は乾燥後の厚さが4゜0μ
mになるように第1表の如く単層の磁性層を設けた。
mになるように第1表の如く単層の磁性層を設けた。
1 ロ■■トcoω 0←へωぐ膿り■NzC’J C
L’5 If’) In Cfl 14”) 「x
力コIO’Q CQ co 00口槁 ン 鵞 ト へ篭 (k 染 祉 ζ 染 ζ ζ ζ k ζ
(染上層角型比: 上層単層のテープを作成し、振動式試料型磁束計(東英
工業製)を用い、Hm 5KOeでBr78mを求めた
。
L’5 If’) In Cfl 14”) 「x
力コIO’Q CQ co 00口槁 ン 鵞 ト へ篭 (k 染 祉 ζ 染 ζ ζ ζ k ζ
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工業製)を用い、Hm 5KOeでBr78mを求めた
。
ビデオS/Nニ
ジバック製ノイズメーター(925c)を使用し、基準
テープを比較例7とし、S/N比の差を求めた。
テープを比較例7とし、S/N比の差を求めた。
バイパスフィルター10KHz 、ローパスフィルター
4M1lzでノイズレベルを測定した。
4M1lzでノイズレベルを測定した。
使用したVTRは検子NV−8300である。
Ra:
小板研究所製表面粗さ計5E3AKを用いた測定方法は
JIS 80601で規定される中心線平均粗さRaを
算出した。なおCut offは0.25+n+nで行
った。
JIS 80601で規定される中心線平均粗さRaを
算出した。なおCut offは0.25+n+nで行
った。
第1表に示す如く、本発明のビデオテープは、角型比が
高く、ビデオS/Nも良好でかつ、表面粗さ(Ra)も
小さいものが得られた。
高く、ビデオS/Nも良好でかつ、表面粗さ(Ra)も
小さいものが得られた。
Claims (1)
- (1)非磁性支持体上に強磁性体を結合剤中に分散させ
て磁性層を2層以上設けてなる磁気記録媒体において、
上層に吸着水分を0.8wt%以上2.0wt%以下に
調湿した強磁性体を用い、下層に吸着水分が0.8wt
%未満で上層の強磁性体より0.1wt%以上吸着水分
の少ない強磁性体を用いたことを特徴とした磁気記録媒
体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1003689A JP2632203B2 (ja) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | 磁気記録媒体 |
| US07/468,327 US5089317A (en) | 1989-01-20 | 1990-01-22 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1003689A JP2632203B2 (ja) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02192017A true JPH02192017A (ja) | 1990-07-27 |
| JP2632203B2 JP2632203B2 (ja) | 1997-07-23 |
Family
ID=11739166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1003689A Expired - Fee Related JP2632203B2 (ja) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2632203B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04321924A (ja) * | 1991-04-19 | 1992-11-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1989
- 1989-01-20 JP JP1003689A patent/JP2632203B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04321924A (ja) * | 1991-04-19 | 1992-11-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2632203B2 (ja) | 1997-07-23 |
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Legal Events
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