JPH02192147A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH02192147A JPH02192147A JP1011201A JP1120189A JPH02192147A JP H02192147 A JPH02192147 A JP H02192147A JP 1011201 A JP1011201 A JP 1011201A JP 1120189 A JP1120189 A JP 1120189A JP H02192147 A JPH02192147 A JP H02192147A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metallized
- wirings
- semiconductor device
- wiring
- parallel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/5449—Dispositions of bond wires not being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. fan-out arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/931—Shapes of bond pads
- H10W72/932—Plan-view shape, i.e. in top view
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/754—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL
Landscapes
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置に関する。
第3図(a)及び(b)は従来の半導体装置の一例の平
面模式図及び断面模式図である。
面模式図及び断面模式図である。
半導体装置は、ICチップ8を載置する凹部5と、その
周辺のボンディングワイヤ7をボンディングするステッ
チ部6の表面に設けられた内部配線用メタライズ配線3
とステッチ部6下層に設けられた外部配線用メタライズ
配線1との2層構造体を有し、両メタライズ配線1.3
間はスルーホール2にて接続されて、各ステッチ部6の
メタライズ配線1,3は隣と平行な配置となっていた。
周辺のボンディングワイヤ7をボンディングするステッ
チ部6の表面に設けられた内部配線用メタライズ配線3
とステッチ部6下層に設けられた外部配線用メタライズ
配線1との2層構造体を有し、両メタライズ配線1.3
間はスルーホール2にて接続されて、各ステッチ部6の
メタライズ配線1,3は隣と平行な配置となっていた。
ここで一般に、凹部5は接地電位である。
上述した従来の半導体装置は、各ステッチ部のメタライ
ズ配線が隣合って平行に配置されているなめ、各配線間
の容量結合により高周波領域で各信号のクロストークを
生じ、半導体装置の電気的特性を劣化させるという欠点
があった。
ズ配線が隣合って平行に配置されているなめ、各配線間
の容量結合により高周波領域で各信号のクロストークを
生じ、半導体装置の電気的特性を劣化させるという欠点
があった。
本発明の半導体装置は、半導体チップを載置する凹部と
、該凹部に隣接するステッチ部に設けられた表面の内部
配線用及び下面の外部配線用メタライズ配線がスルーホ
ールを介して接続された2層構造体を複数個有する半導
体装置において、隣接してかつ平行に配線された各前記
2層構造体の間の絶縁部に接地導体を平行に挿入して設
けて構成されている。
、該凹部に隣接するステッチ部に設けられた表面の内部
配線用及び下面の外部配線用メタライズ配線がスルーホ
ールを介して接続された2層構造体を複数個有する半導
体装置において、隣接してかつ平行に配線された各前記
2層構造体の間の絶縁部に接地導体を平行に挿入して設
けて構成されている。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図(a)〜(c)は本発明の第1の実施例の平面模
式図、A−A’線断面模式図及びBB′線断面模式図で
ある。
式図、A−A’線断面模式図及びBB′線断面模式図で
ある。
半導体装置は、第3図のステッチ部6の各隣接する配線
との間に網線で示すように接地金属板4を設けたことが
異る点以外は従来の半導体装置と同一である。
との間に網線で示すように接地金属板4を設けたことが
異る点以外は従来の半導体装置と同一である。
すなわち、互に隣有っている内部配線及び外部配線用メ
タライズ配線1及び3の重層体の間に絶縁部中に、電気
的に接地される凹部5に接続された接地金属板4を挿入
して設けており、互いに隣合うメタライズ配線間の容量
結合を減少させ、信号のクロストークを防いでいる 第2図(a)及び(b)は本発明の第2の実施例の平面
模式図及びA−A′線断面模式図である。
タライズ配線1及び3の重層体の間に絶縁部中に、電気
的に接地される凹部5に接続された接地金属板4を挿入
して設けており、互いに隣合うメタライズ配線間の容量
結合を減少させ、信号のクロストークを防いでいる 第2図(a)及び(b)は本発明の第2の実施例の平面
模式図及びA−A′線断面模式図である。
本実施例では、隣合って平行に配置されているメタライ
ズ配線間に、内壁が網線で示すようにメタライズされ、
かつこのメタライズ層が電気的に接地される凹部5に接
続された接地スルーホール群9を平行に配置しており、
前述の第1の実施例と同等な効果が得られるものである
。
ズ配線間に、内壁が網線で示すようにメタライズされ、
かつこのメタライズ層が電気的に接地される凹部5に接
続された接地スルーホール群9を平行に配置しており、
前述の第1の実施例と同等な効果が得られるものである
。
以上説明したように本発明は、隣合って平行に配置され
ているメタライズ配線間に電気的に設置された導体を設
けることにより、メタライズ配線間の容量結合による電
気特性の劣化を防げる効果がある。
ているメタライズ配線間に電気的に設置された導体を設
けることにより、メタライズ配線間の容量結合による電
気特性の劣化を防げる効果がある。
第1図(a)〜(c)は本発明の第1の実施例の平面模
式図、A−A’線断面模式図及びBB′線断面模式図、
第2図(a)及び(b)は本発明の第2の実施例の平面
模式図及びA−A′線断面模式図、第3図(a)及び(
b)は従来の半導体装置の一例の平面模式図及び断面模
式図である。 1・・・外部配線用メタライズ配線、2・・・スルーホ
ール、3・・・内部配線用メタライズ配線、4・・・接
地金属板、5・・・凹部、6・・・ステッチ部、7・・
・ボンディングワイヤ、8・・・ICチップ、9・・・
接地スルーホール群。
式図、A−A’線断面模式図及びBB′線断面模式図、
第2図(a)及び(b)は本発明の第2の実施例の平面
模式図及びA−A′線断面模式図、第3図(a)及び(
b)は従来の半導体装置の一例の平面模式図及び断面模
式図である。 1・・・外部配線用メタライズ配線、2・・・スルーホ
ール、3・・・内部配線用メタライズ配線、4・・・接
地金属板、5・・・凹部、6・・・ステッチ部、7・・
・ボンディングワイヤ、8・・・ICチップ、9・・・
接地スルーホール群。
Claims (1)
- 半導体チップを載置する凹部と、該凹部に隣接するステ
ッチ部に設けられた表面の内部配線用及び下面の外部配
線用メタライズ配線がスルーホールを介して接続された
2層構造体を複数個有する半導体装置において、隣接し
てかつ平行に配線された各前記2層構造体の間の絶縁部
に接地導体を平行に挿入して設けたことを特徴とする半
導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1011201A JPH02192147A (ja) | 1989-01-19 | 1989-01-19 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1011201A JPH02192147A (ja) | 1989-01-19 | 1989-01-19 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02192147A true JPH02192147A (ja) | 1990-07-27 |
Family
ID=11771417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1011201A Pending JPH02192147A (ja) | 1989-01-19 | 1989-01-19 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02192147A (ja) |
-
1989
- 1989-01-19 JP JP1011201A patent/JPH02192147A/ja active Pending
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