JPH02192438A - ハーメチック被覆光ファイバ製造炉 - Google Patents
ハーメチック被覆光ファイバ製造炉Info
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- JPH02192438A JPH02192438A JP1010928A JP1092889A JPH02192438A JP H02192438 A JPH02192438 A JP H02192438A JP 1010928 A JP1010928 A JP 1010928A JP 1092889 A JP1092889 A JP 1092889A JP H02192438 A JPH02192438 A JP H02192438A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/12—General methods of coating; Devices therefor
- C03C25/22—Deposition from the vapour phase
- C03C25/223—Deposition from the vapour phase by chemical vapour deposition or pyrolysis
-
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
- C03C25/106—Single coatings
- C03C25/1061—Inorganic coatings
- C03C25/1062—Carbon
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光ファイバの表面に気相化学反応によりハー
メチック被覆を設けるハーメチック被覆光ファイバ製造
炉に関するものである。
メチック被覆を設けるハーメチック被覆光ファイバ製造
炉に関するものである。
［従来技術］
光ファイバの表面に炭素や炭化物（Ｓｉ Ｃ，、ＴｉＣ
）等のハーメチック被覆を設けると、外部からのＨ２Ｏ
やＨ２の侵入を防ぐことができる。これにより、光ファ
イバの疲労特性が大幅に改善され、同時に耐Ｈ２性が向
上することが知られている。
）等のハーメチック被覆を設けると、外部からのＨ２Ｏ
やＨ２の侵入を防ぐことができる。これにより、光ファ
イバの疲労特性が大幅に改善され、同時に耐Ｈ２性が向
上することが知られている。
第３図は、このようなハーメチック被覆光ファイバ製造
装置の構造を示したものである。この装置では、光フア
イバ母材１の先端が加熱炉２で加熱溶融され、その溶融
部分からの紡糸により光ファイバ３Ａが得られる。該光
ファイバ３Ａは、外径測定器４でその外径が測定された
後、ハーメチック被覆光ファイバ製造炉５の炉心管６に
通される。該ハーメチック被覆光ファイバ製造炉５は、
炉心管６の外周の長手方向の中央にヒータ７が設けられ
、該ヒータ７の加熱により炉心管６内に、第４図に示す
ような加熱ゾーン８が設けられている。炉心管６の下部
には原料ガス導入口９Ａが設けられ、上部には排気口９
Ｂが設けられている。
装置の構造を示したものである。この装置では、光フア
イバ母材１の先端が加熱炉２で加熱溶融され、その溶融
部分からの紡糸により光ファイバ３Ａが得られる。該光
ファイバ３Ａは、外径測定器４でその外径が測定された
後、ハーメチック被覆光ファイバ製造炉５の炉心管６に
通される。該ハーメチック被覆光ファイバ製造炉５は、
炉心管６の外周の長手方向の中央にヒータ７が設けられ
、該ヒータ７の加熱により炉心管６内に、第４図に示す
ような加熱ゾーン８が設けられている。炉心管６の下部
には原料ガス導入口９Ａが設けられ、上部には排気口９
Ｂが設けられている。
炉心管６の長手方向の両端にはシール室１１Ａ。
１１Ｂが設けられ、これらにはシールガス導入口１２Ａ
、１２ＢよりＮ２ガスの如きシール用不活性ガスが供給
され、外気が侵入しないように炉心管６の両端のシール
が行われるようになっている。
、１２ＢよりＮ２ガスの如きシール用不活性ガスが供給
され、外気が侵入しないように炉心管６の両端のシール
が行われるようになっている。
炉心管６内で光ファイバ３Ａの表面にハーメチック被覆
が気相化学反応により設けられる。
が気相化学反応により設けられる。
かくして得られたハーメチック被覆光ファイバ３Ｂは、
次に被覆ダイ１３に通され、その表面に樹脂が被覆され
、光フアイバ心線３となる。得られた光フアイバ心線３
は、樹脂硬化炉１４に通され、被覆樹脂の硬化が行われ
た後、巻取機１５で巻取られる。
次に被覆ダイ１３に通され、その表面に樹脂が被覆され
、光フアイバ心線３となる。得られた光フアイバ心線３
は、樹脂硬化炉１４に通され、被覆樹脂の硬化が行われ
た後、巻取機１５で巻取られる。
この場合、炉心管６では下部の原料ガス導入口９Ａから
原料ガスが導入され、加熱ゾーン８を通り過ぎた排ガス
が上部の排気口９Ｂより外部に排気される。原料ガスと
しては、通常、炭化水素（ＣＨ４、Ｃ２Ｈ６、Ｃ２Ｈ２
、Ｃ３Ｈｅ 、Ｃ４Ｈ１゜等）が使用され、これの熱分
解により炭素が生成されてハーメチック被覆となる。Ｓ
ｉＣやＴ；Ｃを被覆する場合には、炭素水素ガスにＳｉ
Ｈ４やＴｉＣＪｓ等を添加した原料ガスを用いる。
原料ガスが導入され、加熱ゾーン８を通り過ぎた排ガス
が上部の排気口９Ｂより外部に排気される。原料ガスと
しては、通常、炭化水素（ＣＨ４、Ｃ２Ｈ６、Ｃ２Ｈ２
、Ｃ３Ｈｅ 、Ｃ４Ｈ１゜等）が使用され、これの熱分
解により炭素が生成されてハーメチック被覆となる。Ｓ
ｉＣやＴ；Ｃを被覆する場合には、炭素水素ガスにＳｉ
Ｈ４やＴｉＣＪｓ等を添加した原料ガスを用いる。
加熱ゾーン８により高温加熱で生成したＣ、ＳｔＣ，Ｔ
＋ Ｃ等の一部は、光ファイバ３Ａの表面に堆積し、高
密度な層であるハーメチック被覆となるが、大部分は排
気口９Ｂより排気される。
＋ Ｃ等の一部は、光ファイバ３Ａの表面に堆積し、高
密度な層であるハーメチック被覆となるが、大部分は排
気口９Ｂより排気される。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、上記のようなハーメチック被覆光ファイ
バ製造炉５では、原料ガスの一部が加熱ゾーン８から排
気口９Ｂに至る過程で冷却されてスス状反応生成物とな
り、これが炉心管６の内壁近傍に浮遊し、或いは内壁に
付着するため、長時間の被覆時においてこのスス状反応
生成物がハーメチック被覆光ファイバ３Ｂの表面に付着
するという問題点があった。この場合には、光フアイバ
３Ａ上に生成したハーメチック被覆は低密度で剥離し易
く、Ｈ２０やＨ２の侵入防止膜として効果は期待できず
、むしろその上に被覆される樹脂層との密着性を弱め、
光フアイバ心線３の強度の低下を招いていた。
バ製造炉５では、原料ガスの一部が加熱ゾーン８から排
気口９Ｂに至る過程で冷却されてスス状反応生成物とな
り、これが炉心管６の内壁近傍に浮遊し、或いは内壁に
付着するため、長時間の被覆時においてこのスス状反応
生成物がハーメチック被覆光ファイバ３Ｂの表面に付着
するという問題点があった。この場合には、光フアイバ
３Ａ上に生成したハーメチック被覆は低密度で剥離し易
く、Ｈ２０やＨ２の侵入防止膜として効果は期待できず
、むしろその上に被覆される樹脂層との密着性を弱め、
光フアイバ心線３の強度の低下を招いていた。
本発明の目的は、光ファイバの表面にスス状反応生成物
が付着することを防止できるハーメチック被覆光ファイ
バ製造炉を提供することにある。
が付着することを防止できるハーメチック被覆光ファイ
バ製造炉を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
上記の目的を達成するための本発明の詳細な説明すると
、本発明は炉心管内に処理すべき光ファイバを通しつつ
該炉心管内に原料ガスを供給し、該炉心管内をヒータで
加熱し、前記光ファイバの表面に気相化学反応によりハ
ーメチック被覆を設けるハーメチック被覆光ファイバ製
造炉において、前記炉心管はガスを径方向に透過させる
ガス透過性を有する多孔質材で形成され、前記炉心管の
外周には酸化性ガス室を形成する非ガス透過性の外管が
設けられていることを特徴とする。
、本発明は炉心管内に処理すべき光ファイバを通しつつ
該炉心管内に原料ガスを供給し、該炉心管内をヒータで
加熱し、前記光ファイバの表面に気相化学反応によりハ
ーメチック被覆を設けるハーメチック被覆光ファイバ製
造炉において、前記炉心管はガスを径方向に透過させる
ガス透過性を有する多孔質材で形成され、前記炉心管の
外周には酸化性ガス室を形成する非ガス透過性の外管が
設けられていることを特徴とする。
［作 用］
このような構造にすると、酸化性ガス空から供給されて
ガス透過性炉心管を径方向に透過した酸化性ガスが、炉
心管の内壁近傍に浮遊するスス状反応生成物や炉心管の
内壁に付着したスス状反応生成物を酸化させ、ＣＯやＣ
Ｏ２ガスとすることができる。
ガス透過性炉心管を径方向に透過した酸化性ガスが、炉
心管の内壁近傍に浮遊するスス状反応生成物や炉心管の
内壁に付着したスス状反応生成物を酸化させ、ＣＯやＣ
Ｏ２ガスとすることができる。
この結果、長時間におけるハーメチック被覆光ファイバ
３Ｂの製造においても、光ファイバ３Ａの外周にスス状
反応生成物が付着しなくなり、高密度のハーメチック被
覆を安定して光ファイバ３Ａに設けることができるよう
になる。
３Ｂの製造においても、光ファイバ３Ａの外周にスス状
反応生成物が付着しなくなり、高密度のハーメチック被
覆を安定して光ファイバ３Ａに設けることができるよう
になる。
［実施例］
以下、本発明の実施例を第１図及び第２図を参照して詳
細に説明する。図面は本実施例のハーメチック被覆光フ
ァイバ製造炉５を有するハーメチック被覆光ファイバ製
造装置の構成を示したものである。なお、前述した第３
図と対応する部分には同一符号を付けて示している。本
実施例のハーメチック被覆光ファイバ製造炉５は、ガス
を径方向に透過させるガス透過性を有する多孔質材で形
成された炉心管１６と、その外周に同軸上に配置されて
酸化性ガス室１７を形成する非ガス透過性の外管１８と
、これら炉心管１６と外管１８とを固定し且つシール室
１１Ａ、１１Ｂを形成するためのステンレス類の固定具
１９Ａ、１９’Ｂと、外管１８の外周に配置されたヒー
タ７とを備えて構成されている。ガス透過性の炉心？！
１６は例えばＡＪ２ｚＯｓ系多孔質材で形成され、非ガ
ス透過性の外管１８は例えば石英系ガラスで形成されて
いる。ガス透過性の炉心管１６内へは炭化水素系ガスよ
りなる原料ガスが上部の原料ガス導入口９Ａから供給さ
れ、該炉心管１６内の排ガスは下部の排気口９Ｂより外
部に排出されるようになっている。外管１８内の酸化性
ガス室１７へは上部の酸化性ガス導入口２ＯＡより酸素
ガスよりなる酸化性ガスが供給され、下部の排気口２０
Ｂより外部へ排出されるようになっている。なお、２１
は酸化性ガス導入口２ＯＡに設けられて酸化性ガス室１
７内のガス圧を計測するガス圧計、２２は排気口９Ｂに
設けられてガス透過性炉心管１６内のガス圧を計測する
ガス圧計である。
細に説明する。図面は本実施例のハーメチック被覆光フ
ァイバ製造炉５を有するハーメチック被覆光ファイバ製
造装置の構成を示したものである。なお、前述した第３
図と対応する部分には同一符号を付けて示している。本
実施例のハーメチック被覆光ファイバ製造炉５は、ガス
を径方向に透過させるガス透過性を有する多孔質材で形
成された炉心管１６と、その外周に同軸上に配置されて
酸化性ガス室１７を形成する非ガス透過性の外管１８と
、これら炉心管１６と外管１８とを固定し且つシール室
１１Ａ、１１Ｂを形成するためのステンレス類の固定具
１９Ａ、１９’Ｂと、外管１８の外周に配置されたヒー
タ７とを備えて構成されている。ガス透過性の炉心？！
１６は例えばＡＪ２ｚＯｓ系多孔質材で形成され、非ガ
ス透過性の外管１８は例えば石英系ガラスで形成されて
いる。ガス透過性の炉心管１６内へは炭化水素系ガスよ
りなる原料ガスが上部の原料ガス導入口９Ａから供給さ
れ、該炉心管１６内の排ガスは下部の排気口９Ｂより外
部に排出されるようになっている。外管１８内の酸化性
ガス室１７へは上部の酸化性ガス導入口２ＯＡより酸素
ガスよりなる酸化性ガスが供給され、下部の排気口２０
Ｂより外部へ排出されるようになっている。なお、２１
は酸化性ガス導入口２ＯＡに設けられて酸化性ガス室１
７内のガス圧を計測するガス圧計、２２は排気口９Ｂに
設けられてガス透過性炉心管１６内のガス圧を計測する
ガス圧計である。
このようなハーメチック被覆光ファイバ製造炉５は、ガ
ス透過性炉心管１６内へ原料ガス導入口９Ａから炭化水
素系ガスよりなる原料ガスを流し、前述したように光フ
ァイバ３Ａの表面に気相化学反応によりハーメチック被
覆を施し、ハーメチック被覆光ファイバ３Ｂを得る。酸
化性ガス空１７内へは、酸化性ガス導入口２０Ａより酸
素ガスの如き酸化性ガスを供給し、且つ酸化性ガス室１
７内のガス圧Ｐ２を炉心管１６内のガス圧Ｐ１より高め
る（Ｐ２＞Ｐｌ ）。このようにすると、酸化性ガス至
１７内の酸化性ガスが、ガス透過性炉心管１６を径方向
に透過して該炉心管１６内にしみ出す。このしみ出した
酸化性ガスにより、炉心管１６の内壁近傍及び内壁に付
着するスス状反応生成物（スス状炭素）が酸化され、ガ
ス化される。
ス透過性炉心管１６内へ原料ガス導入口９Ａから炭化水
素系ガスよりなる原料ガスを流し、前述したように光フ
ァイバ３Ａの表面に気相化学反応によりハーメチック被
覆を施し、ハーメチック被覆光ファイバ３Ｂを得る。酸
化性ガス空１７内へは、酸化性ガス導入口２０Ａより酸
素ガスの如き酸化性ガスを供給し、且つ酸化性ガス室１
７内のガス圧Ｐ２を炉心管１６内のガス圧Ｐ１より高め
る（Ｐ２＞Ｐｌ ）。このようにすると、酸化性ガス至
１７内の酸化性ガスが、ガス透過性炉心管１６を径方向
に透過して該炉心管１６内にしみ出す。このしみ出した
酸化性ガスにより、炉心管１６の内壁近傍及び内壁に付
着するスス状反応生成物（スス状炭素）が酸化され、ガ
ス化される。
この結果、スス状反応生成物は光ファイバ３Ａに付着せ
ず、高密度のハーメチック被覆を安定して光ファイバ３
Ａに施すことができる。
ず、高密度のハーメチック被覆を安定して光ファイバ３
Ａに施すことができる。
次に、第１図に示すハーメチック被覆光ファイバ製造装
置の具体例について説明する。ガス透過性炉心管１６と
しては、平均細孔径１０μｍのＡＪ２２０３系セラミッ
クの円筒状炉心管（内径３０−―φ、厚さ１．５１１１
ｔ 、長さ１１００ｍｍ）を用いた。外管１８としては
、石英ガス製円筒状管（内径５０ｍ■φ、厚さ２１１ｔ
１長さ１ Ｇ００１１論を用いた。ヒータ７はカーボン
抵抗体で形成し、６００℃以上の加熱ゾーン８は５００
ｍ−とした。原料ガスとしてはＣ４Ｈｌｌ （２Ｊ！
／Ｗｉｎ ） とＮ２ （２１／ｍｉｎ ）
との混合ガスを用い、炉心管１６内のガス圧は１気圧
とした。酸化性ガス空１７内には酸化性ガスとして酸素
ガスを５ぶ／ａｒｎの流量で流し、該酸化性ガス室１７
内のガス圧は１気圧より約５ Ｑ ｇ＋ｎＡｑ高めた。
置の具体例について説明する。ガス透過性炉心管１６と
しては、平均細孔径１０μｍのＡＪ２２０３系セラミッ
クの円筒状炉心管（内径３０−―φ、厚さ１．５１１１
ｔ 、長さ１１００ｍｍ）を用いた。外管１８としては
、石英ガス製円筒状管（内径５０ｍ■φ、厚さ２１１ｔ
１長さ１ Ｇ００１１論を用いた。ヒータ７はカーボン
抵抗体で形成し、６００℃以上の加熱ゾーン８は５００
ｍ−とした。原料ガスとしてはＣ４Ｈｌｌ （２Ｊ！
／Ｗｉｎ ） とＮ２ （２１／ｍｉｎ ）
との混合ガスを用い、炉心管１６内のガス圧は１気圧
とした。酸化性ガス空１７内には酸化性ガスとして酸素
ガスを５ぶ／ａｒｎの流量で流し、該酸化性ガス室１７
内のガス圧は１気圧より約５ Ｑ ｇ＋ｎＡｑ高めた。
固定具１９Ａ、１．９Ｂには冷却水を２Ｊ２７ ｍｔｎ
の流量で流し、シール苗１１Ａ、１１Ｂにはシール用不
活性ガスとしてシール用Ｎ２ガスを５Ｊ！／ｓｉｎの流
量で流した。加熱ゾーン８の最高温度は約８５０℃とし
、光ファイバ３Ａの送り速度は５３ｍ／ｌ！ｎとした。
の流量で流し、シール苗１１Ａ、１１Ｂにはシール用不
活性ガスとしてシール用Ｎ２ガスを５Ｊ！／ｓｉｎの流
量で流した。加熱ゾーン８の最高温度は約８５０℃とし
、光ファイバ３Ａの送り速度は５３ｍ／ｌ！ｎとした。
ハーメチック被覆光ファイバ製造炉５から出たハーメチ
ック被覆光ファイバ３Ｂに被覆ダイ１３で紫外線硬化樹
脂を被覆して光フアイバ心線３を得、次に樹脂硬化炉１
４で紫外線を該光フアイバ心線３に照射して表面の紫外
線硬化樹脂を硬化させた。かくして得られた光フアイバ
心線３における光ファイバ３Ａの外径は１２５μｍφ、
樹脂被覆の外径は４００μｍ１長さは６ｋｍであった。
ック被覆光ファイバ３Ｂに被覆ダイ１３で紫外線硬化樹
脂を被覆して光フアイバ心線３を得、次に樹脂硬化炉１
４で紫外線を該光フアイバ心線３に照射して表面の紫外
線硬化樹脂を硬化させた。かくして得られた光フアイバ
心線３における光ファイバ３Ａの外径は１２５μｍφ、
樹脂被覆の外径は４００μｍ１長さは６ｋｍであった。
次に、比較例について説明する。第３図及び第４図に示
す装置を用いた。炉心管６としては、石英系ガラス製円
筒（内径３０ｖａφ、厚さ２ｓｍｔ。
す装置を用いた。炉心管６としては、石英系ガラス製円
筒（内径３０ｖａφ、厚さ２ｓｍｔ。
長さ１２００ｍｍ）を用いた。ヒータ７の加熱ゾーン８
の長さ、原料ガスの種類及び流量、炉心管６の両端に流
す冷却水及びＮ２ガスの流量等は実施例と同一である。
の長さ、原料ガスの種類及び流量、炉心管６の両端に流
す冷却水及びＮ２ガスの流量等は実施例と同一である。
また、加熱ゾーン８の最高温度、光ファイバ３Ａの送り
速度及び樹脂被覆の方法も実施例と同一として、光ファ
イバ３Ａの外径１２５μｍφ、樹脂被覆の外径は４００
μｍ１長さ６ｋｍ＋のハーメチック被覆光ファイバ心線
３を得た。
速度及び樹脂被覆の方法も実施例と同一として、光ファ
イバ３Ａの外径１２５μｍφ、樹脂被覆の外径は４００
μｍ１長さ６ｋｍ＋のハーメチック被覆光ファイバ心線
３を得た。
実施例と比較例の条件で同一の光フアイバ母材１からそ
れぞれ６ｋｍの光ファイバ３Ａを線引きした。ただし、
比較例では被覆ダイ１３に剥離したスス状反応生成物（
スス状炭素）が析出し、１．３ｋｍで一度断線し、改め
て線引きしたが、１．９ｋｍで同様の原因により断線し
た。これかられかるように、比較例ではスス状反応生成
物のため樹脂層との密着が不十分であった。
れぞれ６ｋｍの光ファイバ３Ａを線引きした。ただし、
比較例では被覆ダイ１３に剥離したスス状反応生成物（
スス状炭素）が析出し、１．３ｋｍで一度断線し、改め
て線引きしたが、１．９ｋｍで同様の原因により断線し
た。これかられかるように、比較例ではスス状反応生成
物のため樹脂層との密着が不十分であった。
両方の光ファイバ心Ｉ３について、末端から１ｋｌの部
分をサンプリングし、樹脂被覆を剥して光ファイバ３Ａ
との接触面をスキャニング・エレクトロン・マイクロス
コープ（以下ＳＥＭという）で調査し、また炉心管６．
１６内壁へのスス状反応生成物の付着を目視及びＳＥＭ
で調査した。
分をサンプリングし、樹脂被覆を剥して光ファイバ３Ａ
との接触面をスキャニング・エレクトロン・マイクロス
コープ（以下ＳＥＭという）で調査し、また炉心管６．
１６内壁へのスス状反応生成物の付着を目視及びＳＥＭ
で調査した。
その結果、表１に示すように、実施例では炉心管１６の
内側及び光ファイバ３Ａと樹脂被覆のいずれについても
スス状反応生成物の付着は認められず、高密度のハーメ
チック被覆（炭素！ＩＩ）が光ファイバ３Ａの外周を覆
っていた。一方、比較例では、炉心管６の内側のスス状
反応生成物が光ファイバ３Ａに著しく付着し、光ファイ
バ３Ａと樹脂被覆の密着を弱めていた。
内側及び光ファイバ３Ａと樹脂被覆のいずれについても
スス状反応生成物の付着は認められず、高密度のハーメ
チック被覆（炭素！ＩＩ）が光ファイバ３Ａの外周を覆
っていた。一方、比較例では、炉心管６の内側のスス状
反応生成物が光ファイバ３Ａに著しく付着し、光ファイ
バ３Ａと樹脂被覆の密着を弱めていた。
表 １
＋１）ＳＥＭによる観察。
（２）目視による観察。
（３）ハーメチック被覆が樹脂被覆を除く際に剥離した
ため測定できず。
ため測定できず。
［発明の効果］
以上説明したように本発明のハーメチック被覆光ファイ
バ製造炉では、炉心管にガス透過性をもたせ、該炉心管
の外周に酸化性ガス室を設け、炉心管の径方向に酸化性
ガス室から酸化性ガスを透過させる構造としたので、該
炉を用いることによリスス状反応生成物が炉心管の内側
及び光ファイバの外周に付着することを防止でき、高密
度のハーメチック被覆を光ファイバに安定して被覆する
ことができる。
バ製造炉では、炉心管にガス透過性をもたせ、該炉心管
の外周に酸化性ガス室を設け、炉心管の径方向に酸化性
ガス室から酸化性ガスを透過させる構造としたので、該
炉を用いることによリスス状反応生成物が炉心管の内側
及び光ファイバの外周に付着することを防止でき、高密
度のハーメチック被覆を光ファイバに安定して被覆する
ことができる。
第１図は本発明に係るハーメチック被覆光ファイバ製造
炉を組込んだハーメチック被覆光ファイバ製造装置の概
略構成の一例を示す縦断面図、第２図は第１図に示す炉
の要部拡大図、第３図は従来のハーメチック被覆光ファ
イバ製造装置の概略構成を示す縦断面図、第４図は第３
図に示す炉の加熱ゾーンの温度分布図である。 １・・・光フアイバ母材、２・・・加熱炉、３Ａ・・・
光ファイバ、３Ｂ・・・ハーメチック被覆光ファイバ、
３・・・光フアイバ心線、４・・・外径測定器、５・・
・ハーメチック被覆光ファイバ製造炉、６・・・炉心管
、７・・・ヒータ、８・・・加熱ゾーン、９Ａ・・・原
料ガス導入口９Ｂ・・・排気口、１１Ａ、１１Ｂ・・・
シール室、１２Ａ、１２Ｂ−・・シールガス導入口、１
３・・・被覆ダイ、１４・・・樹脂硬化炉、１５・・・
巻取機、１６・・・炉心管、１７・・・酸化性ガス室、
１８・・・外管、１９Ａ、１９Ｂ・・・固定具、２ＯＡ
・・・酸化性ガス導入口、２０Ｂ・・・排気口。 第 図 第 図
炉を組込んだハーメチック被覆光ファイバ製造装置の概
略構成の一例を示す縦断面図、第２図は第１図に示す炉
の要部拡大図、第３図は従来のハーメチック被覆光ファ
イバ製造装置の概略構成を示す縦断面図、第４図は第３
図に示す炉の加熱ゾーンの温度分布図である。 １・・・光フアイバ母材、２・・・加熱炉、３Ａ・・・
光ファイバ、３Ｂ・・・ハーメチック被覆光ファイバ、
３・・・光フアイバ心線、４・・・外径測定器、５・・
・ハーメチック被覆光ファイバ製造炉、６・・・炉心管
、７・・・ヒータ、８・・・加熱ゾーン、９Ａ・・・原
料ガス導入口９Ｂ・・・排気口、１１Ａ、１１Ｂ・・・
シール室、１２Ａ、１２Ｂ−・・シールガス導入口、１
３・・・被覆ダイ、１４・・・樹脂硬化炉、１５・・・
巻取機、１６・・・炉心管、１７・・・酸化性ガス室、
１８・・・外管、１９Ａ、１９Ｂ・・・固定具、２ＯＡ
・・・酸化性ガス導入口、２０Ｂ・・・排気口。 第 図 第 図
Claims (1)
- 炉心管内に処理すべき光ファイバを通しつつ該炉心管内
に原料ガスを供給し、該炉心管内をヒータで加熱し、前
記光ファイバの表面に気相化学反応によりハーメチック
被覆を設けるハーメチック被覆光ファイバ製造炉におい
て、前記炉心管はガスを径方向に透過させるガス透過性
を有する多孔質材で形成され、前記炉心管の外周には酸
化性ガス室を形成する非ガス透過性の外管が設けられて
いることを特徴とするハーメチック被覆光ファイバ製造
炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1010928A JPH02192438A (ja) | 1989-01-19 | 1989-01-19 | ハーメチック被覆光ファイバ製造炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1010928A JPH02192438A (ja) | 1989-01-19 | 1989-01-19 | ハーメチック被覆光ファイバ製造炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02192438A true JPH02192438A (ja) | 1990-07-30 |
Family
ID=11763898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1010928A Pending JPH02192438A (ja) | 1989-01-19 | 1989-01-19 | ハーメチック被覆光ファイバ製造炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02192438A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5348564A (en) * | 1991-02-14 | 1994-09-20 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for manufacturing a hermetically coated optical fiber |
| FR2761979A1 (fr) * | 1997-04-14 | 1998-10-16 | Alsthom Cge Alcatel | Procede et appareil de fabrication d'une fibre optique munie d'un revetement hermetique |
-
1989
- 1989-01-19 JP JP1010928A patent/JPH02192438A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5348564A (en) * | 1991-02-14 | 1994-09-20 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for manufacturing a hermetically coated optical fiber |
| FR2761979A1 (fr) * | 1997-04-14 | 1998-10-16 | Alsthom Cge Alcatel | Procede et appareil de fabrication d'une fibre optique munie d'un revetement hermetique |
| EP0872459A1 (fr) * | 1997-04-14 | 1998-10-21 | Alcatel | Procédé et appareil de fabrication d'une fibre optique munie d'un revêtement hermétique |
| US6029476A (en) * | 1997-04-14 | 2000-02-29 | Alcatel | Method and apparatus for manufacturing an optical fiber provided with a hermetic coating |
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