JPH02192452A - 電子部品搭載用基板の製造方法 - Google Patents
電子部品搭載用基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH02192452A JPH02192452A JP1324890A JP32489089A JPH02192452A JP H02192452 A JPH02192452 A JP H02192452A JP 1324890 A JP1324890 A JP 1324890A JP 32489089 A JP32489089 A JP 32489089A JP H02192452 A JPH02192452 A JP H02192452A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- binder
- temperature
- pts
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
電子部品搭載用基板の製造方法に関し、非酸化性雰囲気
中でグリーンシートを焼成しても残留炭素が少なく、曲
げ強さ、および寸法精度のばらつきが小さい電子部品搭
載用基板の製造方法を提供することを目的とし、 ガラスセラミック粉末100重量部に、バインダ
5〜20重量部可 塑 剤
2〜10重量部分散剤ポリエチレングリコールオレイ
ン酸エステル2重量部以下を加えたスラリーから成形し
た焼成可能なグリーンシートを積層する工程と、この積
層体を非酸化性雰囲気中、400〜500℃の第1の温
度でバインダ抜きし、次に該第1の温度より高温の第2
の温度で仮焼成し、さらに該第2の温度より高い第3の
温度で本焼成するように構成する。
中でグリーンシートを焼成しても残留炭素が少なく、曲
げ強さ、および寸法精度のばらつきが小さい電子部品搭
載用基板の製造方法を提供することを目的とし、 ガラスセラミック粉末100重量部に、バインダ
5〜20重量部可 塑 剤
2〜10重量部分散剤ポリエチレングリコールオレイ
ン酸エステル2重量部以下を加えたスラリーから成形し
た焼成可能なグリーンシートを積層する工程と、この積
層体を非酸化性雰囲気中、400〜500℃の第1の温
度でバインダ抜きし、次に該第1の温度より高温の第2
の温度で仮焼成し、さらに該第2の温度より高い第3の
温度で本焼成するように構成する。
本発明は特に表面状態が良好なグリーンシートを焼成し
て、電子部品搭載用に必要な特性を具備する基板の製造
方法に関する。
て、電子部品搭載用に必要な特性を具備する基板の製造
方法に関する。
グリーンシート組成物は、非酸化性雰囲気中で焼成する
場合、残留炭素を減少させるために、有機成分が少ない
ことが望ましいので、スラリーに分散剤を添加しないこ
とがある。しかし分散剤を添加すれば、スラリーの均一
性が向上し、グリーンシートを焼成して得た基板の機械
的強さが向上し、そのばらつきも低減される。このとき
添加する分散剤の種類によっては非酸化性雰囲気中で加
熱するときに、飛散しないで残留し、炭素残渣となる量
が多いものがある。このような分散剤に関する従来技術
として、MIT Indus trial Liais
onProgram Report 6−15−84が
ある、これには分散剤としてフィッシュオイルおよびグ
リセロールトリオレイドが記載されている。
場合、残留炭素を減少させるために、有機成分が少ない
ことが望ましいので、スラリーに分散剤を添加しないこ
とがある。しかし分散剤を添加すれば、スラリーの均一
性が向上し、グリーンシートを焼成して得た基板の機械
的強さが向上し、そのばらつきも低減される。このとき
添加する分散剤の種類によっては非酸化性雰囲気中で加
熱するときに、飛散しないで残留し、炭素残渣となる量
が多いものがある。このような分散剤に関する従来技術
として、MIT Indus trial Liais
onProgram Report 6−15−84が
ある、これには分散剤としてフィッシュオイルおよびグ
リセロールトリオレイドが記載されている。
非酸化性雰囲気中でグリーンシートを焼成しても残留炭
素が少なく、曲げ強さ、および寸法精度のばらつきが小
さい電子部品搭載用基板の製造方法を提供することであ
る。
素が少なく、曲げ強さ、および寸法精度のばらつきが小
さい電子部品搭載用基板の製造方法を提供することであ
る。
上記問題点は、ガラスセラミック粉末100重量部に、
バインダ 5〜20重量部可 塑 剤
2〜10重量部分散剤ポリエチレング
リコールオレイン酸エステル2重量部以下を加えたスラ
リーから成形した焼成可能なグリーンシートを積層する
工程と、この積層体を非酸化性雰囲気中、400〜50
0℃の第1の温度でバインダ抜きし、次に該第1の温度
より高温の第2の温度で仮焼成し、さらに該第2の温度
より高い第3の温度で本焼成して焼成物を得る工程とを
有することを特徴とする電子部品搭載用基板の製造方法
によって解決することができる。
2〜10重量部分散剤ポリエチレング
リコールオレイン酸エステル2重量部以下を加えたスラ
リーから成形した焼成可能なグリーンシートを積層する
工程と、この積層体を非酸化性雰囲気中、400〜50
0℃の第1の温度でバインダ抜きし、次に該第1の温度
より高温の第2の温度で仮焼成し、さらに該第2の温度
より高い第3の温度で本焼成して焼成物を得る工程とを
有することを特徴とする電子部品搭載用基板の製造方法
によって解決することができる。
本発明の分散剤ポリエチレングリコール型界面活性剤添
加の影響を調べるために、 アルミナ(平均粒径約3〜4m) 200gホ
ウケイ酸ガラス(平均粒径約4〜5ilIa)00 g 石英ガラス(平均粒径約4〜5J1m)200gのガラ
スセラミック粉末混合物600gに対し、アクリル系バ
インダ 70gジブチルフタレート
可塑剤 20gホリエチレングリコールオ
レイン酸エステル分散剤(分子量480)
0〜12gを添加し、ボールミルで12時間混練
して、スラリーを調製した。
加の影響を調べるために、 アルミナ(平均粒径約3〜4m) 200gホ
ウケイ酸ガラス(平均粒径約4〜5ilIa)00 g 石英ガラス(平均粒径約4〜5J1m)200gのガラ
スセラミック粉末混合物600gに対し、アクリル系バ
インダ 70gジブチルフタレート
可塑剤 20gホリエチレングリコールオ
レイン酸エステル分散剤(分子量480)
0〜12gを添加し、ボールミルで12時間混練
して、スラリーを調製した。
第1図は分散剤添加量とスラリー粘度との関係を示す。
ガラスセラミック100重量部に対して0〜2重量部(
ガラスセラミック600gに対して10〜12g)にお
いて粘度が極小となる。
ガラスセラミック600gに対して10〜12g)にお
いて粘度が極小となる。
第2図はグリーンシートの表面あらさを接触式表面あら
さ計で測定した最大表面あらさと分散剤との関係を示す
。分散剤添加量0〜2重量部において最大表面あらさが
極小となる。
さ計で測定した最大表面あらさと分散剤との関係を示す
。分散剤添加量0〜2重量部において最大表面あらさが
極小となる。
次に、上記グリーンシートを15cm角に切り、−これ
を30枚重ねて30 M P aの圧力で積層した。こ
の積層体を窒素雰囲気中で、まず400℃でバインダ抜
きし、次に840℃、4時間仮焼成し、最後に1020
℃、4時間本焼成して焼成物を得た。第3図はこの焼成
物の曲げ強さの標準偏差と分散剤添加量の関係を示す。
を30枚重ねて30 M P aの圧力で積層した。こ
の積層体を窒素雰囲気中で、まず400℃でバインダ抜
きし、次に840℃、4時間仮焼成し、最後に1020
℃、4時間本焼成して焼成物を得た。第3図はこの焼成
物の曲げ強さの標準偏差と分散剤添加量の関係を示す。
第4図は同−焼成物内の収縮率のばらつきと分散剤添加
量の関係を示す。第3および4図から明らかなように、
焼成物の機械的強さは添加量0〜2重量部において、ば
らつきが約1/2に減少していることがわかる。
量の関係を示す。第3および4図から明らかなように、
焼成物の機械的強さは添加量0〜2重量部において、ば
らつきが約1/2に減少していることがわかる。
第5図の曲線Aは分散剤として使用したポリエチレング
リコールオレイン酸エステルを単独で昇温速度10℃/
(Ilinで窒素雰囲気中で加熱したときの残渣量を示
し、500℃において飛散することがわかる。曲線Bは
従来技術のフィッシュオイル単独の加熱曲線であって、
1000℃においてもまだ炭素残渣があることを示す。
リコールオレイン酸エステルを単独で昇温速度10℃/
(Ilinで窒素雰囲気中で加熱したときの残渣量を示
し、500℃において飛散することがわかる。曲線Bは
従来技術のフィッシュオイル単独の加熱曲線であって、
1000℃においてもまだ炭素残渣があることを示す。
本発明のポリエチレングリコールオレイン酸エステル界
面活性剤は窒素雰囲気中の低温で飛散するので、積層体
の焼成にふいて残留炭素が少なく、電子部品搭載用基板
としての電気的特性がすぐれている。
面活性剤は窒素雰囲気中の低温で飛散するので、積層体
の焼成にふいて残留炭素が少なく、電子部品搭載用基板
としての電気的特性がすぐれている。
なお、本発明の電子部品搭載用基板の製造方法は、特開
昭59−995に記載の 「熱解重合型樹脂を含むバインダを使用してガラスセラ
ミック層を形成し、この層の上に銅導体層を形成し、多
層化した未焼結体を、ガラスセラミックに含まれるガラ
ス成分が加熱による変化を示さない温度において、水蒸
気分圧を0.005〜0.3気圧に制御した窒素雰囲気
中で焼成してバインダを飛散させることを特徴とする、
銅導体多層構造体の製造方法。」或いは、特開昭60−
254697に記載の 「熱解重合型樹脂を含むバインダを使用してガラスセラ
ミック層を形成し、この層の上に銅導体層を形成し、多
層化した未焼結体を、ガラスセラミックに含まれるガラ
ス成分が加熱による変化を示さない温度において、水蒸
気分圧を0.005〜0.3気圧に制御した不活性雰囲
気中で焼成してバインダを飛散させる多層セラミック回
路基板の製法であって、ガラスセラミック原料として、
20重量%以上、50重量%未滴のアルミナと、10重
量%以上、60重量%未渦の石英ガラスと、20重量%
以上、40重量%未滴の、銅の融点より低い温度で焼成
可能なガラスまたは結晶化ガラスとを混合して使用する
ことを特徴とする、多層セラミック回路基板の製法。」
等の導体として銅を用いる多層セラミック回路基板の製
法に好ましく適用しうるちのである。
昭59−995に記載の 「熱解重合型樹脂を含むバインダを使用してガラスセラ
ミック層を形成し、この層の上に銅導体層を形成し、多
層化した未焼結体を、ガラスセラミックに含まれるガラ
ス成分が加熱による変化を示さない温度において、水蒸
気分圧を0.005〜0.3気圧に制御した窒素雰囲気
中で焼成してバインダを飛散させることを特徴とする、
銅導体多層構造体の製造方法。」或いは、特開昭60−
254697に記載の 「熱解重合型樹脂を含むバインダを使用してガラスセラ
ミック層を形成し、この層の上に銅導体層を形成し、多
層化した未焼結体を、ガラスセラミックに含まれるガラ
ス成分が加熱による変化を示さない温度において、水蒸
気分圧を0.005〜0.3気圧に制御した不活性雰囲
気中で焼成してバインダを飛散させる多層セラミック回
路基板の製法であって、ガラスセラミック原料として、
20重量%以上、50重量%未滴のアルミナと、10重
量%以上、60重量%未渦の石英ガラスと、20重量%
以上、40重量%未滴の、銅の融点より低い温度で焼成
可能なガラスまたは結晶化ガラスとを混合して使用する
ことを特徴とする、多層セラミック回路基板の製法。」
等の導体として銅を用いる多層セラミック回路基板の製
法に好ましく適用しうるちのである。
本発明によれば、グリーンシート中のガラスセラミック
粉末と有機成分の分散性を良好にし、かつ積層体を窒素
雰囲気中で焼成した焼成物は残留炭素が少なく、かつ収
縮率のばらつき、および、曲げ強さのばらつきを低減す
る効果がある。
粉末と有機成分の分散性を良好にし、かつ積層体を窒素
雰囲気中で焼成した焼成物は残留炭素が少なく、かつ収
縮率のばらつき、および、曲げ強さのばらつきを低減す
る効果がある。
第1図はスラリー粘度と分散剤添加量の関係を示すグラ
フであり、 第2図はグリーンシート最大表面あらさと分散剤添加量
の関係を示すグラフであり、 第3図は焼成物曲げ強さの標準偏差と分散剤添加量の関
係を示すグラフであり、 第4図は同−焼成物内の収縮率のばらつきと分散剤添加
量の関係を示すグラフであり、第5図は分散剤残渣量と
加熱温度の関係を示すグラフである。 第1図 スラリー粘度と分散剤添加量の関係 分散剤添加蛍 第2図 グリーンシート最大表面あ らさと分散剤添加量の関係 分散剤添加量 第Ll−図 同一焼成物内の収縮率のばらつきと分散剤添加量の関係
分散剤添加量 (重量部) 第 図 焼成物曲げ強さの標準偏差と分散剤添加量の関係分散剤
添加量 第5図 分散剤 残渣量と加熱温度の関係 加熱温度(0C)
フであり、 第2図はグリーンシート最大表面あらさと分散剤添加量
の関係を示すグラフであり、 第3図は焼成物曲げ強さの標準偏差と分散剤添加量の関
係を示すグラフであり、 第4図は同−焼成物内の収縮率のばらつきと分散剤添加
量の関係を示すグラフであり、第5図は分散剤残渣量と
加熱温度の関係を示すグラフである。 第1図 スラリー粘度と分散剤添加量の関係 分散剤添加蛍 第2図 グリーンシート最大表面あ らさと分散剤添加量の関係 分散剤添加量 第Ll−図 同一焼成物内の収縮率のばらつきと分散剤添加量の関係
分散剤添加量 (重量部) 第 図 焼成物曲げ強さの標準偏差と分散剤添加量の関係分散剤
添加量 第5図 分散剤 残渣量と加熱温度の関係 加熱温度(0C)
Claims (2)
- 1.ガラスセラミック粉末100重量部に、バインダ5
〜20重量部 可塑剤2〜10重量部 分散剤ポリエチレングリコールオレイン酸エステル2重
量部以下を加えたスラリーから成形した焼成可能なグリ
ーンシートを積層する工程と、この積層体を非酸化性雰
囲気中、400〜500℃の第1の温度でバインダ抜き
し、次に該第1の温度より高温の第2の温度で仮焼成し
、さらに該第2の温度より高い第3の温度で本焼成して
焼成物を得る工程と を有することを特徴とする電子部品搭載用基板の製造方
法。 - 2.前記ガラスセラミック粉末が アルミナ粉末20〜60重量% ホウケイ酸ガラス粉末20〜50重量% 石英ガラス粉末20〜40重量% からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
電子部品搭載用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1324890A JPH02192452A (ja) | 1989-12-16 | 1989-12-16 | 電子部品搭載用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1324890A JPH02192452A (ja) | 1989-12-16 | 1989-12-16 | 電子部品搭載用基板の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59274534A Division JPS61155243A (ja) | 1984-12-28 | 1984-12-28 | グリ−ンシ−ト組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02192452A true JPH02192452A (ja) | 1990-07-30 |
| JPH0571537B2 JPH0571537B2 (ja) | 1993-10-07 |
Family
ID=18170767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1324890A Granted JPH02192452A (ja) | 1989-12-16 | 1989-12-16 | 電子部品搭載用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02192452A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100291534B1 (ko) * | 1998-09-07 | 2001-07-12 | 박호군 | 내열패턴형성용세라믹시트,그의제조방법및조성물 |
| JP2003055034A (ja) * | 2001-08-21 | 2003-02-26 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 積層ガラスセラミック材料及び積層ガラスセラミック焼結体 |
-
1989
- 1989-12-16 JP JP1324890A patent/JPH02192452A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100291534B1 (ko) * | 1998-09-07 | 2001-07-12 | 박호군 | 내열패턴형성용세라믹시트,그의제조방법및조성물 |
| JP2003055034A (ja) * | 2001-08-21 | 2003-02-26 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 積層ガラスセラミック材料及び積層ガラスセラミック焼結体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0571537B2 (ja) | 1993-10-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0240013B2 (ja) | ||
| JP5321066B2 (ja) | セラミック組成物およびセラミック基板 | |
| JPS6036369A (ja) | 磁器製造法 | |
| JP2012111671A (ja) | 窒化アルミニウム焼結体加工物の製造方法 | |
| JPH02192452A (ja) | 電子部品搭載用基板の製造方法 | |
| KR101559243B1 (ko) | 세라믹 조성물, 세라믹 소결체 및 이의 제조방법 | |
| CN1323969C (zh) | 玻璃陶瓷组合物及使用了该组合物的电子部件和叠层式lc复合部件 | |
| KR910004862B1 (ko) | 초전도막 형성용 타아겟재 | |
| JP5648682B2 (ja) | 金属ベース基板 | |
| JPS6049149B2 (ja) | 電子部品用白色アルミナ・セラミックの製造方法 | |
| JPH06172017A (ja) | セラミツクス基板用グリーンシート及びセラミツクス基板 | |
| KR101668685B1 (ko) | 유리를 함유하지 않는 저온 동시 소성용 마그네시아 세라믹 조성물 및 마그네시아 세라믹스 | |
| KR940006429B1 (ko) | 질화알루미늄기판의 제조방법 | |
| JP2007039755A (ja) | 複合金属粉末およびその製法、導体ペースト、電子部品の製法、ならびに電子部品 | |
| EP1403228A1 (en) | Ceramic component and production method therefor | |
| KR920003024B1 (ko) | 초전도막 형성용 타아겟재의 제조방법 | |
| JPH0453831B2 (ja) | ||
| JPH07267739A (ja) | 窒化アルミニウムグリーンシートの製造方法 | |
| JP4868641B2 (ja) | 窒化アルミニウム基板の製造方法 | |
| JPH0354163A (ja) | セラミック材料組成物およびその用途 | |
| TW460430B (en) | Low-fire, low-dielectric-constant and low-loss ceramic compositions | |
| JPS59156960A (ja) | アルミナ焼結基板の製造方法 | |
| JPH08148786A (ja) | アルミナ多層配線基板とその製造方法、及びアルミナ焼結体の製造方法 | |
| JP2009277831A (ja) | 多層基板 | |
| JPH01120001A (ja) | 電気抵抗体及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |