JPH02196781A - 置換α―ピロン及びその製法 - Google Patents
置換α―ピロン及びその製法Info
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- JPH02196781A JPH02196781A JP1295184A JP29518489A JPH02196781A JP H02196781 A JPH02196781 A JP H02196781A JP 1295184 A JP1295184 A JP 1295184A JP 29518489 A JP29518489 A JP 29518489A JP H02196781 A JPH02196781 A JP H02196781A
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- Japan
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- pyrone
- chlorine
- bromine
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/34—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D309/36—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with oxygen atoms directly attached to ring carbon atoms
- C07D309/38—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with oxygen atoms directly attached to ring carbon atoms one oxygen atom in position 2 or 4, e.g. pyrones
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、4−もしくは4.6−塩素化又は臭素化α−
ピロンならびに4−クロロ又は4−ブロモ−α−ピロン
の製法に関する。
ピロンならびに4−クロロ又は4−ブロモ−α−ピロン
の製法に関する。
J、 led、 Chers、、29.1159−11
63 (1986年)において、W、 A、 Boul
angerらは、4−フェニル−6−クロロ−a−ピロ
ンの製造ならびに亜鉛及び氷酢酸を用いてそれを還元し
て4−フェニル−α−ピロンを与える方法を記載してい
る。 Liebigs Ann。
63 (1986年)において、W、 A、 Boul
angerらは、4−フェニル−6−クロロ−a−ピロ
ンの製造ならびに亜鉛及び氷酢酸を用いてそれを還元し
て4−フェニル−α−ピロンを与える方法を記載してい
る。 Liebigs Ann。
Chea+、、Vol、 636.1−18 (19
61年)において%A。
61年)において%A。
Roedigらは、ペルクロロ−α−ピロンにおいて、
4位及び6位の動きやすい塩素原子が亜鉛及び酢酸を用
いての還元により容易に除去されつるということに言及
している。
4位及び6位の動きやすい塩素原子が亜鉛及び酢酸を用
いての還元により容易に除去されつるということに言及
している。
上記とは対照的に、4位及び6位を塩素及び/又は臭素
により置換されているα−とロンな還元すると、それぞ
れ、4−クロロ−及び4−ブロモ−a−ピロンを良好な
収率及び高い選択性で与えるということが現在見い出さ
れている。
により置換されているα−とロンな還元すると、それぞ
れ、4−クロロ−及び4−ブロモ−a−ピロンを良好な
収率及び高い選択性で与えるということが現在見い出さ
れている。
その−態様において、本発明は、式I:C式中、R1は
塩素又は臭素であり、R2は水素、塩素又は臭素である
)のα−ピロンに関する。
塩素又は臭素であり、R2は水素、塩素又は臭素である
)のα−ピロンに関する。
R1は塩素であることが好ましく、R3は水素又は塩素
であることが好ましい、特に好ましい化合物は、4−ク
ロロ−a−ピロン及び4.6−ジクロロ−〇−ピロンで
ある。
であることが好ましい、特に好ましい化合物は、4−ク
ロロ−a−ピロン及び4.6−ジクロロ−〇−ピロンで
ある。
もう一つの態様において1本発明は、式la:(式中、
R1は塩素又は臭素である)のα−ピロンの製法であっ
て、 式Ib: c式中 R1は塩素又は臭素であり R3は塩素又は臭
素である)のα−ピロンを水素を用いて還元することか
ら成る方法に関する。
R1は塩素又は臭素である)のα−ピロンの製法であっ
て、 式Ib: c式中 R1は塩素又は臭素であり R3は塩素又は臭
素である)のα−ピロンを水素を用いて還元することか
ら成る方法に関する。
この還元はそれ自体公知であり1例えばJ。
Med、 Che+s、、29.1159−1163
(1986年)に記載されている。還元に際しては、
金属を酸、例えばZn/HCβ及び好適にはZn/酢酸
で処理することによって、それ自体公知の方法で生成さ
れる発生期の水素を使用することが好ましい、また、過
剰量の酢酸を使用することが好ましく、この酢酸は、同
時に溶媒としても作用する。
(1986年)に記載されている。還元に際しては、
金属を酸、例えばZn/HCβ及び好適にはZn/酢酸
で処理することによって、それ自体公知の方法で生成さ
れる発生期の水素を使用することが好ましい、また、過
剰量の酢酸を使用することが好ましく、この酢酸は、同
時に溶媒としても作用する。
しかし、不活性溶媒、例えば非プロトン溶媒及び、場合
によっては、極性溶媒を使用することも可能である。こ
のような溶媒の例としては、炭化水素(石油エーテル、
ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘ
キサン)及びエーテル(ジエチルエーテル、ジブチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレング
リコールジメチルエーテル)がある。
によっては、極性溶媒を使用することも可能である。こ
のような溶媒の例としては、炭化水素(石油エーテル、
ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘ
キサン)及びエーテル(ジエチルエーテル、ジブチルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレング
リコールジメチルエーテル)がある。
反応温度は、20〜100℃の範囲にすることができる
。処理は、4.6−ジハロゲン化α−ピロンを。
。処理は、4.6−ジハロゲン化α−ピロンを。
不活性溶媒を用いるか又は用いないで、酸中に溶解させ
、金属を何度かに分けて又は−斉に添加することにより
、実施することができる1発熱反応が鎮静化した後、数
時間撹拌することにより、反応を完了せしめることがで
きる。金属は適宜当量で添加する。
、金属を何度かに分けて又は−斉に添加することにより
、実施することができる1発熱反応が鎮静化した後、数
時間撹拌することにより、反応を完了せしめることがで
きる。金属は適宜当量で添加する。
所望の生成物を単離するために、用いた酸の過剰分を、
蒸留又は減圧蒸留により、溶媒とともに先ず除去するこ
とができる。溶媒を同時に使用する場合は、溶媒に溶か
された反応混合物又は蒸留残渣は、例えばKHCOsの
添加により、直接中和することができる。単離及び精製
は、従来の方法、例えば蒸留、再結晶又はクロマトグラ
フィーにより実施することができる。
蒸留又は減圧蒸留により、溶媒とともに先ず除去するこ
とができる。溶媒を同時に使用する場合は、溶媒に溶か
された反応混合物又は蒸留残渣は、例えばKHCOsの
添加により、直接中和することができる。単離及び精製
は、従来の方法、例えば蒸留、再結晶又はクロマトグラ
フィーにより実施することができる。
式Ibの化合物は、式II:
のグルタコン酸を、例えば塩化アセチル、塩化チオニル
、pegs、PGI1又はPBrsを用いて、環化する
ことによって、それ自体公知の手法で得ることができる
。
、pegs、PGI1又はPBrsを用いて、環化する
ことによって、それ自体公知の手法で得ることができる
。
この製法は、J、 Med、 Chem、、29.11
59−1163(1986年)に記載されている1式I
Iのグルタコン酸の製法は1例えばJ、 Med、 C
hem、 Soc、、121゜1638 (1922年
)に記載されている。
59−1163(1986年)に記載されている1式I
Iのグルタコン酸の製法は1例えばJ、 Med、 C
hem、 Soc、、121゜1638 (1922年
)に記載されている。
驚くべきことに、式1aの化合物においては、塩素又は
臭素原子は、求核性化合物により置換されることができ
、この置換においては、6位の求核性+1.H基に対し
て無視できる程度の攻撃しか起こらない。適当な求核性
化合物の例としては、第二アミン、脂肪族及び芳香族の
アルコールもしくはメルカプタン又はそれらのアルカリ
金属塩ならびにスルフィン酸のアルカリ金属塩がある。
臭素原子は、求核性化合物により置換されることができ
、この置換においては、6位の求核性+1.H基に対し
て無視できる程度の攻撃しか起こらない。適当な求核性
化合物の例としては、第二アミン、脂肪族及び芳香族の
アルコールもしくはメルカプタン又はそれらのアルカリ
金属塩ならびにスルフィン酸のアルカリ金属塩がある。
適当なアルカリ金属の例としては、Li、 Na及びK
がある。
がある。
求核性置換基を有する式Iaの化合物及びそれらの誘導
体は、ディールス・アルダ−反応にとって有用なジエン
成分である。1.4−アントラキノンとの反応は、2位
置換ナフタセン−5,12−ジオンに至り、その中でも
特に、メルカプタンにより置換されているナフタセン−
5,12−ジオンは、エチレン性不飽和の光重合性又は
光二量化性化合物にとっての優れた光開始剤又は光増感
剤である。
体は、ディールス・アルダ−反応にとって有用なジエン
成分である。1.4−アントラキノンとの反応は、2位
置換ナフタセン−5,12−ジオンに至り、その中でも
特に、メルカプタンにより置換されているナフタセン−
5,12−ジオンは、エチレン性不飽和の光重合性又は
光二量化性化合物にとっての優れた光開始剤又は光増感
剤である。
本発明を以下の実施例に沿って説明する。
A)乳製貝
1:4.6−ジクロロ−2−オキソ−2H−ビラン4.
6−ジクロロ−〇−ピロン 3−グルタコン酸114.93g (0,699モル)
を、氷で冷却したPut 291.15g(1,39
8モル)に添加した。H(:I2ガスの強烈な発生を伴
いながら激しい反応が起こり、赤色の溶液が形成した0
反応混合物を100℃で15分間撹拌し、得られるPO
Cβ。
6−ジクロロ−〇−ピロン 3−グルタコン酸114.93g (0,699モル)
を、氷で冷却したPut 291.15g(1,39
8モル)に添加した。H(:I2ガスの強烈な発生を伴
いながら激しい反応が起こり、赤色の溶液が形成した0
反応混合物を100℃で15分間撹拌し、得られるPO
Cβ。
を水流ポンプによる減圧下40°Cで蒸留して除去した
。残渣をCH2CJ2 t 2000 m9中に溶かし
、水を用いて抽出した後、水性抽出物をHyfloに通
して濾過した。 pHが7〜7.5を超過しないよう留
意しつつ、有機溶液をNaHCO,水溶液中で撹拌した
。有機相をNazSO4上で乾燥させ、水流ポンプによ
る減圧下45℃で濃縮し、残渣をUフラスコ中、0.0
5mバール80〜100℃の浴温下で蒸留した。収量(
率) : 27.6g (71,9%)、融点:4
3〜45℃。
。残渣をCH2CJ2 t 2000 m9中に溶かし
、水を用いて抽出した後、水性抽出物をHyfloに通
して濾過した。 pHが7〜7.5を超過しないよう留
意しつつ、有機溶液をNaHCO,水溶液中で撹拌した
。有機相をNazSO4上で乾燥させ、水流ポンプによ
る減圧下45℃で濃縮し、残渣をUフラスコ中、0.0
5mバール80〜100℃の浴温下で蒸留した。収量(
率) : 27.6g (71,9%)、融点:4
3〜45℃。
酢酸150mg、中4.6−ジクロロー2−オキソー2
H−ビラン49.5g (0,3モル)の溶液に、Zn
21.6g(0,3モル)を−度に添加した。起生ず
る発熱反応が鎮静化した後、反応混合物を2時間撹拌し
た。酢酸を水流ポンプによる減圧下50℃で蒸留により
除去し、残渣をCH@Cβヨ300nl中に溶かした。
H−ビラン49.5g (0,3モル)の溶液に、Zn
21.6g(0,3モル)を−度に添加した。起生ず
る発熱反応が鎮静化した後、反応混合物を2時間撹拌し
た。酢酸を水流ポンプによる減圧下50℃で蒸留により
除去し、残渣をCH@Cβヨ300nl中に溶かした。
水10011βを添加した後、pHが7になるまで、K
HCOiを効果的に撹拌しながら何度かに分けて添加し
た。有機相を分離し、水性溶液をCH−CI2 x10
0mI2で二回抽出した0合わせた有機相をNaxSO
4上で乾燥させ、濃縮した。蒸留残渣を吸引により濾過
し、結晶質の残渣をエーテルで洗浄した。母液をシリカ
ゲル上でクロマトグラフィーにかけた(溶離剤: CH
,l 、 ’) 、総収量+ 12.43g (理論値
の31.7%)、融点=56〜58℃。
HCOiを効果的に撹拌しながら何度かに分けて添加し
た。有機相を分離し、水性溶液をCH−CI2 x10
0mI2で二回抽出した0合わせた有機相をNaxSO
4上で乾燥させ、濃縮した。蒸留残渣を吸引により濾過
し、結晶質の残渣をエーテルで洗浄した。母液をシリカ
ゲル上でクロマトグラフィーにかけた(溶離剤: CH
,l 、 ’) 、総収量+ 12.43g (理論値
の31.7%)、融点=56〜58℃。
B)伍■胴
ジメチルホルムアミド2nfl中4−クロロ−2−才キ
ソー2H−ビラン0.433g (0,0033モル)
及びベンジルメルカプタン0.41g (0,0033
モル)の溶液に、Kz[:Os O,228g (0,
00165モル)を添加した0反応混合物を1時間撹拌
し、そこで同量のKjCO,をもう−度添加した。さら
に反応混合物を25℃で一夜撹拌し、CH*CI2*
30 tsEで稀釈し、NaCl2の飽和水溶液50m
βで5回抽出した。有機相をNatSOa上で乾燥させ
、水流ポンプによる減圧下で濃縮した。蒸留残渣をシリ
カゲル上でクロマトグラフィーにかけた。収量(率)
: 0.36 g (50%)。
ソー2H−ビラン0.433g (0,0033モル)
及びベンジルメルカプタン0.41g (0,0033
モル)の溶液に、Kz[:Os O,228g (0,
00165モル)を添加した0反応混合物を1時間撹拌
し、そこで同量のKjCO,をもう−度添加した。さら
に反応混合物を25℃で一夜撹拌し、CH*CI2*
30 tsEで稀釈し、NaCl2の飽和水溶液50m
βで5回抽出した。有機相をNatSOa上で乾燥させ
、水流ポンプによる減圧下で濃縮した。蒸留残渣をシリ
カゲル上でクロマトグラフィーにかけた。収量(率)
: 0.36 g (50%)。
融点:105〜106℃。
b)2−ベンジルチオナフタセン−512−ジオンジク
ロロベンゼン5I112中4−ベンジルチオ−2〜オキ
ソ−2トビラン0.27g (0,0012モル) 、
1.4−アントラキノン0.25g (0,0012
モル)及びMnO*0、10g (0,0012モル)
の混合物を、還流下24時間加熱しく180℃)、その
後冷却し、シリカゲル上でクロマトグラフィーにかけた
。シクロヘキサンを溶離剤として使用し、ジクロロベン
ゼンを最初に抽出し、次にCHICI21を用いて粗生
成物をクロマトグラフィーにかけた。この予め精製した
生成物を、CU*Cβ8を溶離剤として使用して、もう
−度クロマトグラフィーにかけ、溶媒を蒸発により除去
した。収量(率) : 0.09 g (20%)、
融点:200〜203 ℃。
ロロベンゼン5I112中4−ベンジルチオ−2〜オキ
ソ−2トビラン0.27g (0,0012モル) 、
1.4−アントラキノン0.25g (0,0012
モル)及びMnO*0、10g (0,0012モル)
の混合物を、還流下24時間加熱しく180℃)、その
後冷却し、シリカゲル上でクロマトグラフィーにかけた
。シクロヘキサンを溶離剤として使用し、ジクロロベン
ゼンを最初に抽出し、次にCHICI21を用いて粗生
成物をクロマトグラフィーにかけた。この予め精製した
生成物を、CU*Cβ8を溶離剤として使用して、もう
−度クロマトグラフィーにかけ、溶媒を蒸発により除去
した。収量(率) : 0.09 g (20%)、
融点:200〜203 ℃。
C)し1−フ の のためのアクリレート へ曵光盪
進 以下の成分を混合することによって光硬化性組成物を調
製した。
進 以下の成分を混合することによって光硬化性組成物を調
製した。
1形分
5cripset 540” (アセ82930%溶液
)150.30g 45.1gトリメチ
ロールプロパン トリアクリレート 48.30g 48.
3gポリエチレングリコール ジアクリレート 6.60g 6.
6gクリスタルバイオレット0.08g 205.28g 100.0g1ポリスチ
レンマレイン酸ハ一フエステル共重合体(Monsan
tol この組成物の各成分を2−ベンジルチオナフタセン−5
,12−ジオン0.2%(組成物を基準とする)ととも
に混合した。操作はすべて赤色又は黄色の光の下で行な
った。
)150.30g 45.1gトリメチ
ロールプロパン トリアクリレート 48.30g 48.
3gポリエチレングリコール ジアクリレート 6.60g 6.
6gクリスタルバイオレット0.08g 205.28g 100.0g1ポリスチ
レンマレイン酸ハ一フエステル共重合体(Monsan
tol この組成物の各成分を2−ベンジルチオナフタセン−5
,12−ジオン0.2%(組成物を基準とする)ととも
に混合した。操作はすべて赤色又は黄色の光の下で行な
った。
150μ腸のヘリカル・ドクター(ブレード)を用いて
、試料を200μmのアルミニウムシート(10x 1
5cm)に塗布した。乾燥基中60℃で15分間加熱す
ることにより溶媒を除去すると、厚さ35μmの乾燥し
た層が得られた。この層の上に、厚さ76gmのポリエ
ステルシートを敷き、そしてこのポリエステルシートの
上に、21段階の異なる光学濃度(Stouffer<
さび)を有する標準試験ネガを置いた。そして、このネ
ガの上に第二のポリエステルシートを置き、こうして得
られた積層物を減圧により金属プレートに付着させた。
、試料を200μmのアルミニウムシート(10x 1
5cm)に塗布した。乾燥基中60℃で15分間加熱す
ることにより溶媒を除去すると、厚さ35μmの乾燥し
た層が得られた。この層の上に、厚さ76gmのポリエ
ステルシートを敷き、そしてこのポリエステルシートの
上に、21段階の異なる光学濃度(Stouffer<
さび)を有する標準試験ネガを置いた。そして、このネ
ガの上に第二のポリエステルシートを置き、こうして得
られた積層物を減圧により金属プレートに付着させた。
そして試料を5Kwのメタルハライドランプ(MO23
型)に30cmの距離を置いて露光せしめた。露光は、
第一の試行においては20秒間、そして第二の試行にお
いては40秒間行なった。露光の後、シート及びマスク
を除去し、露光層を、超音波洛中で2分間、現像剤Aを
用いて現像し、その後乾燥基中60℃で15分間乾燥さ
せた。開始剤系の感度は、不粘着性として再現された最
終のくさび段階がどこかを確認することにより、示され
る0段階の数値が高くなるにつれ、その系はより高感度
となる。二段階骨の増加は、硬化速度がほぼ倍増したこ
とを意味する。再現された段階の数は、20秒間の露光
の後で、lであり、40秒間の露光の後で、4であった
。(現像剤Aは、メタ珪酸ナトリウム9水和物15g、
KOI O,16g、ポリエチレングリコール60
003g、レブリン酸0.5g及び脱イオン水1100
(Iを含有)。
型)に30cmの距離を置いて露光せしめた。露光は、
第一の試行においては20秒間、そして第二の試行にお
いては40秒間行なった。露光の後、シート及びマスク
を除去し、露光層を、超音波洛中で2分間、現像剤Aを
用いて現像し、その後乾燥基中60℃で15分間乾燥さ
せた。開始剤系の感度は、不粘着性として再現された最
終のくさび段階がどこかを確認することにより、示され
る0段階の数値が高くなるにつれ、その系はより高感度
となる。二段階骨の増加は、硬化速度がほぼ倍増したこ
とを意味する。再現された段階の数は、20秒間の露光
の後で、lであり、40秒間の露光の後で、4であった
。(現像剤Aは、メタ珪酸ナトリウム9水和物15g、
KOI O,16g、ポリエチレングリコール60
003g、レブリン酸0.5g及び脱イオン水1100
(Iを含有)。
Claims (8)
- (1)式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1は塩素又は臭素であり、R^2は水素、
塩素又は臭素である)のα−ピロン。 - (2)4−クロロ−α−ピロンである、請求項1記載の
式 I のα−ピロン。 - (3)4,6−ジクロロ−α−ピロンである、請求項1
記載の式 I のα−ピロン。 - (4)式 I a: ▲数式、化学式、表等があります▼( I a) (式中、R^1は塩素又は臭素である)のα−ピロンの
製法において、 式 I b: ▲数式、化学式、表等があります▼( I b) (R^1は塩素又は臭素であり、R^3は塩素又は臭素
である)のα−ピロンを水素を用いて還元することを特
徴とする方法。 - (5)不活性溶媒を同時に使用する、請求項4記載の方
法。 - (6)反応を亜鉛と酢酸の混合物を用いて実施する、請
求項4記載の方法。 - (7)酢酸を過剰に使用し、かつそれが同時に溶媒とし
て作用する、請求項6記載の方法。 - (8)式 I b: ▲数式、化学式、表等があります▼( I b) (式中、R^1は塩素又は臭素であり、R^3は塩素又
は臭素である)の化合物の製法において、 式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1は塩素又は臭素である)の化合物を、塩
化アセチル、塩化チオニル、三塩化燐、三臭化燐又は五
塩化燐の存在において、環化することを特徴とする方法
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH422488 | 1988-11-15 | ||
| CH4224/88-4 | 1988-11-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02196781A true JPH02196781A (ja) | 1990-08-03 |
Family
ID=4272119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1295184A Pending JPH02196781A (ja) | 1988-11-15 | 1989-11-15 | 置換α―ピロン及びその製法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5004814A (ja) |
| EP (1) | EP0369941B1 (ja) |
| JP (1) | JPH02196781A (ja) |
| CA (1) | CA2002727A1 (ja) |
| DE (1) | DE58906891D1 (ja) |
-
1989
- 1989-10-16 US US07/421,573 patent/US5004814A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-06 EP EP89810837A patent/EP0369941B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-11-06 DE DE89810837T patent/DE58906891D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-10 CA CA002002727A patent/CA2002727A1/en not_active Abandoned
- 1989-11-15 JP JP1295184A patent/JPH02196781A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5004814A (en) | 1991-04-02 |
| EP0369941B1 (de) | 1994-02-02 |
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