JPH02197158A - リードフレームの製造方法 - Google Patents

リードフレームの製造方法

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JPH02197158A
JPH02197158A JP1498289A JP1498289A JPH02197158A JP H02197158 A JPH02197158 A JP H02197158A JP 1498289 A JP1498289 A JP 1498289A JP 1498289 A JP1498289 A JP 1498289A JP H02197158 A JPH02197158 A JP H02197158A
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JP
Japan
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die pad
plating process
lead
lead frame
inner lead
Prior art date
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Pending
Application number
JP1498289A
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English (en)
Inventor
Masahiro Fuse
正弘 布施
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、リードフレームの製造方法に関するものであ
る。
(従来の技術) 半導体素子を搭載したパッケージの中で、樹脂封止タイ
プは、約80%を占めており、そのほとんどのものにリ
ードフレームが用いられている。
これらのリードフレームを用いたICノくツケージの製
造方法について第6図をもちいて説明すると。
基材として鉄、鉄合金(例えば42合金)、銅。
銅合金(例えばC19400,C50710)等が用し
Aられ。
基材厚0.15〜0 、25mm程度の薄板をウニ・ノ
トエ・ノチングや、プレスを使用したスタンピングで外
枠部10(上下レール、サイトレール)1アウタ一リー
ド部比 インナーリード部13は吊りビン14を介して
上下レール10a、 10bに連結されている。このよ
うにして、パターンが形成されたのち、ワイヤボンデン
グの為のめっきがインナーリード12の先端に施され、
必要に応じてデイプレスや、インナーリードの変形を押
さえるためのテーピング加工が行われる。
半導体装置は、半導体素子をリードフレームのダイパッ
ド13にエポキシペーストや金−シリコン共晶でマウン
トし、半導体素子上のボンデングノ<ラドとインナーリ
ード12の先端のめつき部を金細線(例えばφ25uI
11)で接続する。いわゆるワイヤボンデングを行い、
エポキシ樹脂等を用いてトランスファーモールドする。
その後、吊りビン14.ダムバー15.そしてサイトレ
ール部とアラクーリード先端の接続部16を切り離し、
アウターリード11を所定の形状に折り曲げて製造され
る。
(発明が解決しようとする諜B) 上記の従来の技術においては、リードフレームをウェッ
トエツチングやスタンピングで加工したのちの取扱い、
めっき工程でのめっき治具や洗浄からの外圧により、イ
ンナーリードが変形してしまうことがあり、工程歩留り
を低下させるという問題があった。
このインナーリードの変形は、最近の多ビン化傾向によ
り、さらに顕著になってきている。つまり。
多ビン化になるとインナーリードの先端ピンチが狭くな
り、これを実現する一方法として基材厚を薄くしてきた
このようなことからインナーリードは変形しやすく、少
しの変形でもすぐ隣のインナーリードに接触し、その為
、そのリードフレームは不良になってしまう。
又、従来の技術(特開昭62−115853.60−1
76260 )においては、ウェットエツチングにより
、ダイパッド部とインナーリードの先端部との隙間を先
に設け、後プレス加工する方法が採られており、加工後
のダイパッド部とインナーリードの先端部との間隔が大
きくなるという制限があった。これにより、後のアセン
ブリ工程において、モールド時ワイヤたれ、変形、ショ
ートがおこるという問題があった。
従って1本発明の目的は2以上の技術的課題を解決し、
めっき工程でのめっき治具や洗浄からの外圧による変形
や8後のアセンブリ工程におけるモールド時のワイヤた
れ、変形、ショートを効果的に防ぐことの可能なリード
フレームを捉供することにある。
(課題を解決するための手段) 上記の問題点を解決すべく1種々研究の結果リードフレ
ームの製造方法は、導電性の金属薄板からなる基材をエ
ツチング法または1 ブレス法の加工により、吊りビン
を介してダイパッド部をアウターリード部からダイパッ
ド部の縁周に延設された複数のインナーリードの先端部
が連結されるよう形成した後、少なくとも、めっき工程
を経た後、ダイパッド縁周に連結されているインナーリ
ードの先端部を切り離すことを特徴とすることを見出し
て本発明を完成したものである。
即ち9本発明は、インナーリード部の先端が、ダイパッ
ドに連結された状態で、めっき工程の処理を行うことを
要旨とするものである。
(作用) 本発明のリードフレームのように、全てのインナーリー
ド部の先端が、ダイパッドに連結された状態で、めっき
工程の処理を行えば、インナーリード部は、めっき工程
でのめっき治具や洗浄からの外圧に極めて安定である。
しかも2本発明では、ウェットエツチングにより。
ダイパッド部とインナーリードの先端部との隙間を先に
設けない為1プレス後のダイパッド部とインナーリード
の先端部との間隔を小さくすることができる。これによ
り、後のアセンブリ工程におけるモールド時のワイヤた
れ、変形、ショートを防止できる。
(実施例) 上記の本発明について、以下に実施例を挙げて更に詳細
に説明する。
第1図1工は本発明のリードフレーム製造の製造途中の
ダイパッド近辺を示したものである。
先ず、金属薄板をエツチングにて第6図のように。
外枠部10.アウターリード部11.インナーリード部
12.そしてダイパッド部13を形成する。この時。
グイバンド部近傍は第1図のごとく、吊りビン14を介
して1ダイパッド部13が設けられ、この縁周にインナ
ーリード12aがアウターリードから延設され、かつ、
連結された状態に形成する。
次に、グイボンディングやワイヤポンディング作業の為
にめっき17を行う。めっきは必要に応じダイパッド部
13にも行うことがある。
次いで、ダイパッド部縁周のインナーリードの先端連結
部18を第2図30のように切断する。
切断位置は、第3図40のように、グイバンドの縁周に
インナーリードの一部が残るようにしてもよい。また、
第4図5(lは、半導体素子を1グイボンデイングする
側と反対の側からみたリードフレームの平面図であるが
、切断が容易になるよう所定の箇所19a、 19bに
ハーフエッチでグループを入れてもよい。
このように、インナーリードが、グイバンドと連結され
ている状態で切断すると、エツチングからめっき完成比
のハンドリングやめっき処理時の外圧によるインナーリ
ードの変形は、完全に防止できる。
上記の実施例では、めっき工程後1インナーリードの切
断をしたが1めっき工程後1デイプレス。
テーピングを行いインナーリード先端を切断することも
ある。
(発明の効果) 上記の本発明によるリードフレームの製造においてイン
ナーリードをダイパッドに連結した状態にエツチングで
形成したので、シートから個々のリードフレームを分離
させる時の取扱いや、めっき工程及びその前後の洗浄処
理時、且つ又、デイプレスやテーピングを行う場合の作
業取扱いで発生するインナーリードの変形は、はぼ完全
に防止でき1歩留り向上と同時に作業性の向上にも役立
つ。
更に1本発明では、ウェットエツチングにより。
ダイパッド部とインナーリードの先端部との隙間を先に
設けない為、プレス後のダイパッド部とインナーリード
の先端部との間隔を小さくすることができる。これによ
り、後のアセンブリ工程におけるモールド時のワイヤた
れ1変形、ショートを防止でき、半導体素子のポンディ
ングパッドとリードフレームの接続作業であるワイヤボ
ンディングの歩留り及び作業性向上とともに安定した信
頼性の確保が得られることが推定される。
【図面の簡単な説明】
第1図は9本発明によるリードフレームの製造途中の要
点を示す平面図であり、第2図、第3図は1本発明に係
わるリードフレームの要部を示す平面図、第4図は1本
発明に係わるリードフレームの要部を裏面からみた平面
図であり、第5図は。 第4図の一部の断面図である。 第6図は、従来のリードフレームの例を示す平面図であ
る。 12a−−−インナーリード 13−−−ダイパッド部 14−一一吊りピン 17−−−めっき部 18−m−先端連結部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体装置用のリードフレームにおいて、導電性の金属
    板からなる基材をエッチング法または、プレス法の加工
    により吊りピンを介してダイパッド部をアウターリード
    部からダイパッド部の縁周に延設された複数のインナー
    リードの先端部が連結されるよう形成した後、少なくと
    もめっき工程を経た後、ダイパッド縁周に連結されてい
    るインナーリードの先端部を切り離すことを特徴とする
    リードフレームの製造方法
JP1498289A 1989-01-26 1989-01-26 リードフレームの製造方法 Pending JPH02197158A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02210854A (ja) * 1989-02-09 1990-08-22 Mitsui High Tec Inc 半導体装置に用いるリードフレームの製造方法
EP0701280A3 (en) * 1994-08-11 1997-03-12 Shinko Electric Ind Co Conductor frame and manufacturing method
US5696029A (en) * 1993-08-31 1997-12-09 Texas Instruments Incorporated Process for manufacturing a lead frame
EP0887850A3 (en) * 1997-06-23 2001-05-02 STMicroelectronics, Inc. Lead-frame forming for improved thermal performance

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