JPH02204750A - 感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - Google Patents
感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法Info
- Publication number
- JPH02204750A JPH02204750A JP2383289A JP2383289A JPH02204750A JP H02204750 A JPH02204750 A JP H02204750A JP 2383289 A JP2383289 A JP 2383289A JP 2383289 A JP2383289 A JP 2383289A JP H02204750 A JPH02204750 A JP H02204750A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- photosensitive composition
- pattern
- copolymer
- forming method
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、水溶性感光性組成物及びそれを用いたパター
ン形成方法に係り、特にカラーブラウン管のIM造に用
いるのに好適な水溶性感光性組成物及びそれを用いたパ
ターン形成方法に関する。
ン形成方法に係り、特にカラーブラウン管のIM造に用
いるのに好適な水溶性感光性組成物及びそれを用いたパ
ターン形成方法に関する。
従来のパターン形成方法の一例として、特じ旧イイ48
−90185.特開昭50−33764にはカラーブラ
ウン管のブラックマトリックスの製造方法及びこれに用
いる感光性組成物が記載されている。この方法は、相反
則不軌特性を有する感光性組成物、例えばアクリルアミ
ド−ジアセトンアクリルアミド共y■(合体等の高分子
化合物とビスアジド系架橋剤とからなる組成物、を用い
て光照射区域より実質的に小面積のパターンを形成する
方法である。
−90185.特開昭50−33764にはカラーブラ
ウン管のブラックマトリックスの製造方法及びこれに用
いる感光性組成物が記載されている。この方法は、相反
則不軌特性を有する感光性組成物、例えばアクリルアミ
ド−ジアセトンアクリルアミド共y■(合体等の高分子
化合物とビスアジド系架橋剤とからなる組成物、を用い
て光照射区域より実質的に小面積のパターンを形成する
方法である。
これについて詳しく説明する。ブラックマトリックス型
カラーブラウン管は、パネル内面に赤。
カラーブラウン管は、パネル内面に赤。
青、緑のけい光体ドツト又はストライプ等のけい光体パ
ターンを有し、その間の空隙をカーボン等の非発光性光
吸収性物質で埋めた構造を有する。
ターンを有し、その間の空隙をカーボン等の非発光性光
吸収性物質で埋めた構造を有する。
以下、説明の便宜のためドツトの場合について、その製
造方法を述べる。まずカラーブラウン管フェースプレー
ト内面に、前記相反則不軌特性を有する感光性組成物の
塗膜を形成し、けい光体ドツトを形成する位置をシャド
ウマスクを介して露光し、現像して感光性組成物のドツ
トを形成する。
造方法を述べる。まずカラーブラウン管フェースプレー
ト内面に、前記相反則不軌特性を有する感光性組成物の
塗膜を形成し、けい光体ドツトを形成する位置をシャド
ウマスクを介して露光し、現像して感光性組成物のドツ
トを形成する。
この上にカーボンを塗布し、剥離液でドツトをその上の
カーボンと共に除去する。かくてブラックマトリックス
のホールが形成される。このホールに順次赤、青、緑の
けい光体ドラ1−を形成する。
カーボンと共に除去する。かくてブラックマトリックス
のホールが形成される。このホールに順次赤、青、緑の
けい光体ドラ1−を形成する。
相反則不軌特性を有する感光性組成物を用いているため
、上記感光性組成物のドツトの面積、すなわちけい光体
ドツトの面積は、シャドウマスクを介して光照射された
面積より実質的に小さい。従ってこのシャドウマスクを
用いてカラーブラウン管を完成すれば、上記シャドウマ
スクの穴を通って照射される電子ビームの直径は、けい
光ドットのそれより大きい。それ故、製造したカラーブ
ラウン管は明るく、コントラストに優れている。
、上記感光性組成物のドツトの面積、すなわちけい光体
ドツトの面積は、シャドウマスクを介して光照射された
面積より実質的に小さい。従ってこのシャドウマスクを
用いてカラーブラウン管を完成すれば、上記シャドウマ
スクの穴を通って照射される電子ビームの直径は、けい
光ドットのそれより大きい。それ故、製造したカラーブ
ラウン管は明るく、コントラストに優れている。
上記従来技術は、カラーブラウン管の大型化については
配慮されておらず、大型のカラーブラウン管製造の場合
、露光面が光源から離れるため、鯖光面における照度が
下がり、#l光に長時間要するという問題があった0本
発明の目的は、高感度な感光性組成物及びそれを用いた
パターン形成方法を提供することにある。
配慮されておらず、大型のカラーブラウン管製造の場合
、露光面が光源から離れるため、鯖光面における照度が
下がり、#l光に長時間要するという問題があった0本
発明の目的は、高感度な感光性組成物及びそれを用いた
パターン形成方法を提供することにある。
上記目的は、感光剤としてアジドベンジリデンアセトフ
ェノンスルホン酸塩のマレイン酸エステル(構造I)を
モノマー単位の−っとして含む共重合体を用いこれと水
溶性高分子化合物を含む感光性組成物を用いることによ
り達成される。
ェノンスルホン酸塩のマレイン酸エステル(構造I)を
モノマー単位の−っとして含む共重合体を用いこれと水
溶性高分子化合物を含む感光性組成物を用いることによ
り達成される。
C=O
0sNa
(構造1)
特に水溶性高分子として、上記感光剤と反応した時に相
反則不軌特性をボすような高分子化合物を用いることに
より、本感光性組成物に相反則不軌性を付与できる。
反則不軌特性をボすような高分子化合物を用いることに
より、本感光性組成物に相反則不軌性を付与できる。
上記感光性組成物を所望のパターンを形成しようとする
面上に塗布し、この塗膜に酸素の存在する条件下で所望
のパターン露光を行ない、続いて上記塗膜を現像するこ
とにより、光照射区域より実質的に小さい面積のパター
ンを形成することが可能になる。本パターン形成方法を
カラーブラウン管のフェースプレート内面を基板として
実施すれば、優れた性能をもつブラックマトリクス蛍光
面を形成することができる。
面上に塗布し、この塗膜に酸素の存在する条件下で所望
のパターン露光を行ない、続いて上記塗膜を現像するこ
とにより、光照射区域より実質的に小さい面積のパター
ンを形成することが可能になる。本パターン形成方法を
カラーブラウン管のフェースプレート内面を基板として
実施すれば、優れた性能をもつブラックマトリクス蛍光
面を形成することができる。
本発明の感光性組成物は、感光剤としてアジドベンジリ
デンアセトフェノンスルホン酸のマレイン酸エステルを
七ツマー単位の一つとして含む共重合体の他に、アジド
ベンジリデンアセトフェノンカルボン酸およびこれらの
塩を用いることができる。これらの塩とは、ナトリウム
、カリウム。
デンアセトフェノンスルホン酸のマレイン酸エステルを
七ツマー単位の一つとして含む共重合体の他に、アジド
ベンジリデンアセトフェノンカルボン酸およびこれらの
塩を用いることができる。これらの塩とは、ナトリウム
、カリウム。
リチウム、アンモニウム、テトラアルキルアンモニウム
からなる塩である。
からなる塩である。
テトラアルキルアンモニウム塩としてはテトラメチルア
ンモニウム、テトラエチルアンモニウム。
ンモニウム、テトラエチルアンモニウム。
テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウ
ム塩が使用できる。感光剤と水溶性高分子の混合比率は
、水溶性高分子に対して感光剤が1〜50wt%の範囲
であることが好ましく、5〜30wt%の範囲であるこ
とがより好ましい。
ム塩が使用できる。感光剤と水溶性高分子の混合比率は
、水溶性高分子に対して感光剤が1〜50wt%の範囲
であることが好ましく、5〜30wt%の範囲であるこ
とがより好ましい。
本発明の感光性組成物に用いられる水溶性高分子として
は、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ビニ
ルピロリドン共重合体、アクリルアミド−ジアセトンア
クリルアミド共重合体等の酸素透過性に優れたものが好
ましい。
は、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ビニ
ルピロリドン共重合体、アクリルアミド−ジアセトンア
クリルアミド共重合体等の酸素透過性に優れたものが好
ましい。
本発明の感光性組成物は、上記水溶性高分子化合物と相
溶性をもつ他の水溶性高分子化合物、例えばカルボキシ
メチルセルロース等と混合して用いることも可能である
。これについては前記特開昭48−90185 、特開
昭50−33764に開示されている。
溶性をもつ他の水溶性高分子化合物、例えばカルボキシ
メチルセルロース等と混合して用いることも可能である
。これについては前記特開昭48−90185 、特開
昭50−33764に開示されている。
また、塗料としたときの特性の改良等のために、本発明
の感光性組成物にポリオキシエチレンアルキルエーテル
等の界面活性剤又はエチレングリコール等を加えること
、基板との接着性改良のためにビニルトリス(β−メト
キシエトキシ)シラン等のカップリング剤を感光性組成
物に加えることも前記の公報に記載されており、本発明
の場合もこのような方法を用いることができる。
の感光性組成物にポリオキシエチレンアルキルエーテル
等の界面活性剤又はエチレングリコール等を加えること
、基板との接着性改良のためにビニルトリス(β−メト
キシエトキシ)シラン等のカップリング剤を感光性組成
物に加えることも前記の公報に記載されており、本発明
の場合もこのような方法を用いることができる。
本発明のパターン形成方法は、気体酸素の存在する条件
で露光を行うことが必要である。またシュバルツシルツ
定数pの値がO< P < 0 、7 Ei の、!@
囲で露光することが好ましい。シュバルツシルツ定数と
相反則不軌特性については前記公報に記載されている。
で露光を行うことが必要である。またシュバルツシルツ
定数pの値がO< P < 0 、7 Ei の、!@
囲で露光することが好ましい。シュバルツシルツ定数と
相反則不軌特性については前記公報に記載されている。
本発明の共重合体は、超高圧水銀灯から発する励起光の
内、特に340nm又は365nmの波長の光をよく吸
収する。またこの共重合体は従来のビスアジド化合物よ
り高分子であり1分子中に多くのアジド基を持つ。その
ため同一露光量において架橋点の数に対する架橋後の分
子量の増加率が上がるので感光性組成物として高FA!
31iとなる。
内、特に340nm又は365nmの波長の光をよく吸
収する。またこの共重合体は従来のビスアジド化合物よ
り高分子であり1分子中に多くのアジド基を持つ。その
ため同一露光量において架橋点の数に対する架橋後の分
子量の増加率が上がるので感光性組成物として高FA!
31iとなる。
以下、本発明を実施例を用いて詳細に説明する。
実施例1
アジドベンジリデンアセトフェノンスルホン酸ナトリウ
ムマレイン酸エステル−ビニルメチルエーテル共重合体
(1)の合成について述べる。
ムマレイン酸エステル−ビニルメチルエーテル共重合体
(1)の合成について述べる。
p−ヒドロキシアセトフェノン14gを1%苛性ソーダ
水500 m mに溶かす。4−アジドベンズアルデヒ
ド−2−スルホン酸ナトリウム25gを加えて溶かす、
これを30−40℃位で1日間放置し、これに酢酸を加
えて酸性にした後、析出している結晶を濾別し、さらに
熱いエタノールから再結晶化し、精!Ia4−ヒドロキ
シモノアジドベンジリデンアセ1−フェノンスルホン酸
ナトリウムを得た。
水500 m mに溶かす。4−アジドベンズアルデヒ
ド−2−スルホン酸ナトリウム25gを加えて溶かす、
これを30−40℃位で1日間放置し、これに酢酸を加
えて酸性にした後、析出している結晶を濾別し、さらに
熱いエタノールから再結晶化し、精!Ia4−ヒドロキ
シモノアジドベンジリデンアセ1−フェノンスルホン酸
ナトリウムを得た。
ポリ(メチルビニルエーテル/無水マレイン酸)6gを
乾燥したピリジンloomQに溶かす、これに上記精製
した4−ヒドロキシモノアジドベンジリデンアセ1−フ
ェノンの5gをピリジン100mmに溶かした溶油を加
える。50〜60℃で攪拌しながら加熱した。過剰のア
セトンにこの反応後の溶液を注入し、アジドポリマー全
析出させた。
乾燥したピリジンloomQに溶かす、これに上記精製
した4−ヒドロキシモノアジドベンジリデンアセ1−フ
ェノンの5gをピリジン100mmに溶かした溶油を加
える。50〜60℃で攪拌しながら加熱した。過剰のア
セトンにこの反応後の溶液を注入し、アジドポリマー全
析出させた。
乾燥し、ポリ(メチルビニルエーテル/アジドベンジリ
デンアセトフェノンスルホン酸す]〜リウムマレイン酸
エステル)を得た。
デンアセトフェノンスルホン酸す]〜リウムマレイン酸
エステル)を得た。
実施例2
実施例1と同じ方法で、エチレン−無水マレイン酸コポ
リマーと4−ヒドロキシモノアジドベンジリデンアセト
フェノンスルホン酸ナトリウムとの縮合反応から、ポリ
(エチレン/アジドベンジリデンアセトフェノンスルホ
ン酸ナトリウムマレイン酸エステル)を得た。〔■〕 実施例3 実施例1,2で得たアジド基を有する共重合体を用い、
下記の組成の感光性組成物の溶液を調製した。これをガ
ラス板に0.5〜0.7μmのツタさに回転塗布し、乾
燥して塗膜とした。
リマーと4−ヒドロキシモノアジドベンジリデンアセト
フェノンスルホン酸ナトリウムとの縮合反応から、ポリ
(エチレン/アジドベンジリデンアセトフェノンスルホ
ン酸ナトリウムマレイン酸エステル)を得た。〔■〕 実施例3 実施例1,2で得たアジド基を有する共重合体を用い、
下記の組成の感光性組成物の溶液を調製した。これをガ
ラス板に0.5〜0.7μmのツタさに回転塗布し、乾
燥して塗膜とした。
組成ニ
アクリルアミド−ジアセトンアクリルアミド共重合体(
共重合比;アクリルアミド2ニジアセトンアクリルアミ
ド1) 2.0wt%アジドポリマー
〇、44エチレングリコール
2 シランカツプリング剤 0.002水
残余アジドポリマーを変化さ
せた場合の感度比較を第1表に示す。比較例としてアジ
ドポリマーに代えてビスアジド化合物(4,4’ −ジ
アジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸ニナトリウ
ム)を用いた例を同じ第1表に示す。感度の評価は超高
圧水銀灯から光を20秒照射し、約40℃の温水で現像
し、所定のホール径(160μm)のパターンを得るた
めにどれだけの照度(W/ITr)で足りるかによって
行った。比較例の場合1,43W/rrrの照度が必要
であるが実施例1,2のアジドポリマーを用いれば0.
95W/rrl’の照度で同じホール径のパターンが得
られる。
共重合比;アクリルアミド2ニジアセトンアクリルアミ
ド1) 2.0wt%アジドポリマー
〇、44エチレングリコール
2 シランカツプリング剤 0.002水
残余アジドポリマーを変化さ
せた場合の感度比較を第1表に示す。比較例としてアジ
ドポリマーに代えてビスアジド化合物(4,4’ −ジ
アジドスチルベン−2,2′−ジスルホン酸ニナトリウ
ム)を用いた例を同じ第1表に示す。感度の評価は超高
圧水銀灯から光を20秒照射し、約40℃の温水で現像
し、所定のホール径(160μm)のパターンを得るた
めにどれだけの照度(W/ITr)で足りるかによって
行った。比較例の場合1,43W/rrrの照度が必要
であるが実施例1,2のアジドポリマーを用いれば0.
95W/rrl’の照度で同じホール径のパターンが得
られる。
第1表
実施例4
実施例3で記載の組成液をパネルに回転塗布し、乾燥後
、シャドウマスクを装着し、超高圧水銀灯を光源とし、
回転光源露光台にて、赤、青、緑のけい光体の被着する
位置に、−気圧の空気の存在下に鞘光した。温水で2分
スプレー現像し、乾燥後、黒色カーボンを塗布し、再び
乾燥し、50℃のエツチング液に3分間浸した後、水ス
プレーによりドツト部分をその上のカーボンと共に除去
し、ブラックマトリックスを製造した。ブラックマトリ
ックスホールは露光部分より実質的に小面積であった。
、シャドウマスクを装着し、超高圧水銀灯を光源とし、
回転光源露光台にて、赤、青、緑のけい光体の被着する
位置に、−気圧の空気の存在下に鞘光した。温水で2分
スプレー現像し、乾燥後、黒色カーボンを塗布し、再び
乾燥し、50℃のエツチング液に3分間浸した後、水ス
プレーによりドツト部分をその上のカーボンと共に除去
し、ブラックマトリックスを製造した。ブラックマトリ
ックスホールは露光部分より実質的に小面積であった。
以下、従来方法と同様にしてけい光体塗布、アルミナイ
ジング、フリットベーキング、tIt子銃封着を行い、
ブラックマトリックスカラーブラウン管を得た。上記プ
ロセスにおいて露光時間は従来の組成物を用いた場合よ
り短時間であった。
ジング、フリットベーキング、tIt子銃封着を行い、
ブラックマトリックスカラーブラウン管を得た。上記プ
ロセスにおいて露光時間は従来の組成物を用いた場合よ
り短時間であった。
本発明の感光性組成物は高感度で相反則不軌特性を示す
、それ故1例えば大型のブラックマトリックスカラーブ
ラウン管の製造等に用いて、短時間での露光が可能とな
る。また高精細ブラックマトリックスカラーブラウン管
の製造に用いてもシャドウマスクのホール径が小さくな
ることによる露光面での照度低下を補うことができる効
果がある。
、それ故1例えば大型のブラックマトリックスカラーブ
ラウン管の製造等に用いて、短時間での露光が可能とな
る。また高精細ブラックマトリックスカラーブラウン管
の製造に用いてもシャドウマスクのホール径が小さくな
ることによる露光面での照度低下を補うことができる効
果がある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、水溶性感光性モノマー単位として、アジドベンジリ
デンアセトフェノンスルホン酸またはアジドベンジリデ
ンアセトフェノンカルボン酸またはそれらの塩をエステ
ル基として用いたマレイン酸エステルを含む共重合体と
、水溶性高分子よりなることを特徴とする感光性組成物
。 2、上記水溶性高分子が、特許請求の範囲第1項記載の
感光性化合物と共に用いた時に相反則不軌特性を示すこ
とを特徴とする感光性組成物。 3、所望のパターンを形成しようとする面上に、特許請
求の範囲第1項記載の感光性組成物の塗膜を形成する工
程、その塗膜に酸素の存在する条件において所望のパタ
ーン露光を行なう工程、上記塗膜を現像して光照射区域
より実質的に小さい面積のパターンを形成する工程から
なることを特徴とするパターン形成方法。 4、上記パターンを形成する面がカラーブラウン管フェ
ースプレートの内面であることを特徴とするパターン形
成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2383289A JPH02204750A (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2383289A JPH02204750A (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02204750A true JPH02204750A (ja) | 1990-08-14 |
Family
ID=12121362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2383289A Pending JPH02204750A (ja) | 1989-02-03 | 1989-02-03 | 感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02204750A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5725978A (en) * | 1995-01-31 | 1998-03-10 | Basf Aktiengesellschaft | Water-soluble photosensitive resin composition and a method of forming black matrix patterns using the same |
| EP0878739A1 (en) * | 1997-05-13 | 1998-11-18 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive compounds, photosensitive resin compositions, and pattern formation method making use of the compounds or compositions |
| US5866296A (en) * | 1996-01-25 | 1999-02-02 | Toyo Gosei Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
| US6020093A (en) * | 1998-05-13 | 2000-02-01 | Toyo Gosei Kogyo, Ltd. | Photosensitive compounds, photosensitive resin compositions, and pattern formation method making use of the compounds or compositions |
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| US6610791B2 (en) | 2000-02-14 | 2003-08-26 | Toyo Gosai Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive compound and photosensitive resin |
| US6861456B2 (en) | 2002-03-29 | 2005-03-01 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive compound, photosensitive resin, and photosensitive composition |
| KR100869783B1 (ko) * | 2001-10-29 | 2008-11-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 네가티브 포토레지스트 제조용 아지드기를 갖는 아크릴계단량체 및 중합체 |
| WO2020255529A1 (ja) | 2019-06-17 | 2020-12-24 | 東洋合成工業株式会社 | 細胞培養基板、該細胞培養基板の製造方法及び該細胞培養基板を用いたスクリーニング方法 |
-
1989
- 1989-02-03 JP JP2383289A patent/JPH02204750A/ja active Pending
Cited By (11)
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