JPH02210311A - 光ファイバ接続部の被膜被覆方法及びその被膜被覆装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は二本の先ファイバの端面同士を突き合わせて接
続した接続部に被膜を施し、川にその外周に被覆を施し
てなる被膜被で方法とその被膜装置に関するものである
。

（従来の技術） 二本の光ファイバの端面同士を突き合わせて接続する接
続方法には、従来、融着接続、スリーブ接続等の方法が
ある。このうちスリーブ接続は同心接続が難しいため現
在は融着接続が主に行なわれている。

融着接続は光ファイバの接続部のプラスチック被覆層を
除去した後、同接続部の光ファイバをアーク放電により
溶融して接続する方法である。この場合プラスチック被
覆層を除去する間或は光ファイバを接続機器に装着する
間に光ファイバの表面にマイクロクラックが発生し、同
マイクロクラックにより接続部の強度が著しく低下する
。

この問題を解決するため従来は、融着接続した接続部の
外周をプラスチックによりモールドして他の部分より太
くしている。しかし光ファイバの強度は接続した光ファ
イバ自体の強度により支配され、プラスチックで太（被
覆しても光ファイバ自体の強度が格別向上するわけでは
ない。

そこで最近は光ファイバの端面同士を突き合わせて接続
してから、その接続部をフッ酸に浸漬させて光ファイバ
の表面を溶かすことにより、光ファイバの表面のマイク
ロクラックを除去している。

（発明が解決しようとする課題） マイクロクラックを除去する前記方法では次のような問
題があった。

■、光ファイバ自体の強度が、従来の接続法により接続
する場合より多少強くなるが、光ファイバ自体の本来の
強度と比較するとかなり劣る。

■、光ファイバの表面をミクロン単位の薄さで溶かすこ
とは技術的にかなり面倒であるため、マイクロクラック
だけを除去するのは難しく、どうしても厚めに溶けてし
まい、これによっても強度が劣化する。

（発明の目的） 本発明の目的は従来法により得られる接続部の前記欠点
を解消するため１強度に優れた光ファイバ接続部が得ら
れるようにした被膜被覆方法とその被膜装置を提供する
ことにある。

（問題点を解決するための手段） 本発明のうち請求項第１の光ファイバ接続部の被膜被覆
方法は、第２図のようにプラスチック被覆層ｌを除去し
た光ファイバ２の接続端面３同士を突き合わせて接続し
、この接続部４の外周に真空メッキ１７内において真空
メツ￥法により金属被ｌＩ５を形成し、その後向光ファ
イバ２を真空メッキ槽７から取り出して前記接続部４の
外周を合成ｔ８Ｉ脂６でｍｍするようにしたものである
。

本発明の請求項第２の先ファイバ接続部の被膜装置は、
第１図のように真空メッキ［７の両側に、プラスチック
皮膜層ｌが除去され且つ接続端面３同士が接続された光
ファイバ２を挟持する押え具８が対向するよう形成され
、同押え具８は二つ割に分解可能に形成され、同押え具
８内にその二つ割方向と直交方向に二つ割にされた弾力
性のあるシール材９が配置されてなるものである。

（作用） 請求項第１の発明では接続部４に真空メッキ槽７内で真
空メッキにより金属被膜５を施してからその外周に合成
樹脂６を被覆するので、金属被膜５されることにより同
接続部４の接続が安定し、合成樹脂６が被覆し易＜、シ
かも接続部４が二重波ｌ！溝構造なるので機械的強度が
向上する。

請求項第２の発明では真空メッキ槽７に対向するよう取
り付けられている押え具８と、その内側のシール材９と
が二つ割り出来るので、押え具８に光ファイバ２を挟着
する時にそれらを二つ割りにすればよく、光ファイバ２
を真空メッキ槽７へ容易にセットすることができる。

（実施例） 本発明に右いて、光ファイバ２の突き合わせた接続端面
３同士を接続するには、例えば従来からの放電アークに
よる融着接続方法により行なう。

本発明ではこの融着された接続部４の外周に金属被膜５
を形成する。その形成方法はスパッタリング法、イオン
ブレーティング法、真空蒸着法等々の８種真空メッキ法
により行なう。

−例としてスパッタリング法を採用する場合は次のよう
にする。第２図に示す真空メッキ槽（ペルジャー）７の
両側に、筒体を二つ割りにした押え１８を設け、この押
え貝８内にプラスチック被覆層！を除去して接続端面３
同士を融着接続した光ファイバ２を挿入する。この場合
、光ファイバ２と押え具８との間に弾力性のあるシール
材９が介在されているので、尤ファイバ２と押え１８間
が密封される。

真空メッキＩＩＩ？、シール材９としては二つ割りのも
のを使用し、しかもシール材９と押＾具８の二つ割り方
向を相互に９０“ずらして互いに直交状になるように配
置する。

次に第４図のように真空メッキ槽７内に配置されたター
ゲットｌＯとアノード１１との間でグロ−放電させ、タ
ーゲットｌＯから飛出す金属原子を光ファイバ２の接続
部４に付着させて同接続部４の外周に金属被Ｎ！１５を
形成する。

スパックリング法による場合の真空引き時間、スパッタ
リング時間、イオンブレーティング法による場合のイオ
ンブレーティング時間等は適宜選定すればよい。

イオンブレーティング法により接続部４の外周にアルミ
（Ａε）をイオンブレーティングする場合、ＡＩ２の溶
解は抵抗加熱等により行なう、この場合、ＡＩ２と光フ
ァイバ２との距離は２０〜３０ｃｍとして光ファイバ２
が軸射熱の影響を受けないようにするのがよい。

金属を蒸発させて金属被膜５を形成する貴重蒸着法では
光ファイバ２を回転させて、同被膜５が光ファイバ２の
接続部４の外周全体に均一に′ｒｉｒｉｎされるように
するのが望ましい、光ファイバ２の回転は１図示しない
既知の回転機構により押え具８を回転させて行なう、こ
の場合の回転速度はイオンブレーティング時間等との関
係から選定する。−例として１〜２分の間に５〜６回程
度が考えられる。

なお第２図中、１２は真空引用管である。

（発明の効果） Ａ１本発明のうち請求項第１の発明は光ファイバ２の接
続部４に金属被膜５を設けるものであるため、光ファイ
バ２そのもの１強度が補強され、同接続部４の外周を直
接合成樹脂で被覆する従来の接続部に比して強度が著し
く向丘する。

Ｂ１本発明のうち請求項第２の発明は次のような効果が
ある。

■、真空メッキ哨７の外側１こ押え具８があるので５突
き合わされて接続された尤ファイバを一直線に挟着し易
い。

■、押＾具８が二つ割りであるので、光ファイバ２を長
手方向一端から挿入するものより挟着が容易である。

■　押え具８の内部に弾性のあるシール材９が配置され
ているので、光ファイバ２の挟着が確実になり、しかも
光ファイバ２が損傷せず、その１光ファイバ２と押え具
８との間が密封されて隙間ができないので、両と間から
メッキ扮が漏れ出すこともない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の被膜被覆方法により得られる光ファイ
バの接続部の一例を示す縦断面図、第２図は本発明の光
ファイバ被膜装置の一例を示す説明図、第３図は第２図
のｘ−Ｘ線断面図、第４図は真空メッキ槽内のアノード
とターゲットとの配置説明図である。 ｌはプラスチック被覆層 ２は光ファイバ ３は接続端面 ４は接続部 ５は金属被膜 ６は合成樹脂 ７は真空メッキ哨

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）プラスチック被覆層１を除去した光ファイバ２の
   接続端面３同士を突合わせて接続し、この接続部４の外
   周に真空メッキ槽７内において真空メッキ法により金属
   被膜５を形成し、その後同光ファイバ２を真空メッキ槽
   ７から取り出して前記接続部４の外周を合成樹脂６で被
   覆するようにしたことを特徴とする光ファイバ接続部の
   被膜被覆方法。
2. （２）真空メッキ槽７の両側に、プラスチック皮膜層１
   が除去され且つ接続端面３同士が接続された光ファイバ
   ２を挟持する押え具８が対向するよう形成され、同押え
   具８は二つ割に分解可能に形成され、同押え具８内にそ
   の二つ割方向と直交方向に二つ割にされた弾力性のある
   シール材９が配置されてなることを特徴とする光ファイ
   バ接続部の皮膜装置。