JPH0449923B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は二本の光フアイバの端面同士を突き合
わせて融着接続した接続部に被膜を施し、更にそ
の外周に被覆を施す光フアイバ接続部の被膜被覆
方法とその被膜被覆装置に関するものである。

（従来の技術） 二本の光フアイバの端面同士を突き合わせて接
続する方法には、従来、融着接続、スリーブ接続
等の方法がある。このうちスリーブ接続は同心接
続が難しいため現在は融着接続が主に行なわれて
いる。

融着接続は光フアイバの接続部のプラスチツク
被覆層を除去した後、同接続部の光フアイバをア
ーク放電により溶融して接続する方法である。こ
の場合、プラスチツク被覆層を除去する間或は光
フアイバを接続機器に装着する間に光フアイバの
表面にマイクロクラツクが発生し、同マイクロク
ラツクにより接続部の強度が著しく低下する。

この問題を解決するため従来は、融着接続した
接続部の外周をプラスチツクによりモールドして
他の部分より太くしている。しかし光フアイバの
強度は接続した光フアイバ自体の強度により支配
され、プラスチツクで太く被覆しても光フアイバ
自体の強度が格別向上するわけではない。

そこで最近は光フアイバの端面同士を突き合わ
せて融着接続してから、この接続部をフツ酸に浸
漬させて光フアイバの表面を溶かすことにより、
光フアイバの表面のマイクロクラツクを除去して
いる。

（発明が解決しようとする課題） マイクロクラツクを除去する前記方法では次の
ような問題があつた。

光フアイバ自体の強度が、従来の接続法によ
り接続する場合より多少強くなるが、光フアイ
バ自体の本来の強度と比較するとかなり劣る。

光フアイバの表面をミクロン単位の薄さで溶
かすことは技術的にかなり面倒であるため、マ
イクロクラツクだけを除去するのは難しく、ど
うしても厚めに溶けてしまい、これによつても
強度が劣化する。

（発明の目的） 本発明の目的は従来法により得られる融着接続
部の前記欠点を解消するため、強度に優れた光フ
アイバ接続部が得られるようにした被膜被覆方法
とその被膜被覆装置を提供することにある。

（問題点を解決するための手段） 本発明のうち請求項第１の光フアイバ接続部の
被膜被覆方法は、第２図のようにプラスチツク被
覆層１を除去した光フアイバ２の接続端面３同士
を突合わせて融着接続し、この接続部４を真空メ
ツキ槽７内に収容すると共に前記光フアイバを真
空メツキ槽７の外側で保持して、同真空メツキ槽
７内において接続部４の外側に真空メツキ法によ
り金属被膜５を形成し、その後同光フアイバ２を
真空メツキ槽７から取り出して前記接続部４の外
周を合成樹脂６で被覆するようにしたものであ
る。

本発明のうち請求項第２の光フアイバ接続部の
被膜被覆装置は、第２図のように真空メツキ槽７
の両外側に、プラスチツク被膜層１が除去され且
つ接続端面３同士が融着接続された光フアイバ２
を挟持する押え具８が対向するよう形成され、同
押え具８は二つ割に分解可能に形成され、同押え
具８内にその二つ割方向と直交方向に二つ割にさ
れた弾力性のあるシール材９が配置されてなるも
のである。

（作用） 請求項第１の発明では融着接続された接続部４
の外周に、真空メツキ槽７内で真空メツキにより
金属被膜５を施してから、その外周に合成樹脂６
を被覆するので、金属被膜されることにより同接
続部４の接続が安定し、合成樹脂６を被覆し易く
なり、しかも接続部４が二重被覆構造になるので
機械的強度が向上する。

請求項第２の発明では真空メツキ槽７に対向す
るよう取り付けられている押え具８と、その内側
のシール材９とが二つ割り出来るので、接続端面
３同士が融着接続された光フアイバ２を押え具８
により挟着する時に、押え具８とシール材９とを
二つ割りにして容易に挟着でき、光フアイバ２の
接続部４を真空メツキ槽７内へ容易にセツトする
ことができる。

（実施例） 本発明において、光フアイバ２の突き合わせた
接続端面３同士を融着接続するには、例えば従来
からの放電アークによる融着接続方法により行な
う。

本発明ではこの融着接続された接続部４の外周
に金属被膜５を形成する。その形成方法はスパツ
タリング法、イオンプレーテイング法、真空蒸着
法等々の各種真空メツキ法により行なう。

一例としてスパツタリング法を採用する場合は
次のようにする。第２図に示す真空メツキ槽（ベ
ルジヤー）７の両外側に、筒体を二つ割りにした
押え具８を設け、この押え具８内にプラスチツク
被覆層１を除去して接続端面３同士を融着接続し
た光フアイバ２を挿入する。この場合、光フアイ
バ２と押え具８との間に弾力性のあるシール材９
が介在されているので、光フアイバ２と押え具８
間が密封される。

押え具８、シール材９としては二つ割りのもの
を使用し、しかもシール材９と押え具８の二つ割
り方向を相互に90°ずらして互いに直交状になる
ように配置する。

次に真空メツキ槽７内に第４図のように配置さ
れたターゲツト１０とアノード１１との間でグロ
ー放電させ、ターゲツト１０から飛出す金属原子
を真空メツキ槽７内の光フアイバ２の接続部４に
付着させて同接続部４の外周に金属被膜５を形成
する。

スパツタリング法による場合の真空引き時間、
スパツタリング時間、イオンプレーテイング法に
よる場合のイオンプレーテイング時間等は適宜選
定すればよい。

イオンプレーテイング法により接続部４の外周
にアルミ（Ａ）をイオンプレーテイングする場
合、Ａの溶解は抵抗加熱等により行なう。この
場合、Ａと光フアイバ２との距離は20〜30cmと
して光フアイバ２が軸射熱の影響を受けないよう
にするのがよい。

金属を蒸発させて金属被膜５を形成する真空蒸
着法では光フアイバ２を回転させて、同被膜５が
光フアイバ２の接続部４の外周全体に均一に被覆
されるようにするのが望ましい。光フアイバ２の
回転は図示しない既知の回転機構により押え具８
を回転させて行なう。この場合の回転速度はイオ
ンプレーテイング時間等との関係から選定する。
一例として１〜２分の間に５〜６回程度が考えら
れる。なお第２図の１２は真空引用管である。

（発明の効果） Ａ 本発明のうち請求項第１の発明は光フアイバ
２の融着接続された接続部４の外周に金属被膜
５を施すものであるため、光フアイバ２そのも
のゝ強度が補強され、同接続部４の外周を直接
合成樹脂で被覆する従来の接続部に比して強度
が著しく向上する。

また、前記光フアイバ２を真空メツキ槽７の
外側で保持しながら接続部４の外周に金属被膜
５を施すので、金属被膜５の形成時に接続部４
が安定する。

Ｂ 本発明のうち請求項第２の発明は次のような
効果がある。

押え具８が真空メツキ槽７の外側に形成さ
れているので、端面３同士が突き合わされて
融着接続されている光フアイバを一直線に挟
着し易い。

押え具８を二つ割りにしてあるので、押え
具８を開いて光フアイバ２を手軽に挟着でき
る。

押え具８の内部に弾性のあるシール材９が
配置されているので、光フアイバ２の挟着が
確実になり、しかも光フアイバ２が損傷しな
い。

押え具８とシール材９の割り方向が直交状
となつているため、それらが２つ割になつて
いても光フアイバ２と押え具８との間が密封
されて隙間ができず、押え具８の外側にメツ
キ粉が漏れ出すこともない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の被膜被覆方法により得られる
光フアイバの接続部の一例を示す縦断面図、第２
図は本発明の光フアイバ被膜装置の一例を示す説
明図、第３図は第２図のＸ−Ｘ線断面図、第４図
は真空メツキ槽内のアノードとターゲツトとの配
置説明図である。 １はプラスチツク被覆層、２は光フアイバ、３
は接続端面、４は接続部、５は金属被膜、６は合
成樹脂、７は真空メツキ槽。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ プラスチツク被覆層１を除去した光フアイバ
   ２の接続端面３同士を突合わせて融着接続し、こ
   の接続部４を真空メツキ槽７内に収容すると共に
   前記光フアイバを真空メツキ槽７の外側で保持し
   て、同真空メツキ槽７内において接続部４の外側
   に真空メツキ法により金属被膜５を形成し、その
   後同光フアイバ２を真空メツキ槽７から取り出し
   て、前記接続部４の外周を合成樹脂６で被覆する
   ようにしたことを特徴とする光フアイバ接続部の
   被膜被覆方法。 ２ 真空メツキ槽７の両外側に、プラスチツク被
   膜層１が除去され且つ接続端面３同士が突合わさ
   れて融着接続された光フアイバ２を挟持する押え
   具８が対向するように形成され、同押え具８は二
   つ割に分解可能に形成され、同押え具８内にその
   二つ割方向と直交方向に二つ割にされた弾力性の
   あるシール材９が配置されてなることを特徴とす
   る光フアイバ接続部の被膜被覆装置。