JPH0221156B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0221156B2
JPH0221156B2 JP17178381A JP17178381A JPH0221156B2 JP H0221156 B2 JPH0221156 B2 JP H0221156B2 JP 17178381 A JP17178381 A JP 17178381A JP 17178381 A JP17178381 A JP 17178381A JP H0221156 B2 JPH0221156 B2 JP H0221156B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor pattern
multilayer wiring
type
layer
insulating layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP17178381A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5873196A (ja
Inventor
Yoshitaka Fukuoka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP17178381A priority Critical patent/JPS5873196A/ja
Publication of JPS5873196A publication Critical patent/JPS5873196A/ja
Publication of JPH0221156B2 publication Critical patent/JPH0221156B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (1) 発明の技術分野 本発明は導体パターン層と絶縁体層とを交互に
積層することによつて電気的配線を行ない特定の
回路機能を達成する多層配線基板に関する。
(2) 従来技術 近年、各種電子機器の小型・軽量化、高速化、
高信頼性化の要求が著しく高まつて来ている。こ
れらの要求を満足する一つの手法として、マルチ
チツプパツケージング技術が開発されている。こ
れは例えばアルミナセラミツク基板上に導体ペー
ストを印刷し、乾燥、焼成して、その上に絶縁体
ペーストを印刷し、乾燥、焼成するという工程を
繰り返して導体パターン層と絶縁体層とを交互に
積層する、いわゆる厚膜印刷法、あるいは、グリ
ーンシート上に導体ペーストと絶縁体ペーストを
乾燥状態で繰り返し積層した後還元雰囲気炉で同
時焼成する印刷積層メタライズセラミツク基板法
等の技術による高密度多層配線基板上に、ICチ
ツプ等のチツプ部品を複数個実装し全体を気密封
止する技術である。
この様なマルチチツプパツケージ用の高密度多
層配線基板は、最上層の導体パターン層が、第1
図aに示す如く、ICチツプあるいはコンデンサ
ーチツプ等のチツプ部品搭載用のダイボンデイン
グパツド12,13および全体を気密封止するた
めのキヤツプ等を搭載するハーメテイツクシール
用パターン14等の様に下層の導体パターン16
の線幅に比べ比較的大きな面積を有する導体パタ
ーンと、ICチツプのインナーリードボンデイン
グパツドと電気的に接続されるべきアウターリー
ドボンデイングパツド15等の様に下層の導体パ
ターン16の線幅とほぼ同程度あるいはそれより
多少大きめの比較的小さな面積を有する導体パタ
ーンとが混在して形成されている。一方、これら
の表面導体パターン12〜15と電気的に接続さ
れるべき下層の導体パターン16は、第1図bに
示す如く通孔18を有する絶縁体層17を介して
形成される。ここで、絶縁体層17は、通常、導
体パターン12〜15と下層の導体パターン16
との絶縁耐圧の確保および絶縁体層17のピンホ
ールによる層間シヨート事故を防止すべく、2回
印刷による2層分の厚みを有する絶縁体層17あ
るいは3回印刷による3層分の厚みを有する絶縁
体層を形成していた。
(3) 従来技術の問題点 第1図の構造では、比較的小さい面積を有する
導体パターン15の場合はさほど問題はないが、
比較的大きい面積を有する表面導体パターン1
2,13,14においては、下層の導体パターン
16との層間シヨート事故を発生する確率が非常
に高く、この様な多層配線基板の歩留りを著しく
低下させる要因となつている。また多層配線基板
製造時には、層間シヨートにまでは至らなくと
も、絶縁体層17にピンホールが存在しており、
チツプ部品アセンブリ工程での熱ストレスのた
め、あるいはシステムに組み込んだ後の経時変化
により、そのピンホール部分で層間シヨート事故
が発生する等、信頼性の面でも問題がある。
この様な層間シヨート事故を防ぐには、表面導
体パターン12〜15の層と下層の導体パターン
16の層との間に存在する絶縁体層17の厚みを
さらに増すべく、従来の2回あるいは3回印刷に
より形成されるものを3回あるいは4回印刷に変
更することが考えられる。しかし、その場合には
印刷時の位置ずれあるいは、絶縁体ペーストのダ
レ込みにより、通孔18がつぶれてしまい、導体
パターン12〜15と下層の導体パターン16と
の電気的接続がなされなくなり、別の面で多層配
線基板の歩留りを低下させる結果となる。
(4) 発明の目的 本発明の目的は、面積の種々異なる最上層の導
体パターンと下層の導体パターンとの層間シヨー
ト事故や電気的接続不良事故が少なく、歩留りの
向上と高信頼性を得ることができる多層配線基板
を提供することである。
(5) 発明の要約 本発明は、導体パターン層と絶縁体層とが交互
に積層され、かつ最上層の導体パターン層が比較
的大きな面積を有する第1種の導体パターンと、
比較的小さな第2種の導体パターンとを含んで構
成される多層配線基板において、前記最上層の導
体パターン層と下層の導体パターン層との間の絶
縁体層のうち、前記第1種の導体パターン直下の
部分に、少なくとも一層の付加絶縁体層を設けた
ことを特徴としている。
(6) 発明の効果 本発明によれば、最上層の導体パターン層を構
成する第1種、第2種の導体パターンのうち、下
層の導体パターン層との層間シヨートが確率的に
より発生し易い第1種の導体パターンの直下にの
み付加絶縁体層を設けたことにより、多層配線基
板全体としての層間シヨート事故を減少させると
同時に、必要な部分での導体パターン間の電気的
接続の不良事故も極力減らすことができるという
相反する要求を満たすことが可能となる。
(7) 発明の実施例 第2図は本発明の一実施例を示すものであり、
21はアルミナセラミツク基板、26は下層の導
体パターン、27は最上層の絶縁体層をそれぞれ
示している。最上層の導体パターン層を構成する
導体パターン22〜25のうち、22はICチツ
プ搭載用のダイボンデイングパツド、23はコン
デンサー等のチツプ部品搭載用のダイボンデイン
グパツド、24は全体を気密封止するためのキヤ
ツプを搭載するハーメテイツクシール用パター
ン、25はICチツプのインナーリードボンデイ
ングパツドと電気的に接続されるべきアウターリ
ードボンデイングパツドを示している。ここで、
導体パターン22〜24は下層の導体パターン2
6に比べ比較的大きな面積を有する第1種の導体
パターン、25はこれに比べ比較的小さな面積を
有する第2種の導体パターンである。
そして、絶縁体層27の第1種の導体パターン
22〜24の直下の部分上に位置して、付加絶縁
体層29が設けられている。すなわちこの絶縁体
層29は、第2種の導体パターン25の存在する
部分を除いた、つまり第1種の導体パターン22
〜24の下部にのみ選択的に絶縁体ペーストを1
回あるいはそれ以上印刷することにより形成され
るものである。
なお、この付加絶縁体層29は、第1種の導体
パターン22〜24よりもひとまわり大きく形成
され、印刷時の位置ずれによつて、第1種の導体
パターン22〜24が付加絶縁体層29からはみ
出さないようにすることが望ましい。
また、第1種の導体パターン22〜24と下層
の導体パターン26とが下層の絶縁体層27に形
成された通孔28を通して電気的に接続される場
合は、付加絶縁体層29に形成すべき通孔30の
径は、下層の絶縁体層27の通孔28の径よりも
大きくして、絶縁体層29を付加したことによる
印刷時の絶縁体ペーストのダレ込みおよび印刷位
置ずれによる電気的接続不良事故を発生しないよ
うに形成することが望ましい。
このように、本発明によれば層間シヨート事故
や層間の電気的接続不良事故を減少させることが
可能となり、多層配線基板の製造歩留り向上と、
これを用いたマルチチツプパツケージの信頼性向
上に貢献することができる。
なお、実施例では第2種の導体パターンの例と
して、アウターリードボンデイングパツドを例示
したが、これに限らず単なる配線用導体でもよ
い。
【図面の簡単な説明】
第1図a,bは従来の多層配線基板の平面図お
よびA−A′断面図、第2図a,bは本発明の一
実施例に係る多層配線基板の平面図およびA−
A′断面図である。 11,21……アルミナセラミツク等の絶縁性
基板、16,26……下層の導体パターン、1
7,27……下層の絶縁体層、18,28……下
層の絶縁体層の通孔、12〜14,22〜24…
…比較的大きな面積を有する第1種の導体パター
ン、15,25……比較的小さな面積を有する第
2種の導体パターン、29……付加絶縁体層、3
0……付加絶縁体層の通孔。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 導体パターン層と絶縁体層とが交互に積層さ
    れ、かつ最上層の導体パターン層が比較的大きな
    面積を有する第1種の導体パターンと、比較的小
    さな面積を有する第2種の導体パターンとを含ん
    で構成される多層配線基板において、前記最上層
    の導体パターン層と下層の導体パターン層との間
    の絶縁体層のうち、前記第1種の導体パターン直
    下の部分に、少なくとも一層の付加絶縁体層を設
    けたことを特徴とする多層配線基板。 2 第1種の導体パターンがチツプ部品搭載用の
    ダイボンデイングパツドであることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の多層配線基板。 3 第1種の導体パターンがハーメテイツクシー
    ル用のパターンであることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の多層配線基板。 4 付加絶縁体層の大きさを第1種の導体パター
    ンの大きさよりも大きくしたことを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の多層配線基板。 5 付加絶縁体層は下層の絶縁体層に形成された
    通孔よりも大きな径の通孔を有するものであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の多層
    配線基板。
JP17178381A 1981-10-27 1981-10-27 多層配線基板 Granted JPS5873196A (ja)

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JP17178381A JPS5873196A (ja) 1981-10-27 1981-10-27 多層配線基板

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JPS5873196A JPS5873196A (ja) 1983-05-02
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JPS59215796A (ja) * 1983-05-24 1984-12-05 日本電気株式会社 厚膜多層配線基板
JP3087899B2 (ja) * 1989-06-16 2000-09-11 株式会社日立製作所 厚膜薄膜混成多層配線基板の製造方法

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