JPH02215760A - 新規ナフタレンジカルボニトリル化合物 - Google Patents
新規ナフタレンジカルボニトリル化合物Info
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- JPH02215760A JPH02215760A JP1033625A JP3362589A JPH02215760A JP H02215760 A JPH02215760 A JP H02215760A JP 1033625 A JP1033625 A JP 1033625A JP 3362589 A JP3362589 A JP 3362589A JP H02215760 A JPH02215760 A JP H02215760A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- dimethylhexyl
- trimethylhexyl
- tetramethylpentyl
- branched
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は染料、顔料、ポリマー等の原料として有用な新
規ナフタレンジカルボニトリル化合物に関する。
規ナフタレンジカルボニトリル化合物に関する。
従来、種々のナフタレンジカルボニトリル化合物が知ら
れており、染顔料、液晶もしくはポリマー等の原料とし
て利用されている。なかでも、これらナフタレンジカル
ボニトリル化合物から誘導されるナフタレン骨格を有す
る、いわゆる、ナフタロシアニン系染顔料は、近年、光
デイスク記録膜用色素としての利用が試みられている。
れており、染顔料、液晶もしくはポリマー等の原料とし
て利用されている。なかでも、これらナフタレンジカル
ボニトリル化合物から誘導されるナフタレン骨格を有す
る、いわゆる、ナフタロシアニン系染顔料は、近年、光
デイスク記録膜用色素としての利用が試みられている。
〔発明が解決しようとする課題]
しかしながら、メチル基やエチル基等の炭素数の少ない
アルキル基が置換した、ナフタレンジカルボニトリル化
合物から誘導される1、2−ナフタロシアニン系色素を
光デイスク用記録膜として利用しようとすると、該色素
の溶媒に対する溶解度が低いために、溶液にしてディス
ク基板に塗布する場合の塗布条件に著しく制限を受け、
また得られた光ディスクは必要な高い反射率を示さなか
った0本発明は、溶解度が高く、かつ高反射率を示すナ
フタロシアニン化合物の原料として有用な新規なナフタ
レンジカルボニトリル化合物を提供することを目的とす
るものである。
アルキル基が置換した、ナフタレンジカルボニトリル化
合物から誘導される1、2−ナフタロシアニン系色素を
光デイスク用記録膜として利用しようとすると、該色素
の溶媒に対する溶解度が低いために、溶液にしてディス
ク基板に塗布する場合の塗布条件に著しく制限を受け、
また得られた光ディスクは必要な高い反射率を示さなか
った0本発明は、溶解度が高く、かつ高反射率を示すナ
フタロシアニン化合物の原料として有用な新規なナフタ
レンジカルボニトリル化合物を提供することを目的とす
るものである。
[課題を解決するための手段〕
本発明者らは上記の課題を解決するべく鋭意検討を重ね
た結果、溶解度が高く、高反射率を示す1.2−ナフタ
ロシアニン化合物の原料となり得る一連の新規なナフタ
レンジカルボニトリル化合物を見出した。
た結果、溶解度が高く、高反射率を示す1.2−ナフタ
ロシアニン化合物の原料となり得る一連の新規なナフタ
レンジカルボニトリル化合物を見出した。
即ち本発明は、一般式(I)
[式(I)中、Rは炭素数4〜18の直鎖または分岐し
たアルキル基であり、y l 、 Y 2、Y3、Y4
およびY8はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10
の直鎖または分岐したアルキル基、ハロゲン原子、もし
くは炭素数1〜10のアルコキシ基を示す]で表される
ことを特徴とする新規ナフタレンジカルボニトリル化合
物である。
たアルキル基であり、y l 、 Y 2、Y3、Y4
およびY8はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜10
の直鎖または分岐したアルキル基、ハロゲン原子、もし
くは炭素数1〜10のアルコキシ基を示す]で表される
ことを特徴とする新規ナフタレンジカルボニトリル化合
物である。
一般式(I)の化合物において、式中Rで表される炭素
数4〜18の直鎖または分岐したアルキル基としては、
直鎖または分岐のブチル、直鎖または分岐のペンチル、
直鎖または分岐のヘキシル、直鎖または分岐のへブチル
、直鎖または分岐のオクチル、直鎖または分岐のノニル
、直鎖または分岐のデシル、直鎖または分岐のウンデシ
ル、直鎖または分岐のドデシル、直鎖または分岐のトリ
デシル、直鎖または分岐のテトラデシル、直鎖または分
岐のペンタデシル、直鎖または分岐のヘキサデシル、直
鎖または分岐のヘプタデシルおよび直鎖または分岐のオ
クタデシルが挙げられる。
数4〜18の直鎖または分岐したアルキル基としては、
直鎖または分岐のブチル、直鎖または分岐のペンチル、
直鎖または分岐のヘキシル、直鎖または分岐のへブチル
、直鎖または分岐のオクチル、直鎖または分岐のノニル
、直鎖または分岐のデシル、直鎖または分岐のウンデシ
ル、直鎖または分岐のドデシル、直鎖または分岐のトリ
デシル、直鎖または分岐のテトラデシル、直鎖または分
岐のペンタデシル、直鎖または分岐のヘキサデシル、直
鎖または分岐のヘプタデシルおよび直鎖または分岐のオ
クタデシルが挙げられる。
具体的には、n−ブチル、5ec−ブチル、tert−
ブチル、n−ペンチル、■−メチルブヂル、2−メチル
ブチル、3−メチルブチル、n−ヘキシル、I−エチル
ブチル、2−エチルブチル、3−エチルブチル、1.1
−ジメチルブチル、1.2−ジメチルブチル、1.3−
ジメチルブチル、2.2−ジメチルブチル、2,3−ジ
メチルブチル、33−ジメチルブチル、1−メチルペン
チル、2−メチルベンチル、3−メチルペンチル、4−
メチルペンチル、n−へブチル、1−エチルペンチル、
2−エチルペンチル、3−エチルペンチル、4−エチル
ペンチル、1.1−ジメチルペンチル、1.2−ジメチ
ルペンチル、1.3−ジメチルペンチル、1,4−ジメ
チルペンチル、2,2−ジメチルペンチル、2.3−ジ
メチルペンチル、24−ジメチルペンチル、3.3−ジ
メチルペンチル、3.4−ジメチルペンチル、4.4−
ジメチルペンチル、1−メチルヘキシル、2−メチルヘ
キシル、3−メチルヘキシル、4−メチルヘキシル、5
−メチルヘキシル、n−オクチル、l−エチルヘキシル
、2−エチルヘキシル、3−エチルヘキシル、4−エチ
ルヘキシル、5−エチルヘキシル、1.1−ジメチルヘ
キシル、1.2−ジメチルヘキシル、1.3−ジメチル
ヘキシル、1.4−ジメチルヘキシル、1.5−ジメチ
ルヘキシル、2.2−ジメチルヘキシル、2.3−ジメ
チルヘキシル、2.4−ジメチルヘキシル、2.5−ジ
メチルヘキシル、3.3−ジメチルヘキシル、3.4−
ジメチルヘキシル、3.5−ジメチルヘキシル、4,4
−ジメチルヘキシル、4.5−ジメチルへキシル、5.
5−ジメチルヘキシル、1、.1.2−トリメチルペン
チル、1,1.3−1−ジメチルペンチル、]、]1.
4−トリメチルペンチル1,2.2−1−ジメチルペン
チル、1.2.3−トリメチルペンチル、1゜2、4−
トリメチルペンチル、1.3.3−トリメチルペンチ
ル、l、 3.4− トリメチルペンチル、1.4.4
−1−ジメチルペンチル、2.2.3− トリメチルペ
ンチル、2.2゜4−トリメチルペンチル、2.3.3
− トリメチルペンチル、2.3.4− トリメチルペ
ンチル、2.4.4−トリメチルペンチル、3.3.4
−トリメチルペンチル、3.4.4−トリメチルペンチ
ル、1−エチルヘキシル、2−エチルヘキシル、3−エ
チルヘキシル、4−エチルヘキシル、5−エチルヘキシ
ル、1.1−ジメチルヘキシル、1.2−ジメチルヘキ
シル、1.3−ジメチルヘキシル、1.4−ジメチルヘ
キシル、1.5−ジメチルヘキシル、22−ジメチルヘ
キシル、2.3−ジメチルヘキシル、2.4−ジメチル
ヘキシル、2.5−ジメチルヘキシル、3.3−ジメチ
ルヘキシル、3.4−ジメチルヘキシル、3.5−ジメ
チルヘキシル、4,4−ジメチルヘキシル、4.5−ジ
メチルヘキシル、5゜5−ジメチルヘキシル、1−メチ
ルへブチル、2−メチルへブチル、3−メチルへブチル
、4−メチルへブチル、5−メチルへブチル、6−メチ
ルへブチル、n−ノニル、l−エチルへブチル、2−エ
チルへブチル、3−エチルへブチル、4−エチルへブチ
ル、5−エチルへブチル、6−エチルヘプチル、1.1
−ジメチルへブチル、1.2−ジメチルへブチル、1.
3−ジメチルへブチル、1.4−ジメチルへブチル、1
.5−ジメチルへブチル、1,6−ジメチルへブチル、
2.2−ジメチルへブチル、2.3−ジメチルへブチル
、2.4−ジメチルへブチル、2.5−ジメチルヘプチ
ル、2.6−ジメチルへブチル、3.3−ジメチルへブ
チル、3.4−ジメチルへブチル、3,5−ジメチルヘ
プチル、3.6−ジメチルへブチル、4.4−ジメチル
へブチル、4.5−ジメチルへブチル、4.6−ジメチ
ルへブチル、5.5−ジメチルヘプチル、5.6−ジメ
チルへブチル、6.6−ジメチルへブチル、1,1.2
−トリメチルヘキシル、1.1.3−トリメチルヘキシ
ル、1.1.4−トリメチルヘキシル、!、1.5−ト
リメチルヘキシル、1.16−トリメチルヘキシル、l
、 2.2−トリメチルヘキシル、I、 2.3−1−
リメチルヘキシル、2.2.3−トリメチルヘキシル、
2.2.4− トリメチルヘキシル、2.2.5− ト
リメチルヘキシル、2.2.6− トリメチルヘキシル
、2.3.3−トリメチルヘキシル、2.3.4−トリ
メチルヘキシル、2.3.5−トリメチルヘキシル、2
.3.6−1−リメチルヘキシル、3.3.4−1−リ
メチルヘキシル、3.3.5− トリメチルヘキシル、
3.3.6−トリメチルヘキシル、3.4.4− トリ
メチルヘキシル、3.4.5−トリメチルヘキシル、3
.4.6−トリメチルヘキシル、3.5.5−トリメチ
ルヘキシル、3.5.6−トリメチルヘキシル、3.6
.6− トリメチルヘキシル、44.5−トリメチルヘ
キシル、4.4.6− トリメチルヘキシル、4.5.
5− トリメチルヘキシル、4.5.6−トリメチルヘ
キシル、5.5.6− トリメチルヘキシル、5.6.
6−トリメチルヘキシル、i、 1. I、 2−テト
ラメチルペンチル、1,1,1.3−テトラメチルペン
チル、1,1,1.4−テトラメチルペンチル、1,1
.2.2−テトラメチルペンチル、1.1..2.3−
テトラメチルペンチル、1,1,2.4−テトラメチル
ペンチル、1. I、 3.3−テトラメチルペンチル
、1,1,3.4−テトラメチルペンチル、1,1,4
.4−テトラメチルペンチル、1.2,2゜3−テトラ
メチルペンチル、1.2.2.4−テトラメチルペンチ
ル、!、2.3.3−テトラメチルペンチル、1.23
.4−テトラメチルペンチル、1,2.4.4−テトラ
メチルペンチル、1.3.3.4−テトラメチルペンチ
ル、l。
ブチル、n−ペンチル、■−メチルブヂル、2−メチル
ブチル、3−メチルブチル、n−ヘキシル、I−エチル
ブチル、2−エチルブチル、3−エチルブチル、1.1
−ジメチルブチル、1.2−ジメチルブチル、1.3−
ジメチルブチル、2.2−ジメチルブチル、2,3−ジ
メチルブチル、33−ジメチルブチル、1−メチルペン
チル、2−メチルベンチル、3−メチルペンチル、4−
メチルペンチル、n−へブチル、1−エチルペンチル、
2−エチルペンチル、3−エチルペンチル、4−エチル
ペンチル、1.1−ジメチルペンチル、1.2−ジメチ
ルペンチル、1.3−ジメチルペンチル、1,4−ジメ
チルペンチル、2,2−ジメチルペンチル、2.3−ジ
メチルペンチル、24−ジメチルペンチル、3.3−ジ
メチルペンチル、3.4−ジメチルペンチル、4.4−
ジメチルペンチル、1−メチルヘキシル、2−メチルヘ
キシル、3−メチルヘキシル、4−メチルヘキシル、5
−メチルヘキシル、n−オクチル、l−エチルヘキシル
、2−エチルヘキシル、3−エチルヘキシル、4−エチ
ルヘキシル、5−エチルヘキシル、1.1−ジメチルヘ
キシル、1.2−ジメチルヘキシル、1.3−ジメチル
ヘキシル、1.4−ジメチルヘキシル、1.5−ジメチ
ルヘキシル、2.2−ジメチルヘキシル、2.3−ジメ
チルヘキシル、2.4−ジメチルヘキシル、2.5−ジ
メチルヘキシル、3.3−ジメチルヘキシル、3.4−
ジメチルヘキシル、3.5−ジメチルヘキシル、4,4
−ジメチルヘキシル、4.5−ジメチルへキシル、5.
5−ジメチルヘキシル、1、.1.2−トリメチルペン
チル、1,1.3−1−ジメチルペンチル、]、]1.
4−トリメチルペンチル1,2.2−1−ジメチルペン
チル、1.2.3−トリメチルペンチル、1゜2、4−
トリメチルペンチル、1.3.3−トリメチルペンチ
ル、l、 3.4− トリメチルペンチル、1.4.4
−1−ジメチルペンチル、2.2.3− トリメチルペ
ンチル、2.2゜4−トリメチルペンチル、2.3.3
− トリメチルペンチル、2.3.4− トリメチルペ
ンチル、2.4.4−トリメチルペンチル、3.3.4
−トリメチルペンチル、3.4.4−トリメチルペンチ
ル、1−エチルヘキシル、2−エチルヘキシル、3−エ
チルヘキシル、4−エチルヘキシル、5−エチルヘキシ
ル、1.1−ジメチルヘキシル、1.2−ジメチルヘキ
シル、1.3−ジメチルヘキシル、1.4−ジメチルヘ
キシル、1.5−ジメチルヘキシル、22−ジメチルヘ
キシル、2.3−ジメチルヘキシル、2.4−ジメチル
ヘキシル、2.5−ジメチルヘキシル、3.3−ジメチ
ルヘキシル、3.4−ジメチルヘキシル、3.5−ジメ
チルヘキシル、4,4−ジメチルヘキシル、4.5−ジ
メチルヘキシル、5゜5−ジメチルヘキシル、1−メチ
ルへブチル、2−メチルへブチル、3−メチルへブチル
、4−メチルへブチル、5−メチルへブチル、6−メチ
ルへブチル、n−ノニル、l−エチルへブチル、2−エ
チルへブチル、3−エチルへブチル、4−エチルへブチ
ル、5−エチルへブチル、6−エチルヘプチル、1.1
−ジメチルへブチル、1.2−ジメチルへブチル、1.
3−ジメチルへブチル、1.4−ジメチルへブチル、1
.5−ジメチルへブチル、1,6−ジメチルへブチル、
2.2−ジメチルへブチル、2.3−ジメチルへブチル
、2.4−ジメチルへブチル、2.5−ジメチルヘプチ
ル、2.6−ジメチルへブチル、3.3−ジメチルへブ
チル、3.4−ジメチルへブチル、3,5−ジメチルヘ
プチル、3.6−ジメチルへブチル、4.4−ジメチル
へブチル、4.5−ジメチルへブチル、4.6−ジメチ
ルへブチル、5.5−ジメチルヘプチル、5.6−ジメ
チルへブチル、6.6−ジメチルへブチル、1,1.2
−トリメチルヘキシル、1.1.3−トリメチルヘキシ
ル、1.1.4−トリメチルヘキシル、!、1.5−ト
リメチルヘキシル、1.16−トリメチルヘキシル、l
、 2.2−トリメチルヘキシル、I、 2.3−1−
リメチルヘキシル、2.2.3−トリメチルヘキシル、
2.2.4− トリメチルヘキシル、2.2.5− ト
リメチルヘキシル、2.2.6− トリメチルヘキシル
、2.3.3−トリメチルヘキシル、2.3.4−トリ
メチルヘキシル、2.3.5−トリメチルヘキシル、2
.3.6−1−リメチルヘキシル、3.3.4−1−リ
メチルヘキシル、3.3.5− トリメチルヘキシル、
3.3.6−トリメチルヘキシル、3.4.4− トリ
メチルヘキシル、3.4.5−トリメチルヘキシル、3
.4.6−トリメチルヘキシル、3.5.5−トリメチ
ルヘキシル、3.5.6−トリメチルヘキシル、3.6
.6− トリメチルヘキシル、44.5−トリメチルヘ
キシル、4.4.6− トリメチルヘキシル、4.5.
5− トリメチルヘキシル、4.5.6−トリメチルヘ
キシル、5.5.6− トリメチルヘキシル、5.6.
6−トリメチルヘキシル、i、 1. I、 2−テト
ラメチルペンチル、1,1,1.3−テトラメチルペン
チル、1,1,1.4−テトラメチルペンチル、1,1
.2.2−テトラメチルペンチル、1.1..2.3−
テトラメチルペンチル、1,1,2.4−テトラメチル
ペンチル、1. I、 3.3−テトラメチルペンチル
、1,1,3.4−テトラメチルペンチル、1,1,4
.4−テトラメチルペンチル、1.2,2゜3−テトラ
メチルペンチル、1.2.2.4−テトラメチルペンチ
ル、!、2.3.3−テトラメチルペンチル、1.23
.4−テトラメチルペンチル、1,2.4.4−テトラ
メチルペンチル、1.3.3.4−テトラメチルペンチ
ル、l。
3、4.4−テトラメチルペンチル、2.2.3.3−
テトラメチルペンチル、2.2.3.4−テトラメチル
ペンチル、2、2.4.4−テトラメチルペンチル、2
.3.3.4−テトラメチルペンチル、2.3.4.4
−テトラメチルペンチル、3.3.4.4−テトラメチ
ルペンチル等が挙げられる。
テトラメチルペンチル、2.2.3.4−テトラメチル
ペンチル、2、2.4.4−テトラメチルペンチル、2
.3.3.4−テトラメチルペンチル、2.3.4.4
−テトラメチルペンチル、3.3.4.4−テトラメチ
ルペンチル等が挙げられる。
また、Y l 、 Y 2、Y3、Y4およびYI′で
示される置換基のうち、ハロゲン原子の具体例としては
フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられ、アルキル
基の具体例としては、メチル、エチル、n−プロピル、
1so−プロピル、n−ブチル、1−メチルプロピル、
2−メチルプロピル、tert−ブチル、n−ペンチル
、1−メチルブチル、2−メチルブチルおよび3−メチ
ルブチル基等が挙げられる。アルコキシ基の具体例とし
てはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ
、ブトキシ、■−メチルプロポキシ、2−メチルプロポ
キシ基等が挙げられる。
示される置換基のうち、ハロゲン原子の具体例としては
フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられ、アルキル
基の具体例としては、メチル、エチル、n−プロピル、
1so−プロピル、n−ブチル、1−メチルプロピル、
2−メチルプロピル、tert−ブチル、n−ペンチル
、1−メチルブチル、2−メチルブチルおよび3−メチ
ルブチル基等が挙げられる。アルコキシ基の具体例とし
てはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ
、ブトキシ、■−メチルプロポキシ、2−メチルプロポ
キシ基等が挙げられる。
本発明の化合物から高溶解度、高反射率を有する1、2
−ナフタロシアニン化合物を得るには、本発明化合物と
、金属塩とを反応させることにより達成される。
−ナフタロシアニン化合物を得るには、本発明化合物と
、金属塩とを反応させることにより達成される。
本発明のナフタレンジカルボニトリル化合物は以下のよ
うにして製造することができる。
うにして製造することができる。
先ず、■−アミノー2−、ナフタレンカルボニトリル化
合物を亜硝酸ナトリウムおよびニトロシル硫酸等のジア
ゾ化剤によりジアゾ化し、次いで、シアン第一銅、シア
ン化カリウムおよびシアン化ナトリウム等のシアン化剤
によりシアノ化を行なうサントメイヤー(Sandme
yer)法、ジアゾ化後、臭素および臭化銅等により1
−ブロモ−2−ナフタレンカルボニトリルを経由して、
上記のシアノ化剤により臭素なシアノ化する方法、また
は、フェニルオレフィン化合物とフマロニトリルとの[
4+2]付加反応によりナフタレンジカルボニトリルを
製造する旧els−Alder法等が挙げられる。
合物を亜硝酸ナトリウムおよびニトロシル硫酸等のジア
ゾ化剤によりジアゾ化し、次いで、シアン第一銅、シア
ン化カリウムおよびシアン化ナトリウム等のシアン化剤
によりシアノ化を行なうサントメイヤー(Sandme
yer)法、ジアゾ化後、臭素および臭化銅等により1
−ブロモ−2−ナフタレンカルボニトリルを経由して、
上記のシアノ化剤により臭素なシアノ化する方法、また
は、フェニルオレフィン化合物とフマロニトリルとの[
4+2]付加反応によりナフタレンジカルボニトリルを
製造する旧els−Alder法等が挙げられる。
1.2−ナフタロシアニン化合物の中間体としては、他
に1.2−ナフタレンジカルボン酸化合物も考えられ、
この化合物について−も1.2−ナフタロシアニン化合
物への変換を試みたが、1.2−ナフタレンジカルボン
酸は金属塩と反応させても、目的とする1、2−ナフタ
ロシアニンを合成することができなかった。従って、本
発明の一般式(I)のナフタレンジカルボニトリル化合
物は1.2−ナフタロシアニン化合物製造のために有効
な中間体であるといえる。
に1.2−ナフタレンジカルボン酸化合物も考えられ、
この化合物について−も1.2−ナフタロシアニン化合
物への変換を試みたが、1.2−ナフタレンジカルボン
酸は金属塩と反応させても、目的とする1、2−ナフタ
ロシアニンを合成することができなかった。従って、本
発明の一般式(I)のナフタレンジカルボニトリル化合
物は1.2−ナフタロシアニン化合物製造のために有効
な中間体であるといえる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例にのみ限定されるものではない。
明はこれらの実施例にのみ限定されるものではない。
K亘烹]
l−アミノ−3−n−オクチル−2−ナフタレンカルボ
ニトリル30.2g (0,108mol)を酢酸50
g1およびプロピオン酸50gに溶解し、0℃にて硫酸
11g 、次いでニトロシル硫酸(40%) 39g
(0,123mol)を滴下し、ジアゾニウム塩を得た
。シアン化カリウム56、5g (0,868mol)
、シアン化銅(1) 20.0g (0,233mo
l)、および炭酸水素ナトリウム165.6gを含有す
る水溶液600mβに、先程のジアゾニウム塩溶液な0
〜IO℃にて滴下し、ベンゼン250mf2で抽出した
。シリカゲルクロマト(展開溶媒ベンゼン)にて精製し
、3−n−才クチル−1,2−ナフタレンジカルボニト
リル3.2g (収率6%)を得た。
ニトリル30.2g (0,108mol)を酢酸50
g1およびプロピオン酸50gに溶解し、0℃にて硫酸
11g 、次いでニトロシル硫酸(40%) 39g
(0,123mol)を滴下し、ジアゾニウム塩を得た
。シアン化カリウム56、5g (0,868mol)
、シアン化銅(1) 20.0g (0,233mo
l)、および炭酸水素ナトリウム165.6gを含有す
る水溶液600mβに、先程のジアゾニウム塩溶液な0
〜IO℃にて滴下し、ベンゼン250mf2で抽出した
。シリカゲルクロマト(展開溶媒ベンゼン)にて精製し
、3−n−才クチル−1,2−ナフタレンジカルボニト
リル3.2g (収率6%)を得た。
得られた化合物の物性値を以下に示す。
IRスペクトル(KBr) : v CN 2240
cm−’マススペクトル(FD−MS): m/z=2
90夫血例ユ 実施例1において、1−アミノ−3−n−才クチル−2
−ナフタレンカルボニトリルのかわりに、1−アミノ−
3−n−ブチル−4−(1−メチルプロピル)ナフタレ
ンカルボニトリル28.0g (0,1mol)を用い
た以外は実施例1と同様にして、3−n−ブチル−4−
(1−メチルプロピル)−1,2−ナフタレンジカルボ
ニトリル2.0g(収率7%)を得た。
cm−’マススペクトル(FD−MS): m/z=2
90夫血例ユ 実施例1において、1−アミノ−3−n−才クチル−2
−ナフタレンカルボニトリルのかわりに、1−アミノ−
3−n−ブチル−4−(1−メチルプロピル)ナフタレ
ンカルボニトリル28.0g (0,1mol)を用い
た以外は実施例1と同様にして、3−n−ブチル−4−
(1−メチルプロピル)−1,2−ナフタレンジカルボ
ニトリル2.0g(収率7%)を得た。
得られた化合物の物性値を以下に示す。
IRスペクトル(にBr) : v cN2250c
m−’マススペクトル(FD−MS)+ m/z=29
0夫血皿旦 l−アミノ−3−(2−エチルヘキシル)−2−ナフタ
レンカルボニトリル30.6g(0,109mol)を
酢酸127g、および塩酸(35%)63gに溶解し、
0℃にて亜硝酸ナトリウム7、6g (0,110mo
l)の20%水溶液を滴下し、ジアゾニウム塩を得た。
m−’マススペクトル(FD−MS)+ m/z=29
0夫血皿旦 l−アミノ−3−(2−エチルヘキシル)−2−ナフタ
レンカルボニトリル30.6g(0,109mol)を
酢酸127g、および塩酸(35%)63gに溶解し、
0℃にて亜硝酸ナトリウム7、6g (0,110mo
l)の20%水溶液を滴下し、ジアゾニウム塩を得た。
シアン化カリウム56.9g (0,874mol)、
シアン化ml x9.5g(0,218mol)、およ
び炭酸水素ナトリウム210.4gを含有する水溶液9
00mβに、先程のジアゾニウム塩溶液を0〜10℃に
て滴下し、トルエン300mβで抽出した。シリカゲル
クロマト(展開溶媒 ヘキサン:トルエン=4 : 6
)にて精製し、3−(2−エチルヘキシル)−1,2−
ナフタレンジカルボニトリル3.1g(収率10%)を
得た。
シアン化ml x9.5g(0,218mol)、およ
び炭酸水素ナトリウム210.4gを含有する水溶液9
00mβに、先程のジアゾニウム塩溶液を0〜10℃に
て滴下し、トルエン300mβで抽出した。シリカゲル
クロマト(展開溶媒 ヘキサン:トルエン=4 : 6
)にて精製し、3−(2−エチルヘキシル)−1,2−
ナフタレンジカルボニトリル3.1g(収率10%)を
得た。
得られた化合物の物性値を以下に示す。
IRスペクトル(KBr) : v cH2230c
m−’マススペクトル(FD−MS): m/z−29
0夫皇困A 1−アミノ−3−(3,5,5−トリメチルヘキシル)
−2−ナフタレンカルボニトリル10g (0,034
mol)を臭化水素酸(47%) 70g 、およびプ
ロピオン酸80gに溶解し、0℃以下で臭素17g (
0,106mol)続いて亜硝酸ナトリウム5.8g
(0,084mol)の30%水溶液を滴下し30分反
応させた。溶液を中和し、エーテル400n+j2で抽
出し、1−ブロモ−3−(3,5,5−トリメチルヘキ
シル)−2−ナフタレンカルボニトリル8.5g(収率
70%)を得た。得られたブロモ体8.5g (0,0
24mol)をシアン化銅(1) 2.5g(0,02
8mol)とジメチルホルムアミド(DMF)中250
〜2−60℃で加熱し、3−(3,5,5−1−リメチ
ルヘキシル)−1,2−ナフタレンジカルボニトリル5
.9g(収率81%)を得た。
m−’マススペクトル(FD−MS): m/z−29
0夫皇困A 1−アミノ−3−(3,5,5−トリメチルヘキシル)
−2−ナフタレンカルボニトリル10g (0,034
mol)を臭化水素酸(47%) 70g 、およびプ
ロピオン酸80gに溶解し、0℃以下で臭素17g (
0,106mol)続いて亜硝酸ナトリウム5.8g
(0,084mol)の30%水溶液を滴下し30分反
応させた。溶液を中和し、エーテル400n+j2で抽
出し、1−ブロモ−3−(3,5,5−トリメチルヘキ
シル)−2−ナフタレンカルボニトリル8.5g(収率
70%)を得た。得られたブロモ体8.5g (0,0
24mol)をシアン化銅(1) 2.5g(0,02
8mol)とジメチルホルムアミド(DMF)中250
〜2−60℃で加熱し、3−(3,5,5−1−リメチ
ルヘキシル)−1,2−ナフタレンジカルボニトリル5
.9g(収率81%)を得た。
得られた化合物の物性値を以下に示す。
IRスペクトル(KBr) : v cN 2220
cm−’マススペクトル(FD−MS): m/z=3
04に立型1 1−アミノ−3−n−テトラデシル−2−ナフタレンカ
ルボニトリル103.4g (0,284mol)を酢
酸350+nj2に溶解し、臭素50g (0,316
mol)を滴下し、50〜60℃で4時間反応し、l−
アミノ−3−n−’Tトラデシルー4−ブロモー2−ナ
フタレンカルボニトリル117.3g(収率93%)を
得た。得られたブロモ体44.3g (0,100mo
l)を実施例1と同様の方法でジアゾ化し、次いでニト
リル化して、3−n−テトラデシル−4−ブロモ−1,
2−ナフタレンジカルボニトリル3.1g(収率7%)
を得た。
cm−’マススペクトル(FD−MS): m/z=3
04に立型1 1−アミノ−3−n−テトラデシル−2−ナフタレンカ
ルボニトリル103.4g (0,284mol)を酢
酸350+nj2に溶解し、臭素50g (0,316
mol)を滴下し、50〜60℃で4時間反応し、l−
アミノ−3−n−’Tトラデシルー4−ブロモー2−ナ
フタレンカルボニトリル117.3g(収率93%)を
得た。得られたブロモ体44.3g (0,100mo
l)を実施例1と同様の方法でジアゾ化し、次いでニト
リル化して、3−n−テトラデシル−4−ブロモ−1,
2−ナフタレンジカルボニトリル3.1g(収率7%)
を得た。
得られた化合物の物性値を以下に示す。
IRスペクトル(にBr) : v aN2200c
m−’マススペクトル(FD−MS): m/z=45
3に凰五旦ニスA 下記一般式(II )で示されるl−アミノル3−アル
キル−2−ナフタレン力ルボニ]・ツル中のR1Y’、
Y’を第1表に示したものを用いて、相当する3−アル
キル−1,2−ナフタレンジカルボニトリル(1−1)
を合成した。反応に要するジアゾ化剤、シアン化剤、溶
剤、収率および得られた化合物の物性値を第1表に示す
。
m−’マススペクトル(FD−MS): m/z=45
3に凰五旦ニスA 下記一般式(II )で示されるl−アミノル3−アル
キル−2−ナフタレン力ルボニ]・ツル中のR1Y’、
Y’を第1表に示したものを用いて、相当する3−アル
キル−1,2−ナフタレンジカルボニトリル(1−1)
を合成した。反応に要するジアゾ化剤、シアン化剤、溶
剤、収率および得られた化合物の物性値を第1表に示す
。
(II ) (I−11
■); ジアゾ化剤/溶剤 2)・シアノ化剤 実迦」L也互 亜燐酸トリエチル173gと臭化n−オクチル202g
を160℃にて10時間反応させ、n−オクチルホスホ
ン酸ジエチル235gを得た。得られたn−オクチルホ
スホン酸ジエチル50gをビペロナール30g及び水素
化ナトリウム7gを含有するDMF溶液に滴下して、2
時間反応させ、1−(l−ノネン)−3,4”メチレン
ジオキシベンゼン39gを得た。得られた化合物39g
とフマロニトリル15gをニトロベンゼン80(1mで
中で5時間加熱還流し、3−n−ヘプチル−6フーメチ
レンジオキシー12−ナフタレンジカルボニトリル29
g(収率60%)を得た。
■); ジアゾ化剤/溶剤 2)・シアノ化剤 実迦」L也互 亜燐酸トリエチル173gと臭化n−オクチル202g
を160℃にて10時間反応させ、n−オクチルホスホ
ン酸ジエチル235gを得た。得られたn−オクチルホ
スホン酸ジエチル50gをビペロナール30g及び水素
化ナトリウム7gを含有するDMF溶液に滴下して、2
時間反応させ、1−(l−ノネン)−3,4”メチレン
ジオキシベンゼン39gを得た。得られた化合物39g
とフマロニトリル15gをニトロベンゼン80(1mで
中で5時間加熱還流し、3−n−ヘプチル−6フーメチ
レンジオキシー12−ナフタレンジカルボニトリル29
g(収率60%)を得た。
得られた化合物の物性値を以下に示す。
IRスペクトル(にBr) : v C,2210c
m−’マススペクトル(FD−MS): m/z=32
0〔発明の効果〕 本発明により、染顔料もしくはポリマー等の原料、特に
1.2−ナフタロシアニン系色素の原料として有用な新
規なナフタレンジカルボニトリル化合物が得られるよう
になった。
m−’マススペクトル(FD−MS): m/z=32
0〔発明の効果〕 本発明により、染顔料もしくはポリマー等の原料、特に
1.2−ナフタロシアニン系色素の原料として有用な新
規なナフタレンジカルボニトリル化合物が得られるよう
になった。
更に、本発明の化合物により得られる高溶解度、高反射
率を有するナフタロシアニン化合物を用いて高性能の光
デイスク用記録膜を得ることも可能となる。
率を有するナフタロシアニン化合物を用いて高性能の光
デイスク用記録膜を得ることも可能となる。
特許出願人 三井東圧化学株式会社
山本化成株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式( I )中、Rは炭素数4〜18の直鎖または分岐
したアルキル基であり、Y^1、Y^2、Y^3、Y^
4およびY^5はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜
10の直鎖または分岐したアルキル基、ハロゲン原子、
もしくは炭素数1〜10のアルコキシ基を示す]で表さ
れることを特徴とする新規ナフタレンジカルボニトリル
化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1033625A JPH0819073B2 (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | 新規ナフタレンジカルボニトリル化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1033625A JPH0819073B2 (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | 新規ナフタレンジカルボニトリル化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02215760A true JPH02215760A (ja) | 1990-08-28 |
| JPH0819073B2 JPH0819073B2 (ja) | 1996-02-28 |
Family
ID=12391627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1033625A Expired - Lifetime JPH0819073B2 (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | 新規ナフタレンジカルボニトリル化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0819073B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016053617A (ja) * | 2014-09-03 | 2016-04-14 | 山本化成株式会社 | ナフタロシアニン化合物を含有して成るフィルタ |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60184565A (ja) * | 1984-03-05 | 1985-09-20 | Yamamoto Kagaku Gosei Kk | ナフタロシアニン化合物 |
-
1989
- 1989-02-15 JP JP1033625A patent/JPH0819073B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60184565A (ja) * | 1984-03-05 | 1985-09-20 | Yamamoto Kagaku Gosei Kk | ナフタロシアニン化合物 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016053617A (ja) * | 2014-09-03 | 2016-04-14 | 山本化成株式会社 | ナフタロシアニン化合物を含有して成るフィルタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0819073B2 (ja) | 1996-02-28 |
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