JPH02221162A - 窒化アルミニウム質焼成体の製法 - Google Patents

窒化アルミニウム質焼成体の製法

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JPH02221162A
JPH02221162A JP1044814A JP4481489A JPH02221162A JP H02221162 A JPH02221162 A JP H02221162A JP 1044814 A JP1044814 A JP 1044814A JP 4481489 A JP4481489 A JP 4481489A JP H02221162 A JPH02221162 A JP H02221162A
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JP
Japan
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aluminum nitride
powder
thermal conductivity
weight
oxygen content
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Application number
JP1044814A
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English (en)
Inventor
Masaaki Hama
浜 正明
Shinichiro Tanaka
紳一郎 田中
Hironori Nishida
裕紀 西田
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、銅、銀、銀−パラジウム系、金等と同時焼成
可能で、しかも熱伝導率が高い窒化アルミニウムを主体
とした焼成体を提供しようとするものである。
〔従来の技術〕
エレクトロニクス素子の高集積化がますます進展する、
に従って、素子が発生する単位面積あたりの熱量が増大
しているが、基板の熱伝導率が低いために、素子の発生
する熱で素子の温度が上昇し、素子の機能に障害が生じ
ることが問題になってきており、さらなる高集積化を妨
げている。
そこで、素子の発生する熱の放散を効率的に行うことか
で−きる熱伝導率の高い基板材料が求められており、現
在窒化アルミニウムが高熱伝導性物質として注目されて
いる。
しかし、焼結助剤を用いても1600〜2000℃の高
い焼結温度が必要である。
一般に、1子回路は高温で焼結して得られた窒化アルミ
ニウム基板上に、銅、銀、銀−パラジウム系、金等の粉
末のペーストを印刷して配線を描き、配線材料の融点以
下で焼成して配線を焼付けた後に素子を取り付けること
によって製造される。
また、より実装密度の高い多層基板を使用したハイブリ
ッドICを、より効率的に安価に製造するために、低温
で焼成可能なアルミナ−ガラス基板が製造されている。
たとえば、アルミナとガラスの粉末を適当なバインダー
等を加えて混合し、ドクターブレード法でグリーンシー
トを作製し、その上に銅、銀、銀−パラジウム系、金等
の粉末のペーストを印刷して配線を形成し、それらの配
線材料が溶融しなし゛温度で焼成し、グリーンシートの
焼成と配線の焼付けとを同時に行なう方法が採用されて
いる。
これらの配線材料の中では融点は銅が最も高く1084
℃であるから、少なくとも1050℃以下で焼成しなけ
ればならない。
低温で液相を生成する物質を使用せず、酸化イツ) I
Jウムや酸化カルシウム等の焼結助剤を数%加えて成形
した窒化アルミニウムの成形体上に、金属粉末ペースト
で配線を描き、焼成して窒化アルミニウムの焼結と配線
の焼付けとを同時に行なうことも可能であるが、焼結温
度が1600〜2000℃の範囲で焼成可能な金属は、
電気抵抗が比較的高いタングステンかモリブデンに限ら
れる。
〔発明が解決しようとする課題〕
アルミナの焼結体の基板は10〜20W/mK程度の熱
伝導率があるが、低温焼成が可能な同時焼成用のアルミ
ナ−ガラス複合焼成体の熱伝導率はせいぜい3 W/m
に程度であり、素子の放熱の問題に充分対応できるよう
な熱伝導性を有しているとは言えない。
また、窒化アルミニウムの成形体で同時焼成を行なう場
合は、窒化゛アルミニウムの熱伝導率が100 W/m
に以上のものが容易に得られるが、焼結には1600〜
2000℃の高温が必要なため、高温焼成用の高価な炉
と多くのエネルギーとを必要とするだけでなく、配線材
料としてはタングステンまたはモリブデンしか使用でき
ず、さらに配線材料の電気抵抗が高いことが問題になっ
ている。
そこで、配線材料として電気抵抗が小さい銅、銀、銀−
パラジウム系、金等を用いる場合にはぞの融点以下で焼
成する必要があり、低温でも焼成可能でしかも高い熱伝
導率が得られるものとして窒化アルミニウムー低融点化
合物複合体について検討した。
アルミナより高い熱伝導率を有する窒化アルミニウム粉
末に、ガラス粉末を加えることにより低温でも焼成可能
な窒化アルミニウム組成物を得ることができるという考
えは、すでに特開昭63−210043号公報に開示さ
れているが、安定して緻密でしかも高い熱伝導率が得ら
れるものではなかった。
〔課題を解決するための手段〕
この問題点を解決するために、窒化アルミニウム粉末と
その焼成体の熱伝導率との関係について研究検討を重ね
た結果、窒化アルミニウム粉末の表面に存在する酸化層
の量が焼成体の熱伝導率に関係があることを見出した。
数%の焼結助剤を添加して1600℃以上の高温で焼結
して高い熱伝導率を得るためには、原料である窒化アル
ミニウム粉末に含まれる酸素含有量は少ない方がよいと
されている。
しかし、ガラス粉末と混合して1050℃以下で焼成す
る場合は、ある程度酸素含有量が多い方が高い熱伝導率
が得られることを見出した。
従って、酸素含有量が多い窒化アルミニウム粉末を用い
るか、または空気中で1000℃程度で焼成するなど、
何等かの方法で窒化アルミニウム粉末を酸化し、酸素含
有量を増加させて用いると、熱伝導率の高い焼成体を得
ることができる。
すなわち、本発明は酸素含有量が2〜15重量%の窒化
アルミニウム粉末にガラス粉末を加え、成形後、焼成す
ることを特徴とする窒化アルミニウム質焼成体の製造方
法に関するものである。
本発明によれば、高い熱伝導率を持った窒化アルミニウ
ム質焼成体を得ることができる。
以下、本発明について詳述する。
本発明において、種々の酸素含有量の窒化アルミニウム
粉末を用いて実験を行なったところ、酸素含有量は少な
くとも2重量%以上、好ましくは2.5重量%以上、さ
らに好ましくは3重量%以上である。
また、酸素含有量が多すぎる場合、粒子表面の酸化層が
熱の伝導を阻害して窒化アルミニウム本来の高い熱伝導
率が得られない。
したがって、酸素含有量が15重量%を越えると焼成体
の熱伝導率が低下するので、酸素含有量は15重量%以
下、好ましくは12重量%以下、さらに好ましくは8重
量%以下である。
ガラスについてはホウケイ酸ガラスが用いられる。
たとえば、5102が40〜70重量%、B20.が5
〜20重量%、^1,0.が5〜15重量%、MgOが
1〜10重量%、Na2Oが1〜5重量%からなる組成
のものを用いることができる。
ガラス粉末の添加量が少ない場合、焼成時に生成する液
相の量も少ないので緻密化せず、多い場合は熱伝導率の
向上を阻害するので、ガラス粉末の添加量は粉末全体に
対して10〜70体積%である。
成形体を得るには、窒化アルミニウムとガラスの粉末に
適当なバインダー等を加え、ボールミル等で混合し、ス
ラリーのままドクターブレード法でシート状に成形する
方法が適用できる。
バインダーとしては、ポリビニルビチラールやポリメチ
ルメタクリレート等を用いることができる。
また、湿式ボールミルで生成したスラリーを乾燥さたり
、乾式で混合するなどして得た混合粉末をプレス成形に
より成形することもできる。
本発明は、成形方法について特に限定するものではない
得られた成形体に銅、銀、銀−パラジウム系、金等の粉
末のペーストで印刷し、それを大気中または窒素雰囲気
中で配線に使用した材料の融点以下の温度、たとえば銅
では1050℃以下、で焼成して窒化アルミニウム質焼
成体を得る。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
等に限定されるものではない。
なお、諸物性の測定は次の装置および方法で行った。
(酸素含有量) インパルス加熱−赤外線吸収法 装置:堀場製作所  EMGA−2800(粒径分布) X線透過式沈降法 装置: Micromeritics社 Sedigr
aph 5QQQεT(熱伝導率) レーザーフラッシュ法 装置:真空理工 TC−7000型 実施例 1 中心粒径1.5μm酸素含有量0.8重M%の窒化アル
ミニウム粉末を、空気中850℃で酸化し、酸素含有量
が2.1重量%の粉末を得た。
該窒化アルミニウム粉末に対し、Sl口□−8203系
ガラス粉末を50体積%になるように加え、金型で30
(1Kg/c++lの圧力で成形し、さらに1500K
g/cmのラバープレスを行なった。
得られた成形体を950℃で30分焼成した。
焼成体の熱伝導率はlog/mKであった。
実施例 2 中心粒径1,5μm酸素含有量0.8重量%の窒化アル
ミニウム粉末を、空気中850℃で酸化し、酸素含有量
が5.7重量%の粉末を得た。
該窒化アルミニウム粉末に対し、5it)、−82[]
3系ガラス粉末を50体積%になるように加え、実施例
1と同様にして焼成体を得た。
焼成体の熱伝導率は19W/mKであった。
実施例 3 中心粒径1,3μm酸素含有量1.8重量%の窒化アル
ミニウム粉末を、空気中850℃で酸化し、酸素含有量
が9.6重量%の粉末を得た。
該窒化アルミニウム粉末に対し、5i02−820.系
ガラス粉末を40体積%になるように加え、金型で30
0Kg/c++!の圧力で成形し、さらに1500Kg
/cIIiのラバープレスを行なった。
得られた成形体を950℃で30分焼成した。
焼成体の熱伝導率はLOW/mKであった。
実施例 4 中心粒径1.3μm酸素含有量1.8重量%の窒化アル
ミニウム粉末を、空気中850℃で酸化し、酸素含有量
が13.3重量%の粉末を得た。
該窒化アルミニウム粉末に対し、3102−82[+3
 系ガラス粉末を40体積%になるように加え、実施例
3と同様にして焼成体を得た。
焼成体の熱伝導率は9W/mKであった。
実施例 5 中心粒径3.0μm酸素含有量1.4重量%の窒化アル
ミニウム粉末を、空気中1000℃で酸化し、酸素含有
量が3.5重量%の粉末を得た。
該窒化アルミニウム粉末に対し、S+02−8203 
系ガラス粉末を50体積%になるように加え、トリクレ
ン−エタノール混合溶媒系で、分散剤としてトリオレイ
ンをバインダーとしてポリビニルブチラールを添加し、
ボールミルで混合しスラリーを得た。
該スラリーを用い、ドクターブレード法によりテープ状
にキャストし、乾燥後打抜いて成形体を得た。
得られた成形体を950℃で30分焼成した。
焼成体の熱伝導率は19W/mKであった。
実施例 6 中心粒径3.0μm酸素含有量1.4重量%の窒化アル
ミニウム粉末を、空気中1000℃で酸化し、酸素含有
量が7.9重量%の粉末を得た。
該窒化アルミニウム粉末に対し、5I02−BzO3系
ガラス粉末を50体積%になるように加え、実施例5と
同様にして焼成体を得た。
焼成体の熱伝導率は17W/mKであった。
比較例 1 中心粒径1.5μm酸素含有量0.9重量%の窒化アル
ミニウム粉末に対し、S10□−B20.系ガラス粉末
を50体積%になるように加え、実施例1と同様にして
焼成体を得た。
焼成体の熱伝導率は2W/1TIKであった。
比較例 2 中心粒径3,0μm酸素含有量1.4重量%の窒化アル
ミニウム粉末に対し、5iOa−820s 系ガラス粉
末を50体積%になるように加え、実施例1と同様にし
て焼成体を得た。
焼成体の熱伝導率は4W/mKであった。
比較例 3 中心粒径1.5μm酸素含有量0.9 重量%の窒化ア
ルミニウム粉末を、空気中1000℃で酸化し、酸素含
有量が25.4重量%の粉末を得た。
該窒化アルミニウム粉末に対し、5i02−821:h
系ガラス粉末を50体積%になるように加え、実施例1
と同様にして焼成体を得た。
焼成体の熱伝導率は3W/mKであった。
〔発明の効果〕
本発明によれば、銅、銀、銀−パラジウム系、金等と同
時焼成が可能な1050℃以下の低温で焼成することが
でき、しかも従来のアルミナ−ガラス基板よりも熱伝導
率が高い窒化アルミニウムを主体とした焼成体を得るこ
とができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  酸素含有量が2〜15重量%の窒化アルミニウム粉末
    にガラス粉末を加え、成形後、焼成することを特徴とす
    る窒化アルミニウム質焼成体の製造方法。
JP1044814A 1989-02-22 1989-02-22 窒化アルミニウム質焼成体の製法 Pending JPH02221162A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5214005A (en) * 1991-02-04 1993-05-25 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Glass-aluminum nitride composite material
EP2620418A1 (en) 2012-01-26 2013-07-31 NGK Insulators, Ltd. Glass-ceramic composite material
WO2014038230A1 (ja) 2012-09-10 2014-03-13 日本碍子株式会社 ガラス-セラミックス複合材料
WO2014155758A1 (ja) 2013-03-26 2014-10-02 日本碍子株式会社 ガラス-セラミックス複合材料

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