JPH02223006A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH02223006A JPH02223006A JP29593489A JP29593489A JPH02223006A JP H02223006 A JPH02223006 A JP H02223006A JP 29593489 A JP29593489 A JP 29593489A JP 29593489 A JP29593489 A JP 29593489A JP H02223006 A JPH02223006 A JP H02223006A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は、ビデオテープレコーダ(VTR)、ディジタ
ルオーディオテープレコーダ(DAT)などの磁気記録
再生装置に使用される磁気ヘッドに関するものである。
ルオーディオテープレコーダ(DAT)などの磁気記録
再生装置に使用される磁気ヘッドに関するものである。
(ロ)従来の技術
近年、VTR,DATなどの磁気記録再生装置において
は、記録信号の高密度化が進められており、この高密度
記録に対応して、磁性粉としてFe、Co、Niなどの
強磁性金属粉末を用いた抗磁力の高いメタルテープが使
用されるようになっている。たとえば、8ミリビデオカ
メラと称する小型のVTRではHc=1400−150
0工ルステツド程度の高い抗磁力を有するメタルテープ
が用いられている。その理由は、磁気記録再生装置を小
型化するために記録密度を高める必要性から、信号の記
録波長を短くすることの可能な記録媒体が要求されてき
たためである。
は、記録信号の高密度化が進められており、この高密度
記録に対応して、磁性粉としてFe、Co、Niなどの
強磁性金属粉末を用いた抗磁力の高いメタルテープが使
用されるようになっている。たとえば、8ミリビデオカ
メラと称する小型のVTRではHc=1400−150
0工ルステツド程度の高い抗磁力を有するメタルテープ
が用いられている。その理由は、磁気記録再生装置を小
型化するために記録密度を高める必要性から、信号の記
録波長を短くすることの可能な記録媒体が要求されてき
たためである。
一方、このメタルテープに記録するために従来のフェラ
イトのみからなる磁気ヘッドを用いると、フェライトの
飽和磁束密度が高々5500ガウス程度であることから
磁気飽和現象が発生するため、メタルテープの性能を十
分に活用することができない。そこで、この高い抗磁力
を有するメタルテープに対応する磁気ヘッドとしては、
通常、磁気ヘッドとして要求される磁気コアの高周波特
性や耐摩耗性の他に、磁気コアのギャップ近傍部の飽和
磁束密度が大きいことがI!求される。
イトのみからなる磁気ヘッドを用いると、フェライトの
飽和磁束密度が高々5500ガウス程度であることから
磁気飽和現象が発生するため、メタルテープの性能を十
分に活用することができない。そこで、この高い抗磁力
を有するメタルテープに対応する磁気ヘッドとしては、
通常、磁気ヘッドとして要求される磁気コアの高周波特
性や耐摩耗性の他に、磁気コアのギャップ近傍部の飽和
磁束密度が大きいことがI!求される。
この要求を満たすメタルテープ対応型の磁気ヘッドとし
ては、磁気飽和現象の最も生じやすい作動ギャップ近傍
部分を、磁気コアとして使用されるフェライトよりも飽
和磁束密度の大きな金属磁性材料(たとえば、パーマロ
イ、センダスト、アモルファス磁性体)で構成した磁気
ヘッド(複合型磁気ヘッドと称する)が提案されている
。この複合型磁気ヘッドは信頼性、磁気特性、耐摩耗性
等の点で優れた特性を有する。
ては、磁気飽和現象の最も生じやすい作動ギャップ近傍
部分を、磁気コアとして使用されるフェライトよりも飽
和磁束密度の大きな金属磁性材料(たとえば、パーマロ
イ、センダスト、アモルファス磁性体)で構成した磁気
ヘッド(複合型磁気ヘッドと称する)が提案されている
。この複合型磁気ヘッドは信頼性、磁気特性、耐摩耗性
等の点で優れた特性を有する。
第7図は、従来の磁気ヘッドの外観を示す斜視図、第8
図はテープ摺接面を示す図である。この従来の磁気ヘッ
ドはM n −Z nフェライト等の強磁性酸化物から
なる一対の磁気コア半体(la)(lb)が非磁性材料
を介して突き合わせられて構成する作動ギャップ(2)
の近傍部に、飽和磁束密度の大きいセンダスト等の強磁
性金属薄膜(3a)(3b)が形成されている。前記磁
気コア半体(la)(lb)はガラス(4)によって接
合され、巻線溝(5)が形成されている。尚、この磁気
ヘッドは前記磁気コア半体(la)(lb)と前記強磁
性金属薄膜(3a)(3b)との境界面(6a)(6b
)が前記作動ギャップ(2)のトラック幅方向と平行で
ある。
図はテープ摺接面を示す図である。この従来の磁気ヘッ
ドはM n −Z nフェライト等の強磁性酸化物から
なる一対の磁気コア半体(la)(lb)が非磁性材料
を介して突き合わせられて構成する作動ギャップ(2)
の近傍部に、飽和磁束密度の大きいセンダスト等の強磁
性金属薄膜(3a)(3b)が形成されている。前記磁
気コア半体(la)(lb)はガラス(4)によって接
合され、巻線溝(5)が形成されている。尚、この磁気
ヘッドは前記磁気コア半体(la)(lb)と前記強磁
性金属薄膜(3a)(3b)との境界面(6a)(6b
)が前記作動ギャップ(2)のトラック幅方向と平行で
ある。
また、第9図及び第10図に示すように、磁気コア半体
(la)(lb)と強磁性金属薄III(3a)(3b
)との境界面(6a)(6b)を作動ギャップ(2)の
形成面に対して傾斜させ、非平行とすることによって、
たとえ、疑似ギャップが発生してもヘッドの性能には悪
影響を及ぼさないようにした複合型磁気ヘッドが提案さ
れている。
(la)(lb)と強磁性金属薄III(3a)(3b
)との境界面(6a)(6b)を作動ギャップ(2)の
形成面に対して傾斜させ、非平行とすることによって、
たとえ、疑似ギャップが発生してもヘッドの性能には悪
影響を及ぼさないようにした複合型磁気ヘッドが提案さ
れている。
一般に、第9図及び第10[に示す磁気ヘッドでは作動
ギャップ(2)のトラック幅が強磁性金属薄膜(3a)
(3b)の膜厚に関係するため、前記強磁性金属薄膜(
3a)(3b)の膜厚が20〜30μmであるのに対し
て、第7図及び第8図に示す磁気ヘッドでは作動ギャッ
プ(2)のトラック幅が強磁性金属薄膜(3a)(3b
)の膜厚には関係しないため、前記強磁性金属薄膜(3
a)(3b)の膜厚が5μm前後と薄く形成される。よ
って第7図の磁気ヘッドの方が、経済性・量産性におい
て優れている。しかし逆に、第7図の磁気ヘッドでは、
膜厚の薄さゆえに、記録時に低周波領域での磁気飽和が
起こりゃすく、低周波領域での自己記録再生能力が低い
傾向にある。
ギャップ(2)のトラック幅が強磁性金属薄膜(3a)
(3b)の膜厚に関係するため、前記強磁性金属薄膜(
3a)(3b)の膜厚が20〜30μmであるのに対し
て、第7図及び第8図に示す磁気ヘッドでは作動ギャッ
プ(2)のトラック幅が強磁性金属薄膜(3a)(3b
)の膜厚には関係しないため、前記強磁性金属薄膜(3
a)(3b)の膜厚が5μm前後と薄く形成される。よ
って第7図の磁気ヘッドの方が、経済性・量産性におい
て優れている。しかし逆に、第7図の磁気ヘッドでは、
膜厚の薄さゆえに、記録時に低周波領域での磁気飽和が
起こりゃすく、低周波領域での自己記録再生能力が低い
傾向にある。
また、特開昭62−177714号公報(GlIB5/
235)には、一対の磁気コア半体のギャップ接合面に
飽和磁束密度が500G以下の磁性薄膜を形成すること
により、記録時と再生時においてギャップ長が変化する
よう□に構成した磁気ヘッドが示されている。しかし乍
ら、この磁気ヘッドでは、上記磁性薄膜は飽和磁束密度
が5゜OG以下と非常に小さいため、小さい磁束でもす
ぐに飽和し、実質的なギャップ長が拡大して高周波信号
を効率良く再生することが困難である。
235)には、一対の磁気コア半体のギャップ接合面に
飽和磁束密度が500G以下の磁性薄膜を形成すること
により、記録時と再生時においてギャップ長が変化する
よう□に構成した磁気ヘッドが示されている。しかし乍
ら、この磁気ヘッドでは、上記磁性薄膜は飽和磁束密度
が5゜OG以下と非常に小さいため、小さい磁束でもす
ぐに飽和し、実質的なギャップ長が拡大して高周波信号
を効率良く再生することが困難である。
(ハ)発明が解決しようとする課題
本発明は上記従来例の欠点に鑑みて成されたものであり
、高周波領域での自己記録再生能力を劣化させることな
く、低周波領域での自己記録再生能力を向上させた磁気
ヘッドを提供すること目的とするものである。
、高周波領域での自己記録再生能力を劣化させることな
く、低周波領域での自己記録再生能力を向上させた磁気
ヘッドを提供すること目的とするものである。
(ニ)nMを解決するための手段
本発明の磁気ヘッドは、作動ギャップ近傍の強磁性金属
薄膜を第1の強磁性金属薄膜と、該第1の強磁性金属薄
膜よりも前記作動ギャップ近傍に位置するとともに磁束
密度B52.が1000ガウスより大きく且つ前記第】
の強磁性金属薄膜に対する飽和磁束密度の比率が0.6
以下である第2の強磁性金属薄膜とで構成したことを特
徴とする。
薄膜を第1の強磁性金属薄膜と、該第1の強磁性金属薄
膜よりも前記作動ギャップ近傍に位置するとともに磁束
密度B52.が1000ガウスより大きく且つ前記第】
の強磁性金属薄膜に対する飽和磁束密度の比率が0.6
以下である第2の強磁性金属薄膜とで構成したことを特
徴とする。
更に前記第1の強磁性金属薄膜と前記第2の強磁性金属
薄膜とは同一の元素で構成され、且つ該元素の組成比が
異なることを特徴とする。
薄膜とは同一の元素で構成され、且つ該元素の組成比が
異なることを特徴とする。
また、前記第2の強磁性金属薄膜は、前記第1の強磁性
金属薄膜を構成する元素に該元素とは別の添加元素、例
えばTi、V、Cr、Zr、Nb、Mo、I−1f、T
a、W等の元素を添加してなることを特徴とする。
金属薄膜を構成する元素に該元素とは別の添加元素、例
えばTi、V、Cr、Zr、Nb、Mo、I−1f、T
a、W等の元素を添加してなることを特徴とする。
(ホ)作 用
上記構成によれば、低周波領域における記録時には、第
2の強磁性金属薄膜は磁気飽和を起こして実質的なギャ
ップ長が拡大し、作動ギヤ・7プから離れた部分の漏洩
磁束密度が増加し記録効率が向上する。また、再生時に
は、前記第2の強磁性金属薄膜が磁気飽和を起こす程の
磁束密度の磁束は発生しないので、前記第2の強磁性金
属薄膜は磁性体として作用し、磁気ギャップとなる部分
は本来の作動ギャップの部分のみでありギャップ長は拡
大せず、高周波領域においても再生効率は劣化しない。
2の強磁性金属薄膜は磁気飽和を起こして実質的なギャ
ップ長が拡大し、作動ギヤ・7プから離れた部分の漏洩
磁束密度が増加し記録効率が向上する。また、再生時に
は、前記第2の強磁性金属薄膜が磁気飽和を起こす程の
磁束密度の磁束は発生しないので、前記第2の強磁性金
属薄膜は磁性体として作用し、磁気ギャップとなる部分
は本来の作動ギャップの部分のみでありギャップ長は拡
大せず、高周波領域においても再生効率は劣化しない。
また、再生時に例え前記第2の強磁性金属薄膜に磁気飽
和が発生して実質的なギャップ長が拡大したとしても、
低周波領域の再生であるのでギャップ損失は少なく、再
生効率が低下することはない。
和が発生して実質的なギャップ長が拡大したとしても、
低周波領域の再生であるのでギャップ損失は少なく、再
生効率が低下することはない。
一万、高周波領域では、記録時および再生時に磁束密度
B4..が1000ガウス以上の第2の強磁性金属薄膜
が磁気飽和を起こすことはなく、自己記録再生効率が低
下することはない。
B4..が1000ガウス以上の第2の強磁性金属薄膜
が磁気飽和を起こすことはなく、自己記録再生効率が低
下することはない。
(へ)実施例
以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説明
する。
する。
第1図は、本実施例の磁気ヘッドの外観を示す斜視図、
第2図は当該磁気ヘッドのテープ摺接面を示す図である
。
第2図は当該磁気ヘッドのテープ摺接面を示す図である
。
図中、(lla)(llb)はM n −Z nフェラ
イトよりなる一対の磁気コア半体、(12)はギャップ
長が0.2〜0.3μm前後の作動ギャップであり、前
記磁気コア半体(lla)(llb)の作動ギャップ(
12)近傍には高飽和磁束密度のFe−5i−AI系合
金よりなる第1の強磁性金属薄膜(13a)’(13b
)がスパッタリング等により被着されており、該@lの
強磁性金属薄膜(13a)(13b)のさらに作動ギヤ
、ンプ(12)側にはSin、等よりなる膜厚5・σ人
程度の拡散防止膜(図示せず)を介してFe−5i−A
I系合金、あるいはFe−5i−AI系合金にTi、V
、Cr、Z r、Nb、Mo、Hf、Ta、Wのうち少
なくとも1種を添加して磁束密度B l、 tkが所定
の値に調整されている第2の強磁性金属薄膜(17a)
(17b)がスパッタリング等により被着されている。
イトよりなる一対の磁気コア半体、(12)はギャップ
長が0.2〜0.3μm前後の作動ギャップであり、前
記磁気コア半体(lla)(llb)の作動ギャップ(
12)近傍には高飽和磁束密度のFe−5i−AI系合
金よりなる第1の強磁性金属薄膜(13a)’(13b
)がスパッタリング等により被着されており、該@lの
強磁性金属薄膜(13a)(13b)のさらに作動ギヤ
、ンプ(12)側にはSin、等よりなる膜厚5・σ人
程度の拡散防止膜(図示せず)を介してFe−5i−A
I系合金、あるいはFe−5i−AI系合金にTi、V
、Cr、Z r、Nb、Mo、Hf、Ta、Wのうち少
なくとも1種を添加して磁束密度B l、 tkが所定
の値に調整されている第2の強磁性金属薄膜(17a)
(17b)がスパッタリング等により被着されている。
前記磁気コア半体(lla)(llb)は、磁束密度B
1.□が530θガウスであり、前記第1の強磁性金属
薄膜(13a)(13b)は、磁束密度B15.、、=
10000ガウス(飽和磁束密度B、=10000ガ
ウス)、膜J¥t、=6μmである。また、該第1の強
磁性金属薄膜の組成比は1.A1:5.5重量%、Si
:10.0重量%、Fe:84.5重量%である。
1.□が530θガウスであり、前記第1の強磁性金属
薄膜(13a)(13b)は、磁束密度B15.、、=
10000ガウス(飽和磁束密度B、=10000ガ
ウス)、膜J¥t、=6μmである。また、該第1の強
磁性金属薄膜の組成比は1.A1:5.5重量%、Si
:10.0重量%、Fe:84.5重量%である。
前記一対の磁気コア半体(lla)(llb)同士は、
前記作動ギャップ(12)のトラック幅を規定する溝(
18)(18)に充填されているガラス(14)(14
)により、前記第2の強磁性金属薄膜(17a)(17
b)同士が作動ギャップ(12)となる非磁性材料を介
して対向する状態で接合されている。また前記磁気コア
半体(lla)(llb)と前記第1の強磁性金属薄膜
(13a)(13b)との境界面(16a)(16b)
は前記作動ギャップ(12)のトラック幅方向と平行で
ある。
前記作動ギャップ(12)のトラック幅を規定する溝(
18)(18)に充填されているガラス(14)(14
)により、前記第2の強磁性金属薄膜(17a)(17
b)同士が作動ギャップ(12)となる非磁性材料を介
して対向する状態で接合されている。また前記磁気コア
半体(lla)(llb)と前記第1の強磁性金属薄膜
(13a)(13b)との境界面(16a)(16b)
は前記作動ギャップ(12)のトラック幅方向と平行で
ある。
次に、第1図および第2図に示す構造の磁気ヘッドにお
いて、第2の強磁性金属薄膜(17a)(17b)の飽
和磁束密度B6.が2000.4000.6000.8
000.10000.18000ガウスのときの低周波
領域での自己記録再生出力を有限要素法によるコンピュ
ータ・シュミレーシヨンを用いた静磁界解析により求め
た。その結果を第3図に示す。第3図において、縦軸は
第2の強磁性金属薄膜(17a)(17b)の飽和磁束
密度Bs1が1ooooガウスである磁気ヘッド(従来
の磁気ヘッドに相当する)の再生出力を基準にしたとき
の各磁気ヘッドの再生出力の値であり、横軸は第1の強
磁性金属薄膜(13a)(13b)の飽和磁束密度B。
いて、第2の強磁性金属薄膜(17a)(17b)の飽
和磁束密度B6.が2000.4000.6000.8
000.10000.18000ガウスのときの低周波
領域での自己記録再生出力を有限要素法によるコンピュ
ータ・シュミレーシヨンを用いた静磁界解析により求め
た。その結果を第3図に示す。第3図において、縦軸は
第2の強磁性金属薄膜(17a)(17b)の飽和磁束
密度Bs1が1ooooガウスである磁気ヘッド(従来
の磁気ヘッドに相当する)の再生出力を基準にしたとき
の各磁気ヘッドの再生出力の値であり、横軸は第1の強
磁性金属薄膜(13a)(13b)の飽和磁束密度B。
に対する第2の強磁性金属薄膜(17a)(17b)の
飽和磁束密度Bitの比率B it/ B s+である
。図中(イ)は第2の強磁性金属薄膜(17a)(17
b)の膜厚り、が0.02amの場合であり、(ロ)は
第2の強磁性金属薄膜(17a)(17b)の膜厚t、
が0.04amの場合である。また比較のために、第2
の強磁性金属薄膜(17a ) (17b)を非磁性材
(飽和磁束密度BsがO)で形成した磁気ヘッド、すな
わち第2の強磁性金属薄膜(17a)(17b)の膜厚
2t、だけギャップ長の大きい磁気ヘッドについても同
様の解析を行なった。尚、第3図中の中黒の印は実測値
である。
飽和磁束密度Bitの比率B it/ B s+である
。図中(イ)は第2の強磁性金属薄膜(17a)(17
b)の膜厚り、が0.02amの場合であり、(ロ)は
第2の強磁性金属薄膜(17a)(17b)の膜厚t、
が0.04amの場合である。また比較のために、第2
の強磁性金属薄膜(17a ) (17b)を非磁性材
(飽和磁束密度BsがO)で形成した磁気ヘッド、すな
わち第2の強磁性金属薄膜(17a)(17b)の膜厚
2t、だけギャップ長の大きい磁気ヘッドについても同
様の解析を行なった。尚、第3図中の中黒の印は実測値
である。
第3図から判るように、飽和磁束密度Bs * / B
8.が0.6以上の磁気ヘッドの自己記録再生出力は、
飽和磁束密度の比率がB。/ B s+ = 1である
従来の磁気ヘッドとほとんど同じであるのに対して、飽
和磁束密度の比率Bss/Bs1が0.6以下の磁気ヘ
ッドの自己記録再生出力は従来の磁気ヘッドの自己記録
再生出力を大幅に上回っている。これは、飽和磁束密度
の比率Bs=/Bs、が0.6以下の磁気ヘッドでは、
低周波信号の記録時に第2の強磁性金属薄膜で磁気飽和
が生じて実質的なギャップ長が拡大するために、低周波
領域での記録効率が増大することによる。なお再生時に
は、たとえ第2の強磁性金属iW膜で磁気飽和が生じて
実質的なギャップ長が拡大したとしても、低周波領域の
再生であるのでギャップ損失は少なく、自己記録再生効
率が低下することはない。
8.が0.6以上の磁気ヘッドの自己記録再生出力は、
飽和磁束密度の比率がB。/ B s+ = 1である
従来の磁気ヘッドとほとんど同じであるのに対して、飽
和磁束密度の比率Bss/Bs1が0.6以下の磁気ヘ
ッドの自己記録再生出力は従来の磁気ヘッドの自己記録
再生出力を大幅に上回っている。これは、飽和磁束密度
の比率Bs=/Bs、が0.6以下の磁気ヘッドでは、
低周波信号の記録時に第2の強磁性金属薄膜で磁気飽和
が生じて実質的なギャップ長が拡大するために、低周波
領域での記録効率が増大することによる。なお再生時に
は、たとえ第2の強磁性金属iW膜で磁気飽和が生じて
実質的なギャップ長が拡大したとしても、低周波領域の
再生であるのでギャップ損失は少なく、自己記録再生効
率が低下することはない。
よって、低周波領域での自己記録再生出力を増大させる
ためには、第1、第2の強磁性金属薄膜(13a)(1
3b)(17a)(17b)の飽和磁束密度の比率Bs
1/′Bs+が0.6以下であればよい。
ためには、第1、第2の強磁性金属薄膜(13a)(1
3b)(17a)(17b)の飽和磁束密度の比率Bs
1/′Bs+が0.6以下であればよい。
一方、高周波領域では実質的なギャップ長の拡大による
ギャップ損失の増加が自己記録再生出力(特に再生出力
)の低下をもたらすので、高周波領域での自己記録再生
出力を確保するためには、第2の強磁性金属薄膜の磁束
密度B I、tkの範囲には下限を設ける必要がある。
ギャップ損失の増加が自己記録再生出力(特に再生出力
)の低下をもたらすので、高周波領域での自己記録再生
出力を確保するためには、第2の強磁性金属薄膜の磁束
密度B I、tkの範囲には下限を設ける必要がある。
これを確認するために次のような実験を行なった。すな
わち、第1図および第2図に示す構造の磁気ヘッドにお
いて、第2の強磁性金属薄膜(17a)(17b)の磁
束密度B■が500,1000.1600.3400.
6400.10000ガウス、膜厚11がO,12am
である磁気ヘッドを試作し自己記録再生出力を測定した
。その結果を第・を図に示す。また、使用した第2の強
磁性金属薄膜の#Iim比を下表に示す。
わち、第1図および第2図に示す構造の磁気ヘッドにお
いて、第2の強磁性金属薄膜(17a)(17b)の磁
束密度B■が500,1000.1600.3400.
6400.10000ガウス、膜厚11がO,12am
である磁気ヘッドを試作し自己記録再生出力を測定した
。その結果を第・を図に示す。また、使用した第2の強
磁性金属薄膜の#Iim比を下表に示す。
自己記録再生出力の測定は、保磁力Hcが約900エル
ステツドのS −V HS用テープを用い、相対速度5
、8 m/secにて行なった。第4図において、縦
軸は第2の強磁性金属薄膜(17a )(17b)の磁
束lff&B、。1がtooooガウスである磁気ヘッ
ド(従来の磁気ヘッドに相当する)の自己記録再生出力
を基準にしたときの各磁気ヘッドの自己記録再生出力の
値であり、横軸は第2の強磁性金属薄膜(17a)(1
7b)の磁束密度B1□、の値である。
ステツドのS −V HS用テープを用い、相対速度5
、8 m/secにて行なった。第4図において、縦
軸は第2の強磁性金属薄膜(17a )(17b)の磁
束lff&B、。1がtooooガウスである磁気ヘッ
ド(従来の磁気ヘッドに相当する)の自己記録再生出力
を基準にしたときの各磁気ヘッドの自己記録再生出力の
値であり、横軸は第2の強磁性金属薄膜(17a)(1
7b)の磁束密度B1□、の値である。
尚、磁束密度B、1.の測定条件は次のとおりである。
すなわち、5X5ao”角の非磁性基板上に被着形成し
た厚さ1.2μmの強磁性金属薄膜に対して該膜面に平
行に1.2キロエルステッドの外磁界を印加し、そのと
きに該膜面内に誘導される磁束密度B11.とした。測
定機としては、試料振動型磁力計を用いた。
た厚さ1.2μmの強磁性金属薄膜に対して該膜面に平
行に1.2キロエルステッドの外磁界を印加し、そのと
きに該膜面内に誘導される磁束密度B11.とした。測
定機としては、試料振動型磁力計を用いた。
第4図から判るように、第2の強磁性金属薄膜の磁束密
度B2.、が1000ガウスより小さくなると、高周波
領域(図中6MHz)の自己記録再生出力が従来の磁気
ヘッドに比べて著しく低下する。これは、第2強磁性金
属薄膜の磁束密度B1゜Ikが1000ガウスより小さ
いような磁気ヘッドでは、再生時に第2の強磁性金属薄
膜で磁気飽和が生じて実質的なギャップ長が拡大するた
めにギャップ損失が増大し、高周波領域での再生効率が
低下することによる。よって、高周波領域での自己記録
再生出力の低下を1dB以内に押さえるためには、第2
の強磁性金属薄膜の磁束密度Biを1000ガウスより
大きくしなければならない。
度B2.、が1000ガウスより小さくなると、高周波
領域(図中6MHz)の自己記録再生出力が従来の磁気
ヘッドに比べて著しく低下する。これは、第2強磁性金
属薄膜の磁束密度B1゜Ikが1000ガウスより小さ
いような磁気ヘッドでは、再生時に第2の強磁性金属薄
膜で磁気飽和が生じて実質的なギャップ長が拡大するた
めにギャップ損失が増大し、高周波領域での再生効率が
低下することによる。よって、高周波領域での自己記録
再生出力の低下を1dB以内に押さえるためには、第2
の強磁性金属薄膜の磁束密度Biを1000ガウスより
大きくしなければならない。
また、第2の強磁性金属薄膜の磁束密度B 1. tk
が6400ガウスより小さい範囲では、低周波領域(図
中0.5.1λIHz)の自己記録再生出力が従来の磁
気ヘッドに比べて高い。この結果は前述のコンピータ・
シュミレーションの結果とほぼ一致する。
が6400ガウスより小さい範囲では、低周波領域(図
中0.5.1λIHz)の自己記録再生出力が従来の磁
気ヘッドに比べて高い。この結果は前述のコンピータ・
シュミレーションの結果とほぼ一致する。
よって、高周波領域での自己記録再生出力を確保しつつ
、低周波領域での自己記録再生出力を増大させるために
は、第2の強磁性金属薄膜は磁束密度B+1kを100
0ガウスより大きく且つ第1の強磁性金属薄膜の飽和磁
束密度B S+に対する比率BSI/′BSIを0.6
以下にすればよいことが判った。
、低周波領域での自己記録再生出力を増大させるために
は、第2の強磁性金属薄膜は磁束密度B+1kを100
0ガウスより大きく且つ第1の強磁性金属薄膜の飽和磁
束密度B S+に対する比率BSI/′BSIを0.6
以下にすればよいことが判った。
尚。上述の測定で用いた磁気ヘッドの光学ギャップ長を
測定したところ全ての磁気ヘッドで0.28μmであっ
た。しかし乍ら、ギャップ損失により生じる又ル・ポイ
ントにより測定した実効ギャップ長は、第2の強磁性金
属薄膜の磁束密度B、、kが1ooo、1600,34
.00,6400.10000ガウスの磁気ヘッドでは
0.33μmであるのに対して、磁束密度B1.tkが
500ガウスの磁気ヘッドでは0.54μmmと大きく
拡がった。これは、前記第2の強磁性金属薄膜の磁束密
度B、1kが小さ過るために生じたものと思われる。
測定したところ全ての磁気ヘッドで0.28μmであっ
た。しかし乍ら、ギャップ損失により生じる又ル・ポイ
ントにより測定した実効ギャップ長は、第2の強磁性金
属薄膜の磁束密度B、、kが1ooo、1600,34
.00,6400.10000ガウスの磁気ヘッドでは
0.33μmであるのに対して、磁束密度B1.tkが
500ガウスの磁気ヘッドでは0.54μmmと大きく
拡がった。これは、前記第2の強磁性金属薄膜の磁束密
度B、1kが小さ過るために生じたものと思われる。
また、5−VHS用テープに代えて保磁力が1400〜
1500エルステツドのメタルテープを用い、相対速度
3.8m/sec (8mmVTR仕様)にて上述の測
定を行っても、上述と同様の結果が得られた。
1500エルステツドのメタルテープを用い、相対速度
3.8m/sec (8mmVTR仕様)にて上述の測
定を行っても、上述と同様の結果が得られた。
第5図は他の実施例の磁気ヘッドの外観を示す斜視図、
第6図は他の実施例の磁気ヘッドのテープ摺接面を示す
図である。
第6図は他の実施例の磁気ヘッドのテープ摺接面を示す
図である。
上記能の実施例の磁気ヘッドは、溝(18)(18)の
底面にまで第1、第2の強磁性金属薄膜(13a)<1
3b)(17a)(17b)が形成されている。
底面にまで第1、第2の強磁性金属薄膜(13a)<1
3b)(17a)(17b)が形成されている。
また、上記実施例に限らず、第9図に示すような磁気コ
ア半体と強磁性金属薄膜との境界面を作動ギャップの形
成面に対して傾斜させた磁気ヘッドにおいても、本発明
を適用することにより、高周波領域での自己記録再生出
力を低下させることなく、低周波領域での自己記録再生
出力を増大させることが可能である。
ア半体と強磁性金属薄膜との境界面を作動ギャップの形
成面に対して傾斜させた磁気ヘッドにおいても、本発明
を適用することにより、高周波領域での自己記録再生出
力を低下させることなく、低周波領域での自己記録再生
出力を増大させることが可能である。
また、Fe−5i−AI系合金以外にもFe−Ni系合
金(パーマロイ)等の他の強磁性金属材料により強磁性
金属薄膜を形成した磁気ヘッドにおいても本発明を適用
することにより上述の実施例と同様の効果を得ることが
出来る。
金(パーマロイ)等の他の強磁性金属材料により強磁性
金属薄膜を形成した磁気ヘッドにおいても本発明を適用
することにより上述の実施例と同様の効果を得ることが
出来る。
以上、作動ギャップの両側の強磁性金属薄膜を第1およ
び第2の強磁性金属薄膜で構成する磁気ヘットニついて
述べたが、本発明の効果はこれに限定されるものではな
く、片側の前記強磁性金属薄膜のみを第1及び第2の強
磁性金属薄膜で構成する磁気ヘッドにおいても、本発明
の効果が得られるのは明らかである。
び第2の強磁性金属薄膜で構成する磁気ヘットニついて
述べたが、本発明の効果はこれに限定されるものではな
く、片側の前記強磁性金属薄膜のみを第1及び第2の強
磁性金属薄膜で構成する磁気ヘッドにおいても、本発明
の効果が得られるのは明らかである。
(ト)発明の効果
本発明によれば、高周波領域での自己記録再生能力が劣
化することなく低周波領域での自己記録再生能力が向上
した磁気ヘッドを提供し得る。
化することなく低周波領域での自己記録再生能力が向上
した磁気ヘッドを提供し得る。
第1図乃至第6図は本発明に係り、第1図は磁気ヘッド
の外観を示す斜視図、第2図は磁気ヘッドのテープ摺接
面を示す図、第3図は飽和磁束密度の比率と再生出力と
の関係を示す図、第4図は磁束密度B1.1にの値と再
生出力との関係を示す図、第5図は他の実施例の磁気ヘ
ッドの外観を示す斜視図、第6図は他の実施例の磁気ヘ
ッドのテープ摺接面を示す図である。第7図乃至第10
図は従来例に係り、第7図及び第9図は夫々磁気ヘッド
の外観を示す斜視図、第8図及び第10図は夫々磁気ヘ
ッドのテープ摺接面を示す図である。 (lla)(llb)・・・磁気コア半体、(12)・
・・作動ギャップ、<13a)(13b)−第1の強磁
性金属薄膜、(17a)(17b)・・・第2の強磁性
金属薄膜。
の外観を示す斜視図、第2図は磁気ヘッドのテープ摺接
面を示す図、第3図は飽和磁束密度の比率と再生出力と
の関係を示す図、第4図は磁束密度B1.1にの値と再
生出力との関係を示す図、第5図は他の実施例の磁気ヘ
ッドの外観を示す斜視図、第6図は他の実施例の磁気ヘ
ッドのテープ摺接面を示す図である。第7図乃至第10
図は従来例に係り、第7図及び第9図は夫々磁気ヘッド
の外観を示す斜視図、第8図及び第10図は夫々磁気ヘ
ッドのテープ摺接面を示す図である。 (lla)(llb)・・・磁気コア半体、(12)・
・・作動ギャップ、<13a)(13b)−第1の強磁
性金属薄膜、(17a)(17b)・・・第2の強磁性
金属薄膜。
Claims (4)
- (1)強磁性酸化物よりなる一対の磁気コア半体に強磁
性金属薄膜を形成し、該強磁性金属薄膜同士を作動ギャ
ップとなる非磁性材料を介して突き合わせてなる磁気ヘ
ッドにおいて、前記強磁性金属薄膜の少なくとも一方を
第1の強磁性金属薄膜と、該第1の強磁性金属薄膜より
も前記作動ギャップ近傍に位置するとともに1.2キロ
エルステッドの磁界を印加したときに誘導される磁束密
度(以下、磁束密度B_1_._2_kとする)が10
00ガウスより大きく且つ前記第1の強磁性金属薄膜に
対する飽和磁束密度の比率が0.6以下である第2の強
磁性金属薄膜とで構成したことを特徴とする磁気ヘッド
。 - (2)前記第1の強磁性金属薄膜と前記第2の強磁性金
属薄膜とは同一の元素で構成され、且つ該元素の組成比
が異なることを特徴とする請求項(1)記載の磁気ヘッ
ド。 - (3)前記第2の強磁性金属薄膜は、前記第1の強磁性
金属薄膜を構成する元素に該元素とは別の元素を添加し
てなるものであることを特徴とする請求項(1)記載の
磁気ヘッド。 - (4)前記添加元素が、Ti、V、Cr、 Zr、Nb、Mo、Hf、Ta、Wのうち少なくとも一
種であることを特徴とする請求項(3)記載の磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29593489A JPH081685B2 (ja) | 1988-11-15 | 1989-11-14 | 磁気ヘッド |
| US07/611,574 US5155645A (en) | 1989-11-14 | 1990-11-13 | Magnetic head with improved efficiency in both high and low frequency ranges |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28914588 | 1988-11-15 | ||
| JP63-289145 | 1988-11-15 | ||
| JP29593489A JPH081685B2 (ja) | 1988-11-15 | 1989-11-14 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02223006A true JPH02223006A (ja) | 1990-09-05 |
| JPH081685B2 JPH081685B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=26557476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29593489A Expired - Lifetime JPH081685B2 (ja) | 1988-11-15 | 1989-11-14 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH081685B2 (ja) |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP29593489A patent/JPH081685B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH081685B2 (ja) | 1996-01-10 |
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