JPH02223583A - オキセタノシン関連化合物、その製造法およびその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明のオキセタノシン関連化合物は抗ウィルス作用を
示し、種々のウィルス性疾患の治療薬などとして期待さ
れる。

〔従来の技術〕

オキセタノシン自体はジャーナル・オフ゛・アンチバイ
オティックス（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｎｔｉｂｉｏ
ｔｉｃｓ　）３９巻、１１号、１６２３−２５（１９８
６）およびＥＰ　　Ａｚ−０１８２３１２等により公知
である。

また誘導体も同ジャーナル４０巻、１２号、１７８８−
９０（１９８７）に報告がなされている。

〔本発明が解決しようとする課題〕

現在ウィルス性疾患に対しては満足のいく治療薬はなく
、新たな抗ウィルス剤の開発が望まれている。

〔課題を解決するための手段〕

そこで発明者らは種々の研究の結果、 一般式 （式中、Ｒ＋、Ｙ及びＢは下記の意味を有する。

（ａｌ　　Ｒｓは−ＣＨ２０Ｈまたは−ＣＨ２０ＣＯ−
（アルキル）ヤ・ または−〇−（Ｒ２は−Ｈ、−ＯＨまたは−ＣＨ２０Ｈ
ル およびＲ３は−Ｈ、−ＯＨ、ハロゲン原子、ＣＨ２０Ｈ
、ハロゲン置換を有してもよい低級アルキル基、−ＣＨ
２−Ｎ３．−Ｎ３．−ＣＯＯＨ。

ＮＮ２　、−　ＣＮ２０　Ｓ　０３　Ｈまたは−ＣＨ２
０ＣＯ−（低級アルキル） （Ｃ）Ｂはプリン塩基残基を示す。

（ｄ）但し、Ｒ３および凡は同時に−ＣＨ２０Ｈを示さ
ないものとする。） で表わされるオキセタノシン関連化合物およびその塩が
抗ウィルス作用を有することを見い出し、本発明を完成
した。

本発明におし・てアルキル基としては例えば代表的なも
のをあげれば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘペチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘプタデシル基、オ
フタテシル基、エイコシル基などのアルキル基があげら
れる。これらのアルキル基は直鎖でもまた枝分れしてい
てもよ（、場合により）・ロゲンなどの置換基を含んで
いてもよい。

本明細書における低級アルキル基としては炭素数１〜６
程度のアルキル基があげられ、直鎖でも、枝分れしてい
てもよい。またハロゲン低級アルキル基としてはハロゲ
ン原子（例えば、フッ素原子、臭素原子、クロル原子な
ど）で置換された低級アルキル基があげられる。

またプリン塩基の残基としては、下記式のプリン骨格の
９位においてオホセタン環に結合しているプリン誘導体
の残基で、例えばアデニン残基、グアニン残基、キサン
チン残基、ヒボキサンチン残基、２，６−ジアミツプリ
ン残基などをあげることができる。

本発明の一般式（Ｉ）の化合物の具体例を示すと第１表
の通りである。

なお表および以後の式中における略号は次の通りである
。

化合物隘 Ｂ 一９＝ 第１表 化合物％ Ｉ 化合物歯 Ｒ＋ ／ 本発明の化合物は次のようにして製造さ扛る。

式（Ｉ−ａ） 〔式中の記号は下記の意味を示す。

（ａ）Ｒ１は−ＣＨ２０ＰＩ　（ＰＩは保護基）または
Ｒ１を示す。Ｒ１は−ＣＨ２０Ｈまたは−ＣＨ２０ＣＯ
（アルキル）を示す。

（ｂ）Ｙ′は−ＣＩ（２０ＰＩ　（ＰＩは保護基）また
はＹを示す。

キル）を示す。

（ｃ）　　Ｂはプリン塩基の残基を示し、官能基は保護
されていてもよい。

（ｃｌ）　　但し、ｍ＋および粕は同時に−ＣＩ−１２
０１−１または−ＣＨ２０ＰＩを示さな℃・。またＲ１
＋昆およびＢのうち少なくとも１つは保護基を有するも
のとする。〕 で表わされる保護オキセタノシン関連化合物およびその
塩から、保護基を除し、式（ＩＩルは−Ｈ，−ＯＨまた
は−ＣＨ２０Ｈを示す。

毘は−Ｃ１（２０ＰＩ　（ＰＩは保護基）または凡を示
す。

ルは−Ｈ，−ＯＨ，ハロゲン原子、−ＣＨｚＯＨ。

ハロゲノ置換を有してもよい低級アルキル基、−ＣＨ２
−Ｎ３　、　Ｎ３．−ＣＯＯＨ、−ＮＩ（２。

ＣＨ２ＯＳＯ３Ｈまたは〜ＣＨ２０ＣＯ−（低級アル〔
式中のＲ１およびＹは前記と同じ意味を示しＢはプリン
塩基を示す。〕 で示されるオキセタノシン関連化合物およびその塩とす
ることにより製造される。

例えば本発明のオキセタノシン関連化合物の代表的化合
物の１つである下記一般式（Ｉｌ（式中、Ｂは前記と同
じ、Ｒ３は−ＨまたはＯＨを示す。）で表わされる化合
物は、例えば下記一般式（Ｔｆ） ある場合の代表的な化合物の製法につき簡単に説明する
。なお下記式において、 （式中、ＰｌおよびＢは前記と同じ） で表わされる保護オキセタノシン関連化合物（Ｂが官能
基を含む場合、保護されていてもよい）から脱保護する
かまたは脱ヒドロキシ化後脱保護することによって得る
ことができる。

上記一般式（ＩＩ）の保護オキセタノシン関連化合物は
オキセタノシンＡ　（ＱｘｅｔａｎｏｃｉｎＡ　）、オ
キセタノシンＨ１オキセタノシンＸ１オキセタノシンＧ
および２−アミンオキセタノシンＡＣジャーナル・オブ
・アンチバイオティックス（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａ
ｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ　）　４０巻、１２号、１７８８
−９０（１９８７）］を化学的手法を用いてその糖部を
変換することにより得ることができる。

次に一般式（ＩＩ）においてＢがアデニン残基（ＡＩで
（式中、Ｐ２は保護基を示す。） で示される基を示す。

■ 化合物陥１ （式中、Ｐｌは前記と同じ、Ｔはチオノカーボネート基
を示す。） 以下各工程を説明する。

第１工程：Ｎ（６１−保護オキセタノシン■の２′ＣＨ
２０Ｈ及び３’ＣＨ２０Ｈの水酸基を何らかの保護基で
選択的に保護する。

化合物■及び■の保護基（式中Ｒ又はＰ２　）としては
ホルミルまたは置換基を有してもよい低級アルキルカル
ボニル（置換基としてはハロゲン原子、低級アルコキシ
、ベンゾイルなど）例えばアセチル、クロロアセチル、
トリクロロアセチル、メトキシアセチル、ピバロイル、
フエノホシアセチル、トリチルオキシアセチルなど、ま
たはベンゾイルなどのアシル基、置換基を有しても良い
低級アルキル基例えば１−ブチル基などの非置換低級ア
ルキル−トリチルｔ　タはモノメトキシトリチルまたは
ジメトキシトリチル、トリメトキシトリチルなどの低級
アルコキシトリチルなどの置換又は非置換トリチル基な
どの置換低級アルキルが挙げられる。

さらには、シリル保護基（各種置換基を有するシリル基
）、例えばトリメチルシリル、←−チトーネ→−へ　ｔ
−ブチルジメチルシリルまたはｔ−ブチルジフェニルシ
リル基などが挙げられる。

上記の保護基を導入するには、公知の方法により行なう
ことができるが、後に保護基を脱離する際に効率より脱
離できる様な保護基を選択するのが好ましい。化合物■
と化合物■はカラムクロマトグラフィーにより分離する
ことができる。

第２工程二木工程は化合物■の２’−ＣＨ２０Ｈの水酸
基をスルホニル化する工程である。スルホニル化剤とし
ては、例えばメタンスルホニルクロリド、ｐ−トルエン
スルフォニルクロリドあるいは２．４．６−ドリイソブ
ロビルベンゼンスルフオニルクロリド等のアルキルまた
はアリルスルフォニルハロゲニドを用いることができる
。

第３丁程：化合物■を塩基で処理することによりオレフ
ィンを生成する工程である。塩基としてはｔ−ブトキシ
カリ等のアルカリ金属低級アルコラードが好ましい。

第４工程：化合物■のオレフィンを過マンガン酸カリウ
ム、過ヨウ素酸ナトリウムにより酸化（Ｌｅｍｉｅｕｘ
−ｖｏｎ　Ｒｕｄｌｏｆｆ酸化）しケトン体を得た後、
金属水素化物により還元することにより２級水酸基を生
成する。金属水素化物としては伝えば水素化ホウ素ナト
リウム、水素化トリメトキシホウ素ナトリウム、シアン
化水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリエトキシアルミ
ニウムリチウムあるいは水素化アルミニウムリチウムな
どを用いることができる。

第５丁程：新たに生成した２級アルコールをチオノカー
ボネートに変換する工程である。チォノカーボネート剤
としてはフェニルクロロカーボッチオネートを用いるこ
とができる。

第６エ程：化合物のをトリブチルチンハイドライドとα
、ｄ−アゾビス−イソブチルニトリルで処理し、チオノ
カーボネート部を除去する工程である。

第７丁程：保護基Ｐ１およびＰ２を除去する工程である
。

オキセタン環に実質的に影響を与えない塩基性化合物が
使用され、使用量は実質的に保護基の脱離反応を起す量
であればよいが通常保護オキセタノシン関連化合物に対
して理論当量以上使用することが好ましい。

反応温度は使用溶媒の沸点までの温度例えば約４０°Ｃ
〜約１５０℃が使用することができ、通常は０〜１００
℃の範囲で行われる。

Ｐｌがシリル保護基（各種置換基を有するシリル基）の
場合には例えば、テトラヒドロフラン中ｎ−テトラブチ
ルアンモニウムフロリドなどのアンモニウム化合物を用
いることができる。

Ｐ２がアシル基の場合にはナトリウムメトキシドなどの
アルカリ金属アルコシトあるいはアンモニア水などを用
いることができる。

一般式（Ｉ）において、Ｂがアデニン残基囚、Ｙれる下
記式 ％式％ また、式（Ｉ）にお℃・て、Ｂがアデニン残基囚、Ｒ１
が−ＣＨ２０ＣＯ−（アルキル）である化合物は下記式
■ 八 で示される化合物から保護基を除去することにより得る
ことができる。

一般式（Ｉｌにおいて、Ｂがアデニン残基（２）、Ｙ■
から保護基を除去することにより得ることができる。

また化合物■から脱保護することにより化合物陥３を、
また化合物■をノ・ロゲン化し、次いで保護基を除去す
ることにより化合物１１１＆１５などの化合物を常法に
よりアシル化し、次℃・でＰｌの保護基を除去すること
により目的化合物を得ることができる。この際Ｐ１の保
護基はアシル基がはずれない条件で除去できる保護基で
あり、例えばシリル保護基が好ましい。

以上式（ＩＩにおいてＢがアデニン残基因である場合に
ついて説明したが、Ｂが他の塩基の残基、伝えばグアニ
ン残基（０、ヒボキサンチン塩基σ手、キサンチン残基
■および２，６−ジアミツプリン残基のときも、それぞ
れ対応する化合物を上記に準じて処理することによって
同様に目的とする化合物を得ることができる。

また式（Ｊ）　において、Ｂがヒボキサンチン塩基であ
る化合物は、上記の方法以外に下記の方法によっても得
ることができる。

即ち、下記式（Ｉ−１５） 〔式中、Ａはアデニン残基、Ｒ１およびＹは前記と同じ
意味を示す。〕 で表わされるオキセタノシン−Ａ　（ＯＸＴ−Ａ）関連
化合物にアデノシンデアミネースを作用させ次式（［−
Ｃ） 甘 アデノシンデアミネースを作用させる温度はこの酵素が
働く温度であれば特に制限はないが、通常約り０℃〜約
５０℃程度であり、好ましくは約１５°Ｃ〜４０°Ｃ程
度である。

反応溶媒は酵素の働きを阻害しないものであれば特に制
限がないが、通常水などの水性溶媒が使用される。反応
は通常バッファー溶液中で中性付近で反応を行うのが好
ましい。

である化合物はそれぞれ対応するケトンまたはアジド化
合物を還元することによっても得ることができる。

即ち、式 〔式中、Ｈはヒボキサンチン残基、Ｒ１およびＹは前記
と同じ意味を示す。〕 で表わされるオキセタノシン−Ｈ（ＯＸＴ−Ｈ）関連化
合物とすることもできる。

〔式中、Ｒ１は−ＣＨ２０Ｈ又は−ＣＩ（２０ＰＩ　（
ＰＩは保Ｈ′ Ｎ３ 保獲されていてもよいプリン塩基の残基を示す。〕で示
されるオキセタノシン関連化合物またはその塩を、不活
性溶媒中で、ｐｂ／黒などを使用する接触還元、水素化
朋素化合物例えば水素化朋素アルカリ金属化合物を用い
る還元などにより式 〔式中、Ｒ′１およびＢは前記と同じ意味を示しで示さ
れるオキセタノシン関連化合物またはその塩を得ること
ができる。

反応温度は通常使用される温度でさしつかえなく、例え
ば約り℃〜溶媒の沸点、好ましくは約５°Ｃ〜約８０°
Ｃ程度で行うことができる。

本発明の化合物は抗ウィルス活性を示しＤＮＡウィルス
または（および）　ＲＮＡウィルスなどのウィルスに対
して抗ウィルス活性を示すので抗ウィルス剤としても期
待される。該ウィルスの例をあげるとＨＩＶ　（Ｈｕｍ
ａｎ　Ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ　ｖｉｒｕｓ
）ヲ含ムレトロウィルス、アデノウィルス、パルボウイ
ルス、パボーバウィルス、ポックスウィルス、ヘルペス
ウィルス、サイトメガロウィルス、Ｂ型肝炎ウィルス、
トガウィルス、アレナウィルス等をあげることができる
。

本発明の化合物において、Ｒ１が−ＣＨ２０Ｉ−Ｉ　、
またバーＣＨ２０ＣＯ−（７ルキシ）、ＹがＣ＝ＣＨ２
ｔ　タハＲ２’ 一〇−で、几が−Ｈ，−ＯＨ，孔が−Ｈ，ハロゲン原子
、凡 ＣＩ（２０Ｈ、−ＣＨ２Ｎ３または−Ｎ３である化合物
は強い抗ウィルス活性を有し好ましい。

これらの化合物において、プリン塩基の残基Ｂがアデニ
ン塩基の残基（５）またはヒポキサンチの化合物又はそ
の塩は、Ｉ−ＨＶウィルスに強い作用を示し、細胞毒な
どの毒性も少ないものである。

またＢがガアニン塩基の残基（Ｇまたは２，６〜ジアミ
ノプリン塩基の残基Ｑ）ｌで、Ｒ３が＝ＣＨ２０ＣＯ−
／ （アルキル）、Ｙが＝ＣＨ（Ｒ２＝Ｈ，Ｒ，＝−ＣＨ２
０Ｈ ＯＨ）である化合物はＢ型肝炎ウィルス、サイトメガロ
ウィルス、ヘルペスシンプノクスナトのウィルスに優れ
た作用を示し好ましい。毒性も少なく、発癌性なども有
しないと思われる。

次に、試験例および実施例を示す。

試験例 抗ＨＩＶ　（Ｈｕｍａｎ　Ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅ
ｎｃｙ　Ｖｉｒｕｓ　）活性２４穴トレーにＭＴ−４細
胞約１０万個／ｍ１入れ、さらに本発明化合物の一定量
を含む溶液１００μ沼を加え、３７℃、５％（ｖ／ｖ）
炭酸ガスフ卵型中にて２時間培養した後、ＨＩＶ　１０
３〜１０’感染単位を加え、４日間培養後、培養液の一
部をスライドグラスに塗抹し、アセトン固定をし、た後
、螢光抗体法にてウィルス抗原の発現をみた。

なお、螢光抗体法の一次抗体にはエイズ患者の血清、二
次抗体にはＦＩＴＣをラベルした抗ヒ）　ＩｇＧを用い
た。

尚、本発明化合物のＭＴ−４細胞に対する細胞変性は、
ウィルスを加えずに行い、顕微鏡下で観察した。

第２表 第２表（続き） 本発明化合物のＨＩＶに対する活性 ■なお本発明化合物はＤＭＳＯに溶解して使用した。Ｄ
ＭＳＯのみでのウィルス抗原の発現は８０〜９０％であ
った。

本発明化合物は上記から明らかなように、Ｉ−Ｉ　Ｉ　
Ｖに対して著し℃・生育阻害作用を有するとともに、細
胞変性は少ないことから抗エイズ治療剤として期待され
る。

抗サイトメガロウィルス活性は人胎児線維芽細胞の単層
を有する３５ｍデイシュ（ｄｉｓｈ）にサイトメガロウ
ィルス（六０１６９株）　］　ＯＯＰＦＵ（Ｐｌａｑｕ
ｅ、Ｆｏｒｍｉｎｇ　ＴＪｎｉｔ）を感染させ、１時間
吸着後、各濃度の本化合物を含む培地〔０５％アガロー
ス（ａｇａｒｏｓｅ　）　、２％牛脂児血清（ｆｅｔａ
ｌ　ｃａｌｆｓｅｒｕｍ）］で重層し、３７°Ｃ１５％
（Ｖ／Ｖ）の炭酸ガスフ卵型中にて１０日間培養した後
プラーク（ｐｌａｑｕｅ）形成を測定し、５０％抑制値
（ＩＣ５Ｇ）を第３表に示した。

第３表　抗サイトメガロウィルス活性 Ｂ型肝炎ウィルス抑制作用 活性Ｂ型肝炎ウィルスを産生放出する培養肝細胞株ＨＢ
６１１　（Ｐｒｏｃ、　Ｎａｔｌ、Ａｃａｄ、　５ｏｉ
−ＵＳＡ　８４（１９８７）、Ｉ）４４．４）を］）ｕ
ｌｂｅｃｃｏに従いｍｏｄｉｆｉｅｄＥａｇｌｅ培地（
ＧＩＢＣＯ）中にて１０％子牛脂児血清、２００　μｇ
／ｒｒＬｌ！Ｇ４１８、ペニシリンおよびストレプトマ
イシン（各１００　ｕ／ｍｌ）存在下に３７°Ｃ１５％
ＣＯ２を用いて培養する。６穴プレートに５×１０’ｃ
ｅｌｌ／穴（３５ｍｍ）となるよう接押し、１〜２日後
５０％コンフルエントとなったところで本化合物の一定
量を加えて培養、以降３日毎に同じ濃度に薬剤を含む培
地と交換しつつ１５日間培養を続げた後、培地を除去。

細胞をＱ、　５　ｍｌＪのりシスバッハ−（Ｌｙｓｉｓ
ｂｕｆｆｅｒ　）　　（１０ｍＭ　ＴｒｉｓＨｃＩ　ｐ
Ｈ７，８１５ｍＭ　Ｎａ２ＥＤＴＡ、　１％ＳＤ　Ｓ　
／　０．１　ｍｇ　／　ｍ１Ｐｒｏｎａｓｅ　Ｋ　）に
て３７°Ｃ１ｈｒ処理して溶解し、得られたＯＮＡをＲ
Ｎ　ａ　ｓｅ　処’ｆｌＡ　、フェノール・クロロホル
ム処理エタノール沈澱法により純化した。

次いで５μｇ　ＤＮＡをＨｉｎｄｌｌＪ処理し、ザザン
法によって３２Ｐ−標識Ｂ型肝炎ウィルスＤＮＡをグロ
ーブとしてＤＮＡのパターンを分析した。

次に本発明化合物の合成法、性状を実施例により具体的
に示す。

これらの実施例で得られた化合物の性状を示ず記号のう
ちＮＭＲは核磁気共鳴スペクトルを、ＭＳは質量分析ス
ペクトル］Ｒは赤外吸収スペクトルを意味する。

実施例１（化合物置１の合成） １−１（化合物■および■の合成） Ｎ（６）−ベンゾイル−９−（２−デオキシ−２−ヒド
ロキシメチル−β−Ｄ−エリネロオキセタニル）アデニ
ン（化合物■）　（Ｐ２＝ＣＯＣ６Ｈ，、）１２３ｍｇ
の無水ジメチルホルムアミド（１ｍｌ　）溶液中に、イ
ミダゾール７０ｍｇさらにｔｅｒｔ−フチルジメチルシ
リルクロリド６０１１１ｇの無水ジメチルホルムアミド
（２ｍｌ）溶液を加え、室温で２時間撹拌する。減圧下
、溶媒を留去し、残渣ニ水（２０ｍｌ　）を加え、クロ
ロホルムで抽出スる。クロロホルム抽出液を飽和食塩水
で洗浄し無水硫酸マグネシウムで乾燥する。

硫酸マグネシウムを戸去し、減圧下溶媒を留去して淡黄
色シロップを得る。このものをシリカゲル２０ｇのカラ
ムに付し、クロロホルム−メタノール（２０：１）で溶
出する。シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒；クロロホルム−
メタノール（１０：１）〕でＲｆ　０．４６付近のフラ
クション集め、減圧下溶媒を留去し、化合物■（Ｐ２−
ＣＯＣ６Ｉ−Ｉ５．　Ｐ＋＝＋Ｓｉ　）　４９．６１１
１ｇ　（３０，６％）を得る。

又、ＲｆＯ，６０付近のフラクションを集め、減圧下溶
媒を留去し、化合物■（Ｐ２＝　Ｃ０Ｃ６Ｈ５、Ｐ。

＋Ｓｉ　）　２５．３１１１ｇ（１６，０％）を得る。

化合物■：　ＭＳ　ｍ／ｚ　：　４７０　（Ｍ＋Ｈ）　
　、　ＮＭＲ（４００Ｍ）ＩＺ、　ＣＤＣ４３，ＴＭＳ
　）　　　：　９．２３　（１Ｂ、　ｓ。

９９ｍ ＮＨ）、８．７８（ＩＨ，ｓ、８−Ｈ）、８．６８（Ｉ
Ｈ，ｓ。

２−Ｈ）、　ｓ、ｏ　３　（２Ｉ−１，ｄ、　Ｊ＝７．
５Ｈｚ、　Ｐｈ　）。

８．５０−８．６３　（３Ｈ，ＩＴｌ、　　Ｐｈ　）、
　　６．６０　（ＩＨ，ｄ、　　ＪＯＡｉ−１−）、　
３．８１　（］　Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝　１１．７　Ｈｚ、
　２．８　Ｈｚ）。

Ｉ」 ３．５８−３．７２　（２Ｈ，ｍ、　２’−１−Ｌ　２
’−宮−ＯＨ）。

０．９２　（９Ｉ−１，ｓ、　−８ｉ十）、　　０．１
０　（３Ｉ（、ｓ、　−８ｉ　十）。

０．１２　（３Ｈ，ｓ、　　−ゐ１＋）化合物■：　Ｍ
Ｓ　ｍ／ｚ　：　４７０　（Ｍ−ｔ−Ｈ）　　、　ＮＭ
Ｒ（４００ＨＨｚ、　ＣＤＣｔ３．　ＴＭＳ　）　　　
　　’　　９．３４（１１（，５゜ｐｐｍ　’ ＮＨ）、　　８．７９　（ＩＨ，ｓ、　　８−Ｉ−１）
、　　８．３４　（ｌｌ−１，ｓ。

２−Ｈ）、　　８．３５　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝７．５
　Ｈｚ、　ｐＨ）。

７．４．８〜７．６３　（３Ｈ，ｍ、　　Ｐｈ　）、　
　６．５０　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５．７　Ｈｚ、　　１’−Ｈ）、　　５．５０　（
１，Ｈ，ｂｒｏａｄ　　ｓ、　　−０１−１）。

４．０４　（２Ｂ、　ｍ、　　３’−ＣＩＩ２０Ｈ）、
　　３．６７〜３．８７　（３Ｈ。

ｍ、　２’−Ｈ，’　２’−ＣＨ２０Ｈ）、　０．９１
　（９Ｈ，ｓ、　−８ｉ−１−）。

０．１０（６Ｈ，Ｓ、−糺十） １−２（化合物■の合成） 水冷撹拌下、化合物■（Ｐ２＝ＣＯＣ６Ｈ５，ｐ、−＋
＆；）６１．７１１１ｇの無水ピリジン（３ｍｌ）溶液
中にメタンスルホニルクロリド（＋３．２ｍ）を加え、
室温で２時間撹拌する。

反応液を、減圧下溶媒を留去し、残渣に水（１０ｍｌ　
）を加え、クロロホルム（１０ｍｌ）で２回抽出する。

クロロホルム抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。

硫酸ナトリウムを戸去し、減圧下溶媒を留去し無色のシ
ロップを得る。このものをシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（２０ｍ１１クロロホルム−メタノール５０：
１）により分離する。

シリカゲルＴＬＣＣ展開溶媒；クロロホルム−メタノー
ル（２０：１）］でＲｆ０．５０付近のフラクションを
集め、減圧下溶媒を留去し化合物■の無色粉末６１．３
ｍｇ（８５，５％）を得る。

化合物■：　ＮＭＲ（６０ＭＩ−１ｚ、　ＣＤα３＋　
ＴＭＳ　）　ｐｐｍ　’９．３　１　　（ＩＨ，ｓ、　
　　ＮＨ）、　　　８．６５　　（ＩＨ，ｓ、　　　８
−Ｈ）。

８．５３　（ＬＨ，ｓ、　２−Ｈ）、　７．７６〜８．
１−０　（２Ｈ，ｍ。

Ｐｈ）、　７．３０〜７．６１　（３Ｈ，ｍ、　Ｐｈ）
、　６．５３　（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝６．０Ｉ（ｚ、　１’−Ｈ）、　４．３８−
４．８３　（３Ｈ，ｍ。

３’−Ｈ，２’−ＣＨ２）、　３．５３〜４．２０　（
３Ｂ、　ｍ、　２’−Ｈ。

（９Ｈ，Ｓ、　　−３ｉ＋）、　　０．１３（６Ｈ，ｓ
、　−８ｉ＋）１−３（化合物■の合成） 水冷撹拌下、化合物■（Ｐ２−ｃｏｃ６Ｉ］５．Ｐｌ−
十ｓＩ）４８４１１１ｇの無水テトラヒドロフラン溶液
（１０ｍｌ　）にカリウムｔｅ、−ｔ−ブトキシド３３
０ｍｇの無水テトラヒドロフラン溶液（ｉｏｍｔ）を加
え、室温で２時間撹拌する。水冷下、反応液に酢酸０、
４　ｍｌを加え、減圧下溶媒を留去し、残直に水（５０
ｍｌ　）を加え、りａｏホルム（５０ｍＩ）で２回抽出
する。クロロホルム抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。

硫酸ナトリウムを炉去し、減圧下溶媒を留去し淡黄色の
シロップを得る。このものをシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（６０ｍｌ、クロロホルム−メタノール５０
　：　１　）により分離する。

シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒；クロロホルム−メタノ−
／Ｌ、（２０：　１　）　〕でＩＩｆｏ、７９付近（７
）７７クシヨンを集め、減圧下溶媒を留去し化合物■の
無色粉末３０９．４ｍｇ（７７，６％）を得る。

化合物■：　ＭＳ　ｍ／ｚ　：　４５０　（Ｍ−Ｈ）＋
；　ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、　ＣＤＣｌ２．　ＴＭＳ　
）　ｐｐｍ　’　９゜２７（ＩＩ（、Ｓ。

ＮＨ）、　　８．１２（ＩＨ，ｓ、　　８−Ｈ）、　　
８．６８（ＩＨ，Ｓ。

２−Ｉ（）、　　８．２２　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝８．
０Ｈｚ、　ｐｈ　）。

７．４８〜７．６３（３Ｈ，ｍ、　　Ｐｈ　）、　　７
．１５　（ＩＨ，Ｓ。

１’−Ｉ−１）、　５．２５〜５．３６　（３Ｈ，ｍ、
　２’−ＣＨ２＝、　３’−Ｈ）。

３．９６〜４１０　（２１−１，ｍ、　　３’　　ＣＨ
２）、　　０．９２　（９Ｈ，ｓ。

Ｓｉ　＋　）、　　０．１３　（６１−１，ｓ、　−８
ｉ　＋　）１−４（化合物■の合成） 水冷撹拌下、窒素気流中で化合物■（Ｐ２＝ＣＯＣ６Ｉ
−１５，Ｐ＋−＋Ｓｉ　）　４００　”ｇの７セトｙ　
（４ｍｌ　）溶■ 液に過ヨウ素酸ナトリウム５８０■のアセトン（３，５
ｍ１）−水（３，５ｍ１）の溶液、過マンガン酸カリウ
ム８４■の水（４ｍｌ　）溶液を加え、室温で２時間撹
拌する。

水冷下、亜硫酸ナトリウム溶液を加えて過剰の過マンガ
ン酸カリウムを分解する。反応液にアセトン（３０ｍｌ
、　）を加え、沈澱物をこし別けた液を減圧下に濃縮し
てアセトンを留去する。残った水溶液に水（６０ｍｌ）
を加えクロロホルム（５０ｍｌ）で３回抽出する。

クロロホルム抽出液は飽和食塩水で洗剰し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。硫酸ナトリウムを戸去し、減圧下
溶媒を留去し、薄茶色のシロップ３６０■（化合物■）
を得る。氷冷下このもの３６ＯＮのメタノール溶液（２
０ｍｌ）に水素化ホウ素ナトリウム２８ｒｒｒｇを加え
、室温で３０分間撹拌する。反応液に酢酸０．０５　ｍ
ｌを加えた後減圧乾固する。残渣に水（３０ｍｌ）を加
え、クロロホルム（３０ｍｌ　）で３回抽出する。

クロロホルム抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。硫酸ナトリウムを戸去し減圧下溶
媒を留去する。

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ＝（５０ｍｌ
、クロロホルム−メタノール２０：１）により分離する
。シリカゲルＴＬＣＣ展開溶媒：クロロホルム−メタノ
ール（２０：１））でＲｆＯ１５３付近のフラクション
を集め、減圧下溶媒を留去し化合物■の無色粉末２３６
１Ｑ；（６５，６％）を得る。

化合物■：　ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、　ＣＤＣ１ｚ、　
ＴＭＳ　）　ｐｐｍ　：９．１２　（１，Ｈ，ｓ、　Ｎ
Ｈ）、　８．７６　（ＬＨ，ｓ、　８−Ｈ）。

８．５６（ＩＨ，ｓ、　　２−Ｈ）、　　８．３０（２
Ｈ，ｄ、　　Ｊ８．１　Ｈｚ、　Ｐｈ　）、　　７．４
８〜７．６７　（３Ｈ，ｍ、　　Ｐｈ　）。

６．７２　（］　Ｉ−１，ｄ、　　Ｊ＝４．８　Ｈｚ、
　　］、’−Ｉ（）、　　５．１．３〜５．２７（２Ｉ
−Ｌ　ｍ、　　２’−Ｈ，２’−ＯＨ）、　　４．９８
　（ＩＨ，ｍ。

３’−Ｈ）、　　４１７〜４．３０　（２Ｈ，ｍ、　　
３’−ＣＨ２）。

０．９３　（９Ｈ，ｓ、　−８ｉ＋）、　　０．１７　
（６Ｈ，ｓ、　−８ｉ十）１−５（化合物■の合成） 水冷撹拌下、窒素気流中で化合物■（Ｐ２＝ＣＯＱＨｓ
、　Ｐ＋−＋Ｓｉ　）　５０■の無水アセトニトリル溶
液（３ｍｌ、　）に４−ジメチルアミノピリジン５３■
フエニルクロロカーボツチオネート６３紹を加え、室温
で１８時間撹拌する。減圧下、溶媒を留去し、残渣に水
（１０ｍｌ）を加え、クロロホルム（１０ｍｌ）で３回
抽出する。クロロホルム抽出液を飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥する。硫酸ナトリウムを戸去
し、減圧下溶媒を留去し、シロップを得る。このものを
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（２Ｑｍ１．、ク
ロロホルム−メタノール５０：１）により分離する。

シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒；クロロホルム−メタノー
ル（２０：１）〕でＲｆＯ，５６付近のフラクションを
集め、減圧下溶媒を留去し、化合物■の無色粉末５３．
８ｍｇ（８２，７％）を得る。

化合物■：　ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、　ＣＤαａ、　ＴＭ
Ｓ　）　ｐｐｍ　’９．０４　（ＩＨ，ｓ、　ＮＨ）、
　８．６７　（ＬＨ，ｓ、　８−Ｈ）。

８．５６　（ＩＨ，ｓ、　２−Ｈ）、　７．８５〜８．
１７　（２Ｈ，ｍ。

６．１７（ＩＨ，ｍ、　　２’−Ｈ）、　　５．１４（
ＩＨ，ｍ、　　３’−Ｈ）。

４．１７　（２Ｈ，ｍ、　　３’−ＣＨｚ）、　　０．
９３　（９Ｈ，ｓ、　−８ｉ＋）。

０．１７　（６Ｈ，ｓ、　　−８ｉ　＋　）ｌ−６（化
合物置１の合成）（化合物■の合成を含む）窒素気流下
、化合物■（Ｐ２　＝ＣＯＣ６Ｈｓ　、　Ｒ−＋　Ｓ　
ｉ　）９０■の無水アセトニトリル（３ｍｌ）溶液にト
リブチルチンハイドライド］　３５１Ｊ、ｌ　、触媒量
のα、ｄ−アゾビスインブチロニトリルを加え、９０℃
で２時間撹拌する。減圧下、溶媒を留去しシロップを得
る。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
５ｏｍ■、クロロホルム−メタノール５０：Ｉ）により
分離する。シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒；クロロホルム
−メタノール（２０：１）］でＲｆＯ，５２付近のフラ
クションを集め、減圧下溶媒を留去し無色シロップの粗
化合物■５８１Ｔ１ｇを得る。

脱保護：粗化合物■（５８ｍｇ）のテトラヒドロフラン
（３，５ｍｔ）溶液にテトラプチルアンモーウムフロリ
ドのテトラヒドロフラン溶液（０，３ｍｌ、１．０５Ｍ
）を加え、室温で１時間撹拌する。反応液を減圧下溶媒
を留去し、残渣にメタノ−／ｌ／　（２ｍｌ、　）、濃
アンモニア水（４ｍｌ）を加え６０′℃で１時間撹拌す
る。反応液を減圧下溶媒を留去し、残渣をメタノール（
３ｍｌ　）に溶かし、シリカゲル２００１Ｔ１ｇを加え
減圧下溶媒を留去する。このものをクロロホルム−メタ
ノール（８：１）で平衡化したシリカゲルカラム（２５
ｍｌ　）に積層し、クロロホルム−メタノール（８：１
．４：１）で溶出する。シリカゲルＴＬＣ〔展開溶媒；
クロロホルム−メタノール（４：１））でＲｆｏ、４４
付近のフラクションを集め減圧下浴媒を留去する。

残渣を８０％含水メタノールに溶かし、同溶媒で平衡化
した５ｅｐｈａｄｅｘ’　ＬＨ−２０（１００ｍｌ　）
カラムクロマトグラフィーにより分離する。前記シリカ
ゲルＴＬＣにてＲｆｏ、４４付近のフラクションを集め
減圧下溶媒を留去し化合物置１の無色粉末５．６ｍｇ（
１７，２％）を得る。

化合物１１！ｌＬ１：ＭＳ必：　２２１　（Ｍ”）　：
　ＮＭＲ（４００ＭＨｚ。

Ｄ２０）ｐｐｍ　：　８．８４　（ＬＨ，Ｓ、　８’Ｈ
）、　８．０７　（ＩＨ，Ｓ、　２Ｈ）、　６．５８　
（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ　＝７．０Ｉ（ｚ、　Ｊ　＝７．０
Ｉ（ｚ、　１−Ｉ−Ｉ）。

４．９３　（ＩＨ，ｍ、　３’−Ｈ）、　３．６８〜３
．８６　（２Ｈ，ｍ、　３／ＣＨ２０Ｈ）、　　３．１
２〜３．３３（２Ｈ，ｍ、　２’−ＣＨ２）実施例２．
（化合物Ｍ２の合成） 窒素気流下化合物■（Ｐ２＝ＣＯＣ６Ｈ５，Ｐ＋”＝＋
Ｓｉ　）５６ｍｇの無水ジメチルホルムアミド（ｘｍｌ
）溶液に窒化ナトリウム１７［１１ｇを加え、１００℃
で２０分間撹拌する。反応液の溶媒を減圧下留去し、残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（２０ｍｌ、
クロロホルム−メタノール５ｏ：１）により分離する。

シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒；クロロホルム−メタノー
ル（２０：１）］でＲｆ０．６８付近のフラクションを
集め減圧下溶媒を留去する。残渣を実施例Ｊの１−６と
同様に（Ｐ２”＝Ｃ０Ｃ６Ｈ５，ＰＩ””　＋Ｓｌ　）
脱保護して化合物Ｎ２の無色粉末１．９．８１１１ｇ　
（６９，７％）を得る。

化合物Ｎｎ２　：　ＭＳｍ／ｚ　：　２７６　（Ｍ　）
　：　ＩＲνＫＢ’ｃｍ−’：ａＸ ３１００〜３６００．２１００．１６９０．１６２０；
ＮＭＲ（６０Ｍｌ−１ｚ、　　ＣＤ３０Ｄ、　　　ＴＭ
Ｓ　　）ｐｐｍ　　：　　８．５　７　　（Ｉ　　Ｈ。

ｓ、　８−Ｉ−１）、　８．１５　（ＩＨ，ｓ、　２−
Ｈ）、　６．４０　（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝５．８２Ｉ（ｚ、　］’−Ｈ）、　４．６０
　（Ｉ　Ｈ，ｍ、　３’−Ｈ）。

３．５０〜３．９２（５Ｉ−Ｌｍ） 実施例３（化合物置３の合成） 化合物■（Ｐ２二Ｃ０Ｃ６’Ｈ５，Ｐに十５ｉ）２４■
を実施例］の１−６と同様に脱保護して化合物％３の無
色粉末９．４．１１Ｗ　（Ｂ　Ｏ，０％）を得る。

化合物％　３：　ＭＳ　ｍｌｚ　：　２３８　（Ｍ＋Ｉ
−Ｉ）　：　ＮＭＲ（４００Ｍｌ−１ｚ、　ＤｚＯ）ｐ
ｐｍ’８．５３　（ＩＨ，ｓ、　８−１−１）。

８．１５（ＩＨ土　　ｓ、２−Ｂ）、６．７　８　　（
Ｉ　　Ｈ，ｄ、　　　Ｊ＝５．２Ｈｚ、　］’−Ｈ）、
　５．２１　（Ｉ　Ｈ，ｍ、　２’−１（）、　５．０
７　（ＩＨ。

ｍ、　　　３’　　　Ｊ（）、　　　３．９　３〜４．
０　８　　（２Ｊ（、ｍ、　　　３’　　　ＣＪ−Ｊｚ
ＯＩ−Ｄ実施例４（化合知歯４の合成） 化合物■（Ｐ２−ＣＯＣ６Ｈ５，Ｐ＞　＝　＋　Ｓ＋　
）　３８　”ｇ　ヲ実施例１の１−６と同様に脱保護し
て化合物％４の無色粉末１８．５ｍｇ（９４％）を得る
。

化合物Ｎａ４　：　ＭＳ　ｍｌｚ　：　２３３　（Ｍ′
）：ＮＭＲ（６０ＭＨ２，ＣＤ３０Ｄ、　　　ＴＭＳ　
　）ｐｐｍ　　：　　８．７　３　　（Ｉ　　Ｈ，ｓ、
　　　８−ト１　）。

８．３３（ＩＨ，ｓ、　　　２−Ｈ）、　　　７．２０
（］、Ｉ−１，ｓ、　　　］’−Ｔ（）。

５．５０　（２Ｈ，ｂｒｏａｄ、　２’−ＣＨ２＝　）
、　３．９０〜４．３０（３Ｈ，ｍ、　３／−Ｈ，３’
−ＣＨｚＯＨ）実施例５（化合物Ｎｃｔ５の合成） ３０℃冷却撹拌下、窒素気流中で化合物■（Ｐ２＝ＣＯ
Ｃ，ｌ−１５，Ｐ＋＝＋Ｓｉ　）　１０１１１１ｇの無
水ジクロロメタン（４ｍｌ）溶液にジエチルアミンサル
ファトリフロリド１６０μｋを加え４時間撹拌する。反
応液にクロロホルム１０ｍ１、濃アンモニア水０、２　
ｍｌを加え、減圧下溶媒を留去し、残渣に水（１０１７
１１）を力ｎえ、クロロホルム（］００ｍ１で３回抽出
する。クロロホルム抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。

硫酸ナトリウムを炉去し、減圧下溶媒を留去しシロップ
を得る。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（２５ｍｌ、クロロホルムメタノール４０：１）によ
り分離する。シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒；クロロホル
ム−メタノール（１０：］）］でＲｆ０．７１付近のフ
ラクションを集め減圧下溶媒を留去し残渣７１ｍｇを得
る。

このものを実施例１の１−６と同様に脱保護して化合物
Ｎｌ１１５の無色粉末９．４ｍｇ（１７，３％）を得る
。

化合物１’ｈ５　：　ＭＳｍ／ｚ：２５３（Ｍ＋）；Ｎ
ＭＲ（４００ＭＨｚ、　　ＤｚＯ）ｐｐｍ：　　８−５
４（ＩＨ，ｓ、　８−Ｈ）。

８．１７　（ＩＨ，ｓ、　　２−Ｈ）、　　６．５８　
（１Ｈ，ｄ、　　Ｊ６．３０Ｉ−Ｊｚ、　Ｉ’　　Ｈ）
、　　４−．９８　（］　Ｊ（、ｍ、　　３’〜Ｉ−１
）。

４．６３〜４．８０　（２Ｈ，ｍ、　−２’−ＣＩ−１
２０Ｈ）、　　３．７９〜４、．０６　（３Ｈ，ｍ、　
２’　　Ｈ，２’　　ＣＨ２０Ｈ）実施例６（化合物Ｎ
［１６の合成） 水冷撹拌下、窒素気流中化合物■（Ｐ２＝ＣＯＣ６Ｉ（
５，Ｐ］＝＋ＳＩ　）　１１４　ｍｇ、ジメチルアミノ
ピリジン８８ｍｇの無水アセトニトリル（２ｍｌ）溶液
にフェニルクロロチオノカーボネート６７μｐを加え室
温で３時間撹拌する。反応液にメタノール０、５　ｍｌ
を加えた後、減圧下溶媒を留去し、残渣に水（］００ｍ
１を加え、クロロホルム（１０ｍｌ）で３回抽出する。

クロロホルム抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。硫酸ナトリウムを炉去し、減圧下
溶媒を留去し、シロップを得る。このものをシリカゲル
カラムクロマトグライーイー（２０ｍｌ、クロロホルム
−メタノール４０：Ｉ）により分離する。シリカゲルＴ
ＬＣ〔展開溶媒；クロロホルム−メタノール（２゜：１
）〕でＩＮ　０．７３付近のフラクションを集め減圧上
溶媒を留去し残渣７８．７１１１ｇを得る。窒素気流中
、このもの（７８，７ｍｇ）の無水トルエン（３ｍｌ、
　）溶液にトリブチルチンハイドライド１１０紹、触媒
量のα、α′−アゾビスイソブチロニトリルを加え８５
°Ｃで４５分間撹拌する。

減圧下、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグライー（４０ｍｌ、クロロホルムメタノール４０：
１）により分離する。

シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒；クロロホルム−メタノー
ル（２０：１）ｌ：ｌでＲｆ　０．５９付近のフラクシ
ョンを集め減圧上溶媒を留去しシロップ４７ｍｇを得る
。このものを実施例１の１−６と同様に脱保護して化合
知歯６の無色粉末９．３■（１６７％）を得る。

化合物Ｎ［１６：　ＭＳ　ｍ／ｚ　：　２３５　（Ｍ＋
）　：ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、　ＤｚＯ）ｐｐｍ　：　
８．５８　（Ｉ　Ｈ，ｓ、　　８−Ｊ−Ｊ　）、　８．
１３（ＩＨ，ｓ、　　　２−Ｈ）、　　　６．２４　　
（］　　Ｉ−Ｌ　　　ｄ、　　　Ｊ＝６．３　６Ｈｚ。

１’−Ｈ）、　４．５３　（ＩＨ，ｍ、　３’−１（）
、　３．７４〜３．８６（２Ｈ，ｍ、　３／−ＣＩ−１
２０Ｈ）、　３．６０　（］　ＩＨｍ、　２’−１−１
）１、３０　（３Ｈ，ｄ、　−ＣＨ５） 実施例７（化合物洩７の合成） ラヒドロフラン（２ｍｌ）、水（１ｍｌ、　）の溶液に
１％四酸化オスミウム水溶液０．２　ｍｌ、過ヨウ素ナ
トリウム６０ｍｇを加え室温で１７時間撹拌する。反応
液に水（１０ｒｎｉ）を加え、クロロホルム（１０ｍｌ
）で３回抽出する。

クロロホルム抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥する。硫酸ナトリウムを渥去し、減圧上
溶媒を留去しシロップを得る。

このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィ（２ｏｍ
ｉ、クロロホルム−メタノール２ｏ：１）により分離す
る。

シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒；クロロホルム−メタノー
ル（２０：］））でＲｆ０．１３付近のフラクションを
集め減圧上溶媒を留去し残渣３５ｍｇを得る。このもの
を実施例１の１−６と同様に脱保護し化合知歯７の無色
粉末１７．８１７１ｇ（７２，４％）を得る。

化合物Ｎ［１７：　ＭＳ　ｍ／ｚ　：　２６８　（Ｍ＋
Ｈ）＋ｒ　ＮＭＲ（４００ＭＩ（ｚ。

Ｊ）２０．５０℃）　　　’　　８．７４　（ＩＩ−１
，ｓ、　８−Ｈ）。

ｐｐｍ　’ ８．５２（ＩＨ，ｓ、　　２−Ｈ）、　　６．８３（Ｉ
Ｈ，ｓ、　　１’−Ｈ）。

５．１４　（］、ＩＨｔ、　　Ｊ＝４．８Ｈｚ、　３’
　−Ｈ）、　　４．３２　（２Ｈ。

ｄ、　Ｊ＝４．８ｉ（ｚ、　３’−（Ｊ−１２０１−１
）、　３．９９〜４．１３　（２Ｈ。

ｄ　ｘ　２．　　Ｊ＝　１２．０　Ｈｚ、　２’−ＣＨ
２０Ｈ）実施例８（化合物１１！１８の合成） クロマトクラフィー（２０ｍＬ、クロロホルム−メタノ
ール５０：１）により分離し、化合物■（Ｐ２−Ｈ，Ｒ
−モＳｉ　）の３′水酸基がバレリル化された化合物を
シロップとして得る。実施例１の１−６と同様にＰｌを
脱保護して化合知歯８の無色粉末２１．４■（６５，８
％）を得る。

化合物１’ｈ８　：　ＭＳｍ／ｚ　：３３５（Ｍ　）　
：ＮＭＲ（６０ＭＨ２，ＣＤ３０Ｄ、　ＴＭＳ　＞ｐｐ
ｍ　＋　８．４３　（Ｉ　Ｉ−１，ｓ、　８−Ｉ（）。

８．２０　（ＩＨ，ｓ、　２−Ｈ）、　６．５０　（Ｉ
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．２Ｈｚ、　１’−Ｈ）、　４．４８
　（２Ｈ，ｍ、　３’−ＣＨ２０Ｈ）。

３．６２〜４．ＯＯ（３Ｈ，ｍ、　３’−Ｉ−１，３’
−ＣＩ（２０Ｉ−］）。

０７０〜２．７０（９Ｈ，０−Ｃ−ＣＨ２−ＣＨ２ＣＨ
ｚ−ＣＩ（ａ）実施例９（化合物崗９の合成） 化合物■（Ｐ２＝Ｈ，ＰＩ　＝＋　Ｓｉ　）　３７．７
１Ｔ１ｇの無水ピリジン（２ｍｌ）溶液にバレリルクロ
リド４５紹を加え、室温で１８時間撹拌する。反応液の
溶媒を減圧下留去する。残渣をシリカゲルカラム化合物
■（Ｐ２−Ｈ，Ｐ＋　＝＋　Ｓｌ　）　１６．２１１１
ｇの無水ピリジン（２ｍｌ）の溶液にパルミチルクロリ
ド３ＯＮ３を加え室温で撹拌する。

以後、実施例８と同様に処理し化合物へ０９を１４■（
６９，６％）を得る。

化合物ＮＱ　９　：　ＭＳｍ／′ｚ　：４９０（Ｍ＋Ｈ
）　：ＮＭＲ（６０ＭＨ２，ＣＤ、○Ｄ＋ｃＤｃｚ３．
ＴＭＳ　　）ｐｐｍ　　：　　＆６　０（１１−１，ｓ
、　８−Ｊ−Ｊ）、　７．９８（ＩＨ，Ｓ、　２−Ｈ）
。

６．６　６　　（］　　ＩＨｄ、　　　Ｊ＝５．４　　
）？ｚ、　　］］’−１−１　）、　　　４．６　０〜
４．７２　（２Ｂ、　ｍ、　３’−ＣＨ２０Ｈ）、　３
．９５〜４．１５（３Ｈ，ｍ、　３’　Ｈ，３’　ＣＨ
２０Ｉ（）、　１．０５〜２．６０実施例ｉ。

（化合物猶１０の合成） ■ （１）化合物ｄの合成 化合物■３６．６ｒｒ＠の無水ジクロロメタン（１ｍｌ
　）溶液中にジメチルアミノピリジン９．８　ｍｇ、ト
リエチルアミン２２．２μｔ、トリフロロメタンスルホ
ニルクロリド１７μｔを加え、室温で１時間撹拌する。

減圧下、溶媒を留去し、残渣を得る。

このものをシリカゲル７ｇのカラムに付し、クロロホル
ム−メタノール（２５：１）で溶出スる。シリカゲルＴ
ＬＣ［展開溶媒；クロロホルム−メタノール（１０：１
））でＲｆ　０．６６付近のフラクションを集め、減圧
下溶媒を留去し、化合物■３４．　ｌ１１ｇを得る（収
率７２４％）。

（２）　　化合物ｄ′の合成 ７８℃冷却下、窒素気流中で化合物■３４■の無水ジク
ロロメタン（１ｍｌ　）溶液にトリス（ジメチルアミン
）サルファジフロロトリメチルシリケート８０ｍｇの無
水ジクロロメタン溶液（０，５ｍ１）を加え２５時間撹
拌する。反応液に水（３ｍｌ　）を加えクロロホルム（
５ｍｌ）で３回抽出する。有機溶媒層を飽和食塩で洗浄
した後無水硫酸ナトリウムで乾燥する。硫酸ナトリウム
を炉去し、減圧下溶媒を留去し、シロップを得る。この
ものをシリカゲル薄層クロマトグラフィーＣＭＥＲＣＫ
社、ａｒｔ、５７４４．２枚、クロ０ホルム−メタノー
ル（１０：１）］により分離する。Ｒｆ　Ｏ，３５付近
を分取し、グラスフィルターを用いクロロホルム−メタ
ノ−＃（５：１）で溶出する。溶出液を減圧下濃縮乾固
し化合物■２．８■を得る。

化合物■：　ＮＭＲ（４００ＭＨ２，ＣＤＣ２３，ＴＭ
Ｓ　）ｐｐｍ　：９．０９　（ＩＨ，ｂｒ、ｓ、　ＮＨ
）、　８．８３　（ＩＨ，Ｓ、　８Ｈ）、８．２２（Ｉ
Ｈ，３，２−Ｈ）、８．０４（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝８．２Ｈｚ、　ｐｈ　）、　７．５２〜７．６７　
（３Ｈ，ｍ、　ｐｈ　）。

６．５０　（ＩＨ，ｃｌｄ、　Ｊ＝４．８Ｈｚ、　１２
．８Ｈｚ、　１’−Ｈ）。

６．１７〜６．３６　（ＬＨ，ｍ、　２’−Ｈ）、　４
．９０（ＩＰＩ。

ｍ、　３’−Ｈ）、　３．９６〜４．２８　（２Ｈ，ｍ
　）（３）化合物ＮＣＬＩＯの合成 化合物■２．８ｍｇをメタノール（１，５ｍ１）−濃ア
ンモニア水（１，５ｍ１）の混液に溶がし５０’（：。

で２５時間撹拌する。反応液を減圧下濃縮乾固し、残渣
を８０％含水メタノールに溶がし、同■ 溶媒で平衡化した５ｅｐｈａｄｅｘ　ＬＨ−２０（１０
０ｍｌ　）カラムクロマトグラフィーにより分離する。

シリカゲルＴＬＣ〔クロロホルム−メタノール（５：１
）〕でＴ（ｆｏ、５付近のフラクションを集め減圧下溶
媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー〔２０ｍ１、クロロホルム−メタノール（１０：１）
：）により分離し化合物Ｍ１０（１゜Ｏｍｇ）を得る。

化合物Ｎａ　］、　Ｏ：　ＮＭＲ（４，ＯＯＭＨ２，Ｄ
２０）ｐＴ）ｍ　：８．３９　（ＬＨ，ｓ、　８−Ｈ）
、　８．１９　（ＩＨ，Ｓ、　２Ｈ）、　６．６４　（
ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝４．４Ｈｚ、　１３．５Ｈ２゜１’
−Ｉ−Ｉ　）、　５．８８〜６．０７　（Ｉ　Ｈ，ｍ、
　２’−Ｈ）。

４．８８〜４．９７　（ＩＨ，、ｍ、　３’−Ｈ）、　
３．９２〜３．９６（２Ｈ，ｍ、　３’　ＣＨ２０Ｈ） 実施例１１．（化合物丈１１の合成） 媒を留去し、残渣を得る。

このものを実施例１の１−’６と同様に脱保護し化合物
丈１１の無色粉末１０．７１１１ｇを得る（収率７５．
７％）。

化合物１’ｈ　１１　：　ＮＭＲ（４００Ｍｉ（ｚ、　
ＣＤ３０Ｄ、ＴＭＳ　）ｐｐｍ：８．５３　（ＩＨ，ｓ
、　８−Ｈ）、　８．２３　（ｌｌ−１，ｓ、　２−１
−Ｉ）。

６．４０　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝５．ＩＨ２，１’−Ｈ）
、　５．３４．　（ＬＨ，ｍ、　２’−Ｈ）、　４．６
．３　（ＩＨ，ｍ、　３’−Ｈ）、　３．８２〜３．９
８　（２Ｈ，ｍ　） 実施例１２．（化合物丈１２の合成） 陥１２ 窒素気流下、化合物（７３２ｍｇの無水ＤＭＦ（１ｍｌ
　）溶液中にアジ化ナトリウム１０１１１ｇを加え、８
０℃で３時間撹拌する。反応液を減圧下、溶（化合物％
３）　　　　　　　（化合物丈１２）（１１Ｎ［１３の
化合物２０．４ｍｇをＭ／１０リン酸緩衝液１、０．２
　ｍｌ、　Ｋ溶解させ、それにアデノシンデアミネース
（シグマ社、ＥＣ３，５，４，４）　２９μ１（４２，
３ユニツト）を加え、２７℃で５日間撹拌する。

反応液をＭＣＩ　ＧＥＬ　ＣＨＰ２０Ｐ　３０ｍｌを充
填したカラムに通塔し、生成物を吸着させ、水洗後、２
０％含水メタノール９０ｍ１Ｋて溶出し、シリカゲルＴ
ＬＣ（メルク社製、Ａｒｔ、５７１５）［：展開溶媒；
ｌ−フリノール−酢酸−水（４：１：２）］でＲｆ０．
４０付近のフラクションを集め、減圧下溶媒を留去し、
化合知立１２の無色粉末１９．１ｍｇ（収率９３．２％
）を得る。

化合物１％　］、　２　：　ＭＳｍ、／ｚ　：　２３９
　（ＭｉＨ）　　、ＮＭＲ（４，ＯＯＭＨｚ、　Ｄ２０
）Ｉ）ｐｍ　：８．５１　（ＩＨ，Ｓ、　８−Ｈ）、　
８．１３　（ＩＨ，ｓ、　２−Ｈ）、　６．８０　（Ｌ
Ｈ，ｄ。

Ｊ＝４．８Ｈｚ、　１’−Ｈ）、　５．２３〜５．２０
　（Ｉ　Ｈ，ｍ。

２’−Ｈ）、　５．１０〜５．０６　（Ｉ　Ｈ，ｍ、　
３’−Ｈ）。

４．０７〜３．９５　（２Ｈ，ｍ、　３’−ＣＨ２０Ｈ
）（ＩＩ）　　上記（１）の方法においてアデノシンデ
アミネースとして下記のようにしてアアノシンアアミ坏
−スを持つ生菌体（又はその処理物）を使用しても化合
物丈１２を得ることができる。

肉エキス０，３％、ペプトン１０％、食塩０７％を含む
ｐＨ７，０の培地１００　ｍ］を５００ｍ１容三角フラ
スコに分注したのち、１２０℃、２０分間オートクレー
ブ滅菌する。このフラスコにエシェリヒア・コリＮＩＨ
Ｊ　（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ　ｃｏｌｉ　ＮＩＨＪ　
）を１白金耳液種し、３７℃、１８時間、好気的に振盪
培養を行う。次にこの培養液１，０００ｍ１を１０．０
００回転／分にて１０分間遠心分離し、生菌体を集め、
同液量のＭ／２０１Ｊン酸緩酔液（ｐＨ７，０）に２〜
３回洗浄したのち同緩衝液１００ｍ１にて懸濁する。こ
の懸濁液に化合物丈３の化合物５Ｑｍｇを加え、３７℃
にて１８時間振盪にて反応させたのち１００℃にて５分
間加熱し反応を停止し、前記条件にて遠心分離にて■ 除菌し得られた上清液をＭＣＩ　ＧＥＬ　ＣＩ（Ｐ２０
Ｐ５０ｍｌを充填したカラムに通塔し、生成物を吸着さ
せ、水洗後、２０％含水メタノール１５０ｍ１にて溶出
し、減圧下溶媒を留去し、化合物隘１２の無色粉末４６
ｍｇ（収率９１．６％）を得る。

本実施例で使用するアデノシンデアミネースは市販品で
よく、具体的にはシグマ社（Ｓｉｇｍａ）Ｅ　Ｃ３，５
，４，４がある。また同様の能力を有することが知られ
ている動物組繊より採取物あるいは微生物培養物および
それらより採取したアデノシンデアミネース等、その起
源を問わず、使用することができる。酵素は精製した酵
素である必要はなく、微生物起源の酵素を使用する場合
にはアデノシンデアミネースを生産する能力を有する微
生物を栄養培地で培養して得られる微生物培養物（菌体
）をそのまま使用することができる。その他、微生物の
アセトン乾燥菌体、菌体の磨砕物、超音波処理物、界面
活性剤、トルエンあるいはリゾチーム等の処理物から採
取した粗酵素標品および天然あるいは合成ポリマーに固
定した菌体も同様に使用することができる。具体的には
例えば下記に示す微生物が使用される。

アルカリゲネスφブーケリ　ＩＦＯ１２９４，８（Ａｌ
ｃａｊｉｇｅｎｅｓ　ｂｏｏｋｅｒｉ　Ｉ　ＦＯ１２９
４８）エシェリヒア・コ （Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ　ｃｏｌｉ エシェリヒア・コ （Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ　ｃｏｌｉ エシェリヒア・コ （Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ　ｃｏｌｉ エシェリヒア・コ （Ｅｓｃｈｅｒｊｃｈｉａ　ｃｏｌｉ リーＮＩＨＪ ＮＩＨＪ、） リー１２０５５１ １２０５５１、） リー　１２０５９５ １．２０５９５） リ　−　　　１２０６２８ １．２０６２８） シトロバクタ−・フロインティー　ＧＮ３４６（Ｃ１ｔ
ｒｏｂａｃｔｅｒ　ｆｒｅｕｎｄｉｉ　　ＧＮ　３４６
　）プロテウス０モルガニ−ＩＦＯ３１６８（ｐｒｏｔ
ｅｕｓ　ｍｏｒｇａｎｉｉ　　Ｉ　Ｆ　Ｏ３１６８）エ
リトロスポラニム・ブラシリエンス （Ｅｌｙｔｒｏｓｐｏｒａｎｉｍ　ｂｒａｓｉｌｉｅｎ
ｓｅ　）ＩＦＯ１２５９ ノカルデイア・アステロイデス （Ｎｏｃａｒｄｉａ　ａｓｔｅｒｏｉｄｅｓ　）ストレ
プトミセス・アルボニゲル （Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　ａｌｂｏｎｉｇｅｒ　）
ＩＦ０３４２３ ＩＦＯＩ２７３８ ストレプトミセスｅカリフォルニカス （Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　ｃａｌｉｆｏｒｎｉｃｕ
ｓ　）ＩＦＯ１２７５０ ストレプトミセス・クレストミセチカス　ＩＦＯ１３４
４４（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　ｃｈｒｅｓｔｏｍｙ
ｃｅｔｉｃｕｓ）ストレプトミセス・ザブエスピー・ラ
サリエンシスＡＴＣＣ３１１８０ （３ｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　５ｕｂｓｐ　Ｉａｓａｌ
ｉｅｎｓｉｓ　）ストレプトミセス・ツベルシジカス　
ＩＦＯ１３０９０（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙ’ｃｅｓ　ｔｕ
ｂｅｒｃｉｄｉｃｕｓ　）ストレフトミセス・バーチシ
ラス　ＡＴＣＣ３１３０７（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ
　ｖｅｒｔｉｃｉｌｌｕｓ　）アスペルギルス・ニゲル
　■Ｆ０４０６６（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ　ｎｉｇｅ
ｒ　）フサリウム・ロゼラム　ＩＦＯ７１８９（Ｆｕｓ
ａｒｉｕｍ　ｒｏｓｅｕｍ　）ペニシリウム・クリソゲ
ナム　ＪＢＩ−ＦＩ（ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ　ｃｈｒ
ｙｓｏｇｅｎｕｍ）ペニシリウム・クリソゲナム　５５
１−２０Ｔ（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕ　　ｃｈｒｙｓｏｇ
ｅｎｕｍ）実施例１ ３゜ （化合物ｌＶ！１１ ３の合成） （化合知歯１）　　　　　　　（化合物％１３）Ｍｌの
化合物３．５［［１ｇをＭ／′１０リン酸緩衝液１、７
５　ｍｌに溶解させ、それにアデノシンデアミネース（
シグマ社、ＥＣ３，５，４，４）　１０μ１（１４，６
ユニソト）を加え、３７℃で４５時間撹拌する。

■ 反応液をＭＣＩ　　ＧＥＬ　ＣＨＰ２０Ｐ　　６．５ｍ
ｌを充填したカラムに通塔し、生成物を吸着させ、水洗
後、２０％含水メタノール２０ｍ１にて溶出し、シリカ
ゲルＴＬＣ（メルク社製、Ａｒｔ、５７１５）〔展開溶
媒；１−ブタノール−酢酸−水（４：１：２））でＲｆ
ｏ、３６付近のフラクションを集め、減圧下溶媒を留去
し、化合物丈１３の無色粉末３．３４１Ｔ１ｇ（収率９
５０％）を得る。

化合物ｌＶ！１１３　：　’ｙＩＳｍ／ｚ　：　２２２
（Ｍ　）　；ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＤｚＯ）ｐＩ）ｍ
　：　８．４９（ＩＨ，ｓ、　８　Ｈ）−８，１２（Ｉ
Ｈ，ｓ、　２−Ｈ）、　６．６４　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ
７．０１１ｚ、　　Ｊ＝７．０Ｉ（ｚ、　　　１’−Ｈ
）、　　　４．９　４　　（ＩＨ，ｍ。

３−１−、Ｔ　）、　　３．８６〜３．７３　（２Ｈ，
ｍ、　３’−ＣＩ−Ｉ２０Ｈ）。

３．３２〜３．１５　（２Ｉ（、ｍ、　　２’−ＣＨ２
）実施例Ｎα１４．（化合物Ｎ［１１４の合−成）［相
］ （ＯＸＴ−Ｇ） ■ ０　　　　　　　　　　　　■ →化合物”　　４　　　　　ＤＭＴｒ　：　（ＣＩ（３
０Ｃ６Ｉ（５）２Ｃ（Ｃ６Ｈ５）−窒素気流下化合物■
（オキセタノシン−〇　（０ＸＴＧ））　５０　ｍｇの
無水ジメチルホルムアミド（１６ｍ１）溶液に４−ジメ
チルアミノピリジン（０５２ｍｇ）、トリエチルアミン
（８６７μｍ４４７−シメトキシトリチルクロリド（１
３９，３■）を加え遮光下、室温にて２４時間撹拌する
。減圧下、溶媒を留去し、得られたシロップをシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（２０ｍｌ、クロロホルム
−メタノール５０：１）Ｋより分離する。

シリカケルＴＬＣ［展開溶媒；クロロホルム−メタメー
ル（１０：　１　）：］でＴ（ｆｏ、５１付近ノフラク
シヨンを集め、減圧下、溶媒を留去し、化合物０の無色
粉末２７．１ｍｇ（１６，６％）を得る。

又、Ｒｆ　０．６４付近のフラクションを集め、減圧下
、溶媒ヲ留去シ、化合物＠　４２．０　ｍｇ　（２５，
８％　）を得る。

窒素気流下化合物＠３０Ｉｎｇの無水ジクロロメタン（
１ｍｌ）溶液に、４−ジメチルアミノピリジｙ（０，４
ｍｇ）、トリエチルアミン（１９，２μｌ　）、塩化バ
レリル（１０，９μｍ）を加え、室温にて１．５時間撹
拌する。減圧下、溶媒を留去し、得られたシロップをシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（２０ｍｌ、クロロ
ホルム−メタノール６０：１）Ｋより分離するシリカゲ
ルＴＬＣ〔展開溶媒；クロロホルム−メタノール（２０
：１））でｒｎ　０．３　ｓ付近のフラクションを集め
、減圧下溶媒を留去し、化合物０のシロップ１６．２１
１１ｇ（４７，２％）を得る。

化合物■：　ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、　ＣＤＣＺａ、　
ＴＭＳ）Ｉ）９ｍニア、７９（ＩＨ，ｓ）、　７．４１
　（１）（、ｓ）、　７．３９（ＩＨ。

ｓ　）、　７．１６〜７．３０　（１８Ｈ，ｍ）、　６
．７８〜６．８３（８Ｈ，ｍ　）、　６．０４　（ＩＨ
，ｄ、　Ｊ＝５．５Ｈｚ、　１’−Ｈ）。

４．６５　（ＩＨ，ｍ、　３’−Ｉ−１）、　４．３６
　（ＩＨ，ｍ、　３’ＣＨ２０−ａ　）、　４．１８　
（Ｉ　Ｈ，ｍ、　３’−ＣＨ２０−ｂ　）。

３．７７〜３．７３　（１２Ｈ，４ＸＭｅＯ）、　３．
４３　（ＩＨ。

ｍ＋　２’　Ｈ）　＋　３．２９　（２Ｈ＋　ｍ＋　２
’　ＣＨ２０）　＋２．３４　（２Ｈ，ｍ）、　１．５
９　（２Ｈ，ｍ）、　１．２９　（２Ｈ。

ｍ）、０．８８（３Ｈ，ｍ） 化合物＠１６．２ｍｇを９０％含水酢酸に溶解し室温に
て２５時間撹拌する。減圧下、溶媒を留去し、得られた
シロップを８０％含水メタノ−■ ルに溶解し、同溶媒で平衡化した３ｅｐｈａｄｅｘ　Ｌ
Ｈ２０（１００ｍｌ）カラムクロマトグラフィーにより
分離する。シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒；ｍブタノール
−水−酢酸（４：２：１）］でＲｆＯ０５８付近のフラ
クションを集め、減圧下、溶媒を留去し、化合物１’！
ｘ１４の無色粉末５．５■（８６，４％）を得る。

化合物隔１４　：　ＮＭＲ（４００ＭＩ−（ｚ、　ＣＤ
３０Ｄ、　ＴＭＳ　）１）ｐｍ：　　８．０８（ＩＨ，
ｓ、　８−Ｉ−Ｉ）、　６．３３（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝５．９Ｉ−（ｚ、　１’−Ｈ）、　４．７９
　（ＩＨ，ｍ、　３’−Ｈ）。

４、．４６　（２Ｈ，ｍ、　３’−ＣＨ２０−）、　　
３．８１　（２Ｈ，ｍ。

２’−ＣＨ２０Ｈ）、　３．７２　（Ｉ　Ｈ，ｍ、　２
’−Ｈ）、　２．４０（２Ｈ，ｍ）、１．５９（２Ｈ，
ｍ）、１．３５（２Ｈ，ｍ）。

０．９１　（３Ｈ，ｍ） 実施例】５（化合物遅１５の合成） Ｄ に） ■　　　　　　　　　　　　　Ｏ ＤＭＴｒ＝（ＭｅＯＣ６Ｈ５）２Ｃ（Ｃ６Ｈ５）ＤＭＴ
ｒ、９　：いずれか一方のアミン基がＤＭＴｒで保護さ
れた２、６−ジアミツプリ ン残基 ｄｉ−ＤＭＴＪ”ｌｐ　’　　両方のアミノ基がＤＭＴ
ｒで保護された２６−ジアミツプリン 残基 窒素気流下、化合物＠　（２−Ａｍ１ｎｏＯＸＴ−Ａ　
）１００■の無水ジメチルホルムアミド（２，５ｍ／＋
）溶液に、イミダゾエル（１３０ｍｇ）、ｔｅｒｔ−ン
チルジメチルシリルクロリド１５０■の無水ジメチルホ
ルムアミド（、ｌ　ｍｌ　）溶液を加え、室温で、２時
間撹拌する。減圧下、溶媒を留去し、残渣に水（１（１
＋ｌ）を加え、クロロホルムで抽出する。クロロホルム
抽出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥する硫酸ナトリウムを戸去し、減圧下溶媒を留去後、
得られたシロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（４０ｍｌｌ、■）クロロホルム、２）クロロホルム
−メタノール１０：１）により分離する。

シリカゲルＴＬＣＣ展開溶媒；クロロホルム−メタノー
ル（５：Ｉ）］で、Ｒｆ０．９０付近のフラクションを
集め、減圧乾燥する、得られたシロップを窒素気流下、
無水ジメチルホルムアミド（５ｍｌ　）に溶解し、４−
ジメチルアミノピリジン（２，３■）、トリエチルアミ
ン（２０９，８紹）、４．４−ジメトキシトリチルクロ
リド（３８２，２＋１１ｇ）を加え、遮光下、室温にて
一夜撹拌する。減圧下、溶媒を留去し、得られたシロッ
プをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（２０ｍｌ、
　　クロロホルム−メタノール１００：１）により分離
する。シリカゲルＴＬＣＣ展開溶媒；クロロホルム−メ
タノール（５０：　１　）］で、Ｒｆ　０．７３付近の
フラクションを集め減圧下、溶媒を留去し化合物［相］
２３０■（収率５５．７％）を得る。

化合物＠　：　ＮＭＩＲ（２００ＭＩ−Ｉｚ、　ＣＤＣ
ｌ２．　ＴＭＳ　）ｐｐ”’８．０３（ＩＨ，Ｓ、　８
−Ｈ）、　７．ｎ８〜７．３０゜６．６２〜６．８０　
（２８Ｈ，ｍ、　２　ｘＤＭＴ、　ＮＨ２，ＮＨ）。

６．２２　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６．２Ｈｚ、　１’−Ｈ
）、　４．５４（ＩＨ，ｍ、　３−Ｈ）、　３．６６〜
４．ｎ　Ｏ（４Ｈ，ｍ。

２’−ＣＨ２，３’　ＣＨ２）、　３．７１〜３．７３
　（１２Ｈ，４ＸＭｅｏ　）、　ｏ、ｓ　３−０．８８
　（１８Ｈ，２Ｘ　ｔ−Ｂｕ　）。

ｏ、ｏ　Ｏ〜０．０８　（１２Ｈ，４ｘ　ＳｉＭｅ　）
化合物０２３０■をテトラヒドロフラン（１０ｍｌ　）
に溶解し、テトラブチルアンモニウムフロリドの１．０
　Ｍテトラヒドロフラン溶液（２４，１μβ）加えて、
室温にて２０分撹拌する。減圧下、溶媒を留去後、得ら
れたシロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
２０ｍｅ、クロロホルム−メタノール２０　：　１　）
より分離する。シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒：クロロホ
ルム−メタノール（５０：１）］で、Ｒｆ０．０７付近
のフラクションを集め、減圧下、溶媒を留去し、化合物
［相］の赤色粉末１３７．２■（収率７５．３％）を得
る。

化合物■：　ＮＭＲ（２００ＭＩＩｚ、　ＣＤＣｌ３．
ＴＭＳ　）ｐｐｍニア、５７（ＩＨ，Ｓ、８−Ｈ）、７
．１６〜７４０゜６．７１〜７．００　（］　６Ｈ，ｍ
、　ＤＭＴｒ、　ＮＨ２，ＮＨ）。

６．１８　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．３Ｈ２，１’−Ｈ
）、　　５．６７（ＩＨ，ｍ、　３’−Ｈ）、　５．３
６　（２Ｈ，ｂｒ、ｓ、　ＯＨ）。

３．５６〜４．２４　（４Ｈ，ｍ、　２’　　Ｃ）ｈＯ
Ｈ，３’−ＣＨ２０Ｈ）、　３．７５　（６Ｈ，ｓ、　
２ＸＭｅｏ　）窒素気流下化合物［相］（ｓ　ｏｍｇ）
の無水アセトニトリル（：１２ｍＡ’）溶液に４−ジメ
チルアミノビリジン（０，３ｍｇ）、トリエチルアミン
（１９，２μβ）、塩化バレリル（１７６μＩ３）を加
え、室温にて１．５時間撹拌する。減圧下、溶媒を留去
後得られたシロップをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（２０ｍ１１　クロロホルム−メタノール５０：１
）より分離する。シリカゲルＴＬＣ〔展開溶媒；クロロ
ホルム−メタノール（３０：１）〕でＲｆ０．３４　（
−１近のフラクションを集め、減圧下溶媒を留去し、化
合物０のシロップ９．８Ｉｒ１ｇ（収率１０．７％）を
得る。

化合物（ｉ’）　：　ＮＭＲ（２００ＭＨ２，ＣＤＣ／
−３，ＴＭＳ　）ｐｐｍニア、８３　（ＩＨ，ｓ、　８
−Ｈ）、　７．１８〜７．３６゜６．７４〜６．８３　
（１６Ｈ，ｍ、　ＤＭＴｒ、　ＮＩ−Ｌ！、　ＮＨ）。

６．２５　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．７Ｈｚ、　１’−
Ｈ）、　４．７７（Ｉ　Ｈ，ｍ、　３’−Ｈ）、　４．
３６　（２Ｈ，ｍ、　３’−ＣＨ２）。

３．８６　（２Ｈ，ｍ、　２’−ＣＨ２０Ｈ）、　３．
７７　（６Ｈ。

ｓ、　２ＸＭｅｏ　）、　　３．４．’５　（ＩＨ，ｍ
、　　２’−Ｈ）、　２．３４（２Ｈ，ｍ　）、　１．
５８　（２Ｈ，ｍ　）、　１．３２（２Ｈ。

ｍ）、０．８９（３Ｈ，ｍ） 化合物＠９．８ｍｇを９０％含水酢酸に溶解し、室温に
て、３０分間撹拌する。減圧下、溶媒を留去し、得られ
たシロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（２
Ｑｍｌ、クロロホルムメタノール５：１）により分離す
る。シリカゲルＴＬＣ〔展開溶媒；クロロホルム−メタ
ノール（５：１）〕で、Ｒｆ　０．３３付近のフラクシ
ョンを集め、減圧下、溶媒を留去し、化合物■のシロッ
プ５．０　ｍｇ　（収率９５，２％）を得る。

化合物＠　：　ＮＭＲ（２００ＭＨ２，ＣＤ３０Ｄ、　
ＴＭＳ　）ｐｐｍ：８．１２　（ＩＨ，ｓ、　　８−Ｈ
）、　　６．３２　（ＩＨ，１’−Ｈ）。

４．７８（ＬＨ，ｍ、　　３’−Ｈ）、　４．．４７（
２Ｈ，ｍ、　３’ＣＨ２）、　　３．７０〜３．８６　
（３Ｈ，ｍ、　２’−Ｈ，２’　−ＣＨ２０Ｈ）　、　
２．４０（２Ｈ，ｍ）、］、、５８（２Ｈ，ｍ）。

１．３２（２Ｈ，ｍ）、０．８９（３Ｈ，ｍ）実施例１
６（化合物猶１６の合成） （化合知歯１１）　　　　　　（化合物丈１６）窒素気
流下、化合物Ｎ１１ｌｌ　　１０．７ｒＱｇをエタ／−
／ｌ／　（３ｍ１）、水（１ｍｌ　）、酢酸（０，４，
ｍｌ）に溶解し、触媒量の１０％パラジウム−カーボン
を加えて、室温にて３０分間撹拌する。パラジウム−カ
ーボンを炉別後、溶媒を留去し、得られた固型物を８０
％含水メタノールに溶解し同溶媒で平衡化した５ｅｐｈ
ａｄｅｘ　ＬＨ−２０（１００ｍｌ）カラムクロマトグ
ラフィーにより分離する。シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒
：ｎ−ブタノール−氷酢酸（４：２：１）］でＲｆ　Ｏ
，１４付近のニンヒドリン発色を有するフラクションを
集め、減圧下、溶媒を留去し、化合物Ｎｎ１６の無色粉
末３゜Ｏｍｇ（収率３１．３％）を得る。

化合物Ｎｒ＞　１６　：　ＭＳ　ｍ／ｚ　：　２３７　
（ＭＨ）　：ＮＭＲ（２００ＭＩ（ｚ、　Ｄ２０）ｐＩ
）ｍ：８．３９　（ＩＨ，ｓ　）。

８．１２　（ＩＨ，ｓ　）、　６．２７　（ＩＨ，ｄ、
　Ｊ＝５．７Ｈｚ。

１’−Ｈ）、　４．４．０〜４．９０　（２Ｈ，ｍ、　
３’−Ｈ，２’Ｈ）、　　３．８５　（］　Ｈ，ｍ、　
　３’−ＣＨ２０Ｈ）実施例１７（化合物％１７の合成
） 窒素気流下、オキセタノシン−Ｈ５００■の無水Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド（９ｍｌ）溶液にイミダゾール
（３３７ｍｇ）、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド（
３２９■）の無水Ｎ、Ｎジメチルホルムアミド（３，３
ｍＡり溶液を加え、室温にて３時間撹拌する。溶媒を留
去後、水（２０ｍｌ）、クロロホルム（２０ｍｌ）を加
えて８回抽出する。クロロホルム抽出液を飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。

硫酸す）ＩＪウムを炉別し、溶媒を留去後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（５０ｍ１１りロロホルムー
メタノール１０：１）により分離する。シリカゲルＴＬ
Ｃ［展開溶媒：クロロホルム−メタノール（５：１）〕
でＲｆ０．４９付近のフラクションを集め、溶媒を留去
して、化合物［相］の無色粉末２１２．７■（収率２’
　９．３％）を得る。又、ｌ（ｆ　０．５６付近のフラ
クションを集める事により、化合物Ｏのシロップ１５１
．８ｍｇ（収率２０．９％）を得る。

化合物［相］３０ｍＩＣの無水Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド（２ｍｇ）溶液に、サルファートリオキシド・ピ
リジン錯体（１９，６ｒ１ｇ）を加え、室温にて３時間
撹拌する。テトラブチルアンモニウムフロリドの１，０
Ｍテトラヒドロフラン溶液（１００μｅ）を加え、さら
に１．５時間撹拌した後、溶媒を留去する。水（２ｍｌ
）を加え、５℃にて陽イオン交換樹脂］）ｏｗｅｘ　５
０　（）（”）　（１０ｍｌ）に供し、硫酸発色陽性区
分を集めて、０．１　ＮＮａＯＨにて中和する。水を留
去後、得られた残渣を１０％含水メタノールに溶解し、
同溶媒で平衡化した５ｅｐｈａｄｅｘＬＨ−２０（１０
０ｍｌ）カラムクロマトグラフィーにより分離する。シ
リカゲルＴＬＣ［展開溶媒；ｎ−ブタノール−水−酢酸
（４：２：１）］で、Ｉ１ｆｏ、１６付近のフラクショ
ンを集め、溶媒を留去し、化合物ＮｒＬ１７１ｓ、３ｍ
ｇ（収率５２，７％）の無色結晶を得る。

化合物ＮＱｌ　７　：　ＭＳ　ｍ／ｚ：３５５［ＭＩ−
Ｔｌ　：ＮＭＲ（２００ＭＴ−１ｚ、　Ｄ２０）ｐｐｍ
：　　８．５０　（ＩＨ，ｓ　）。

８．１０　（ＩＨ，Ｓ　）、、　６／Ｉ７　（ＩＨ，ｄ
、　　Ｊ＝６．０ＩＩｚ。

１’−Ｈ）、　４．７４　（ＩＨ，ｍ、　３−Ｈ）、　
４．２３（２Ｈ。

ｍ、　　　２’−ＣＨ２）、　　　３．９　４　　（Ｉ
　　Ｈ，ｍ、　　　２’　−〇　）。

３．７９　（２Ｈ，ｍ、　３’−ＣＨ２０Ｈ）実施例１
８（化合物丈１８の合成） 窒素気流下、化合物０５０■の無水クロロホルム（４，
ｍｌ　）溶液に、触媒量の４−ジメチルアミノピリジン
、トリエチルアミン（３８ｔｍ　）、プロピオニルクロ
リド（１４，２ｍ）を加えて、室温にて２．５時間撹拌
する。溶媒留去後、水（１０ｍｌり、りｏｏホ／ｌ／ム
（１０ｍｌ　）を加えて３回抽出する。クロロホルム抽
出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
する。

硫酸ナトリウムをＰ別し、溶媒を留去後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（２０ｍ１１クロロホルム−メ
タノール１５：１）により分離する。シリカゲルＴＬＣ
Ｃ展開溶媒：クロロホルム〜メタノール（１０：１）］
でＲｆ　０．３６付近のフラクションを集め、溶媒を留
去して化合物［相］のシロップ５１４１′Ｉ１ｇ（収率
８９．２％）を得る。

化合物＠　：　ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、　ＣＤＣｌ２．　
ＴＭＳ　）ｐｐｍ　：８．７３　（ＩＨ，ｓ、）、　８
．４６　（ＩＨ，ｓ　）、　６．６９（ＩＨ，ｄ、　Ｊ
＝６．０Ｈｚ、　１’−Ｈ）、　４．８９　（Ｉ　Ｈ。

ｍ、　３’　Ｈ）、　４．６３　（２Ｈ，ｍ、’２’　
　ＣＨ２）。

４．１６　（３Ｈ，ｍ、　　２’　　Ｉ−１，３’　　
ＣＨ２）、　　２．６３（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ
、　ＭｅＣＩ−ｈｃｏ　）、　１．４３（３）（、ｎｅ
ａｒｔ、　Ｊ＝８．０Ｊ（ｚ、　ＭｅＣＪ（ｚｃｏ）、
　０．８９（９Ｈ，ｓ、　ｔ−Ｂｕ）、　０．１３（６
Ｈ，ｓ、　ＳｉＭｅ）化合物［相］５］、、４ｍｇの無
水クロロホルム（１ｍｌ）＝７７ 溶液にテトラブチルアンモニウムフロリドノ１．０Ｍテ
トラヒドロフラン溶液（１４５μｅ）を加え、室温にて
２時間撹拌する。溶媒留去後、１０％含水メタノールに
溶解し、同溶媒で平衡化した３ｅｐｈａｄｅｘ　ＬＨ−
２０（１００ｒｎｌ、　）カラムクロマトグラフィーに
より分離する。シリカゲルＴＬＣ［展開溶媒；クロロホ
ルム−メタノール（５：１）〕でＲｆＯ，２５付近のフ
ラクションを集め、溶媒を留去し、化合物Ｎｔｘ１８　
２３．９ｍｇ（収率６３．７％）の無色粉末を得る。

化合物Ｎａ　１８　：　ＮＭＲ（６０ＭＢ２．　ＣＤ３
０Ｄ　：　ＣＤＣ／−３１：　１．　ＴＭＳ）ｐＩ）ｍ
：　８．６５　（ＩＨ，ｓ　）、　８．０８（ＩＨ，ｓ
　）、　６．５３　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝６．０Ｈｚ、　
１’−Ｈ）。

４、．７３（ＩＨ，ｍ、　３’−Ｈ）、　４．４７　（
２Ｈ，ｒｎ、　２’ＣＩ（２）、　　３．３７〜４．１
７　（３Ｈ，ｍ、　２’　−Ｈ，３’−ＣＨ２０Ｈ）、
　　２．４３　（２Ｈ，Ｑ、　　Ｊ＝７．０　Ｉ−Ｉｚ
、　ＭｅＣＩ（ｚＣｏ　　）、　　　１．１　７　　（
ｎｅａｒ　　ｔ、　　３Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ、ＭｅＣＪ
−Ｉ２ＣＯ） 実施例１９（化合知歯１９の合成） 窒素気流下、化合物＠　５０　ｍｇの無水クロロホルム
（４，ｍｌ）溶液に触媒量の４−ジメチルアミノピリジ
ン、トリエチルアミン（３８紹’）、無水酢酸（１６，
８ａ１２．　）を加えて、室温にて一夜撹拌する。以下
、化合物［相］と、同様の操作にて、シリカゲルＴＬＣ
［展開溶媒；クロロボルム−メタノール（１ｏ：１）〕
でＲｆｏ、４３付近のフラクションを集め、溶媒留去に
より、化合物＠５１、Ｑｍｇ（収率９１．５％）のシロ
ップを得る。

化合物＠　：　ＮＭＲ（２００ＭＨ２，ＣＤＣ４３，Ｔ
ＭＳ　）Ｉ）Ｉ）ｍ　：８．５６　（１１−Ｊ、　ｓ　
）、　８．２３　（ＩＨ，ｓ　）、　６．４．８（ＩＨ
，ｄ、　Ｊ＝５．９Ｈｚ、　１’−Ｈ）、　４．６３　
（ＩＨ。

ｍ、　３’　Ｈ）、　４．２９　（２Ｈ，ｍ、　２’　
　ＣＩ（ｚ　）＋３．８７（２Ｈ，ｍ、　３’−ＣＨ２
）、　３．８１　（ＩＨ，ｍ。

２’−Ｈ）、　２．１２　（３Ｈ，ｓ、　Ａｃｔ）、　
０．９５　（９Ｈ。

ｓ、　　ｔ−Ｂｕ）、　　０．１７（３Ｈ，ｓ、　　Ｓ
ｉＭｅ）、　０．１５（３Ｈ，ｓ、　　ＳｉＭｅ　） 化合物（ｉｉ）　２８．１■の無水クロロホルム（１ｍ
ｌ）溶液にテトラブチルアンモニウムフロリトノ１．０
Ｍテトラヒドロフラン溶液（２００ｍ　）加えて室温に
て２時間撹拌する。以下、化合物１’ｂ１８と同様の操
作にてシリカゲルＴＬＣ［展開溶媒；クロロホルム−メ
タノール（５目））でＲｆ　０．２３付近のフラクショ
ンを集め、溶媒留去して化合物遅】９の無色粉末１２．
８■（収率６３．３％）を得る。

化合物Ｎｎ　１９　：　ＮＭＲ（６０ＭＨｚ、　ＣＤａ
ＯＤ、　ＴＭＳ　）ｐｐｍ：　　８．５９（ＩＨ，ｓ　
）、　８．０２（ｌｌ−１，ｓ　）。

６．４−７　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．０Ｈｚ、　１’
−Ｈ）、　４．．７０（ＩＨ，ｍ、　３’−Ｈ）、、　
４．３７　（２Ｈ，ｍ、　２’−ＣＩ−Ｉｚ）。

３．７７〜４．１７　（３Ｈ，ｍ、　２’−Ｈ，’　３
’−ＣＨ２０Ｈ）。

２．０７　（３Ｈ，ｓ、　ＡｃＯ） 実施例２０（化合物Ｎ＋１２０の合成）［相］　　　　
　　　　　　化合物１’！１２０窒素気流下、オキザリ
ルクロＩＪド（１４，０ｍ）の無水ジクロロメタン（０
，３ｍ１）溶液に、−７０℃にてジメチルスルフオキシ
ド（１８，２１Ｌｅ）ヲ加え、１０分間撹拌した後、化
合物■（５０ｍｇ）の無水ジクロロメタン（０，５ｍ１
）溶液を滴下しさらに一７０℃にて１時間撹拌する。ト
リエチルアミン（１２０ｄ　）を加え、５分間撹拌した
抜水（１０ｍｌ）を加え、クロロホルム（１０ｍｇ）で
３回抽出する。クロロホルム抽出液を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、硫酸ナトリウムを炉
別し、溶媒を留去する、得られたシロップを、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（２０ｍ１１クロロホルム
−メタノール２０　：　１　）に供し、シリカゲルＴＬ
ＣＣ展開溶媒；クロロホルム−メタノール（２０：１）
〕でＲｆ０７０付近の２，４−ジニトロフェニルヒドラ
ジン発色を有するフラクションを集め、溶媒留去して化
合物Ｏのシロップ４３．１ｍｇ（収率８６．３％）を得
る。

化合物＠　：　ＭＳ　ｍ／ｚ　：　４６８　（ＭＨ）　
：ＮＭＲ（６０ＭＨ２，ＣＤ３０Ｄ、　ＴＭＳ）　Ｉ）
ｐｍ　：　８．８３　（１１−ｆ、　ｓ　）。

８．６３　　（ＩＨ，ｓ　　）、　　７．２：３−８．
１　７（５Ｈ，ｍ、　　ｐｈ）。

６．６１　（Ｉ　Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．ＯＨ２，１’−Ｈ
）、　４．８９（ＩＨ，ｍ、　　３’−Ｈ）、　　３．
５０〜４．０３　（３Ｈ，ｍ。

２’−Ｈ，３’　　ＣＨ２）、　０．９３　（９Ｈ，ｓ
、　　ｔ　−Ｂｕ　）。

０．１３　（６Ｈ，ｓ、　ＳｉＭｅ　）化合物［相］３
４１１１ｇのアセトン（３ｍｌ　）　溶液ニジョーンズ
試薬（１０滴）を加え、室温にて１時間撹拌する。溶媒
を留去後、水（１０ｍｌ）を加え、クロロホルム（１０
ｍｌ）で３回抽出するクロロホルム抽出液を、飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。硫酸すト
リウムを炉別し、溶媒を留去後、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（２０ｍｌ！、　　クロロホルムメタノ
ール２：１）により分離する。シリカゲルＴＬＣ［［開
溶媒；クロロホルムーメタノール（５：１））でＲｆｏ
、２３付近のフラクションヲ集め、溶媒を留去して、化
合物［相］の無色粉末２７、３　ｍｇ　（収率７０．０
％）を得る。

化合物＠　：　ＮＭＲ（６０ＭＨ２，ＣＤ３０Ｄ、　Ｔ
ＭＳ　）　ｐｐｍ：８．８４　（ＩＩ−Ｉ、　　ｓ　）
、　　８．６７　（ＩＨ，ｓ　）、　　７．１〜８．２
（５Ｈ，ｍ、　ｐｈ　）、　６．８１　（ＩＨ，ｄ、　
Ｊ＝６．０Ｈｚ。

１’−Ｈ）、　４．８０　（Ｉ　Ｈ，ｍ、　３’−Ｈ）
、　３．９０〜４．４６　（３Ｈ，ｍ、　２’　Ｈ，３
’　　ＣＨ２）、　０．９７（９Ｈ，Ｓ、　ｔ−Ｂｕ）
、　０．１３（６Ｈ，ｓ、　ＳｉＭｅ　）化合物＠　１
７　Ｔｌ１ｇのテトラヒドロフラン（ｌ　ｍｌ　）溶液
にテトラプチルアンモニウムフロリトノ０、１　Ｍテト
ラヒドロフラン溶液Ｃ０，３ｍ１）を加え、室温にて１
時間撹拌した後、溶媒を留去する。つづいてメタノール
（２ｍｌ）に溶解した後濃アンモニア水（２ｍＡりを加
え、６０℃にて１５時間撹拌する。得られたシロップを
１０％含水メタノール溶解し、同溶媒で平衡化した５ｅ
ｐｈａｄｅｘ　ＬＨ−２０（１００ｍｌ）カラムクロマ
トグラフィーにより、分離する。シリカゲルＴＬＣ〔展
開溶媒；０−ブタノール−水−酢酸（４：２：１）］で
、Ｒｆ　０．４．３付近のフラクションを集め、溶媒を
留去して化合物歯２０の無色粉末２．９１Ｔ！ｇ（収率
３１，２％）を得る。

化合物Ｎａ　２１　：　ＭＳ　ｍ／ｚ　：　２６６　（
ＭＨ）　：ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、　ＣＤ３０Ｄ、　Ｔ
ＭＳ　）　ｐｐｍ　：　　８．６１　（１１−Ｌｓ）、
８．２０（ＩＨ，ｓ）、６．６６（ＩＨ，ｄ、Ｊ６．６
Ｈｚ、　１’−Ｈ）、　４．８９　（Ｉ　Ｈ，ｍ、　３
’−Ｈ）。

４．４１　（ＩＨ，ｍ、　２’−Ｈ）、　３．９１　（
２Ｈ，ｍ、　３’ＣＨ２０Ｈ）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＿１、Ｙ及びＢは下記の意味を有する。 （ａ）Ｒ＿１は−ＣＨ＿２ＯＨまたは−ＣＨ＿２ＯＣＯ
   −（アルキル） （ｂ）Ｙは▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式
   、化学式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼（Ｒ＿２は−
   Ｈ、−ＯＨまたは−ＣＨ＿２ＯＨおよびＲ＿３は−Ｈ、
   −ＯＨ、ハロゲン原子、−ＣＨ＿２ＯＨ、ハロゲン置換
   を有してもよい低級アルキル基、−ＣＨ＿２−Ｎ＿３、
   −ＣＯＯＨ、−ＮＨ＿２、−ＣＨ＿２ＯＳＯ＿３Ｈまた
   は−ＣＨ＿２ＯＣＯ−（低級アルキル） （ｃ）Ｂはプリン塩基残基を示す。 （ｄ）但し、Ｒ＿１およびＲ＿３は同時に−ＣＨ＿２Ｏ
   Ｈを示さないものとする。） で表わされるオキセタノシン関連化合物およびその塩
2. （２）特許請求の範囲第１項記載の一般式（ I ）のオ
   キセタノシン関連化合物およびその塩を有効成分とする
   抗ウィルス剤
3. （３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｂはプリン塩基の残基（官能基は保護されてい
   てもよい。）Ｐ＿１は保護基を示す。）で表わされる保
   護オキセタノシン関連化合物から脱保護するかまたは脱
   ヒドロキシ化後脱保護することを特徴とする下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｂは前記と同じ、Ｒ′＿３は−Ｈまたは−ＯＨ
   を示す。） で表わされるオキセタノシン関連化合物およびその塩。
4. （４）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ （式中、Ｂはプリン塩基の残基（官能基は保護されてい
   てもよい。）Ｐ＿１は保護基を示す。）で表わされる保
   護オキセタノシン関連化合物