JPH0222542A - フォトマスク欠陥検査装置 - Google Patents
フォトマスク欠陥検査装置Info
- Publication number
- JPH0222542A JPH0222542A JP63172868A JP17286888A JPH0222542A JP H0222542 A JPH0222542 A JP H0222542A JP 63172868 A JP63172868 A JP 63172868A JP 17286888 A JP17286888 A JP 17286888A JP H0222542 A JPH0222542 A JP H0222542A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- photomask
- data
- stage
- inspection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95607—Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積回路の製造工程に使用されるフォト
マスク上に発生する欠陥を検出するフォトマスク欠陥検
査装置に関する。
マスク上に発生する欠陥を検出するフォトマスク欠陥検
査装置に関する。
従来、この種のフォトマスク欠陥検査装置としてはフォ
トマスク上の隣接する等しいチップを比較することによ
りこれらの間の不一致部分すなわち欠陥を検出するチッ
プ比較方式の検査装置と。
トマスク上の隣接する等しいチップを比較することによ
りこれらの間の不一致部分すなわち欠陥を検出するチッ
プ比較方式の検査装置と。
フォトマスク上のパターンを形成するために使用された
データと出来上がったフォトマスクのパターンを照合す
ることにより欠陥を検出するデータ照合方式の検査装置
がある。
データと出来上がったフォトマスクのパターンを照合す
ることにより欠陥を検出するデータ照合方式の検査装置
がある。
上述した従来のフォトマスク欠陥検査装置４はチップ比
較方式又はデータ照合方式のそれぞれ個別の機能を有す
るものであるために、例えば第３図に示すように同一チ
ップＡが配列された中に異種チップＢ及びＣが挿入され
たフォトマスクの欠陥検査を行う場合、チップ比較方式
では異種チップの欠陥検査ができず、別に異種チップの
みをデータ照合による検査、あるいは光学顕微鏡を用い
た検査を行う必要があり、検査効率が著しく悪いという
欠点がある。
較方式又はデータ照合方式のそれぞれ個別の機能を有す
るものであるために、例えば第３図に示すように同一チ
ップＡが配列された中に異種チップＢ及びＣが挿入され
たフォトマスクの欠陥検査を行う場合、チップ比較方式
では異種チップの欠陥検査ができず、別に異種チップの
みをデータ照合による検査、あるいは光学顕微鏡を用い
た検査を行う必要があり、検査効率が著しく悪いという
欠点がある。
本発明の目的は前記課題を解決したフォトマスク欠陥検
査装置を提供することにある。
査装置を提供することにある。
上述した従来のフォトマスク欠陥検査装置に対し、本発
明はチップ比較方式とデータ照合方式の欠陥検査を連続
して行えるという相違点を有する。
明はチップ比較方式とデータ照合方式の欠陥検査を連続
して行えるという相違点を有する。
前記目的を達成するため、本発明はフォトマスク上に発
生する欠陥を検出するフォトマスク欠陥検査装置におい
て、フォトマスク上の隣接するチップ同士を比較して欠
陥を検出するチップ比較方式と、フォトマスク上のパタ
ーンを形成するためのデータとフォトマスク上に実際に
形成されたパターンのデータとを照合して欠陥を検出す
るデータ照合方式による欠陥検査を連続して行う機能を
有するものである。
生する欠陥を検出するフォトマスク欠陥検査装置におい
て、フォトマスク上の隣接するチップ同士を比較して欠
陥を検出するチップ比較方式と、フォトマスク上のパタ
ーンを形成するためのデータとフォトマスク上に実際に
形成されたパターンのデータとを照合して欠陥を検出す
るデータ照合方式による欠陥検査を連続して行う機能を
有するものである。
以下、本発明の実施例を図により説明する。
（実施例１）
第１図は本発明の実施例１を示す構成図である。
図において、１３はステージ、１０はステージ１３をＸ
軸方向に駆動するＸドライブ、１１はステージ１３をＸ
軸と直交するＹ軸方向に駆動するＹドライブ、１２は光
源、１４．１５はセンサ、１６．１７はレンズ、１８は
フォトマスクである。９はステージコントローラ、４は
メモリ、５，７は欠陥検出部、２，６はｃｐｕ、３はイ
ンターフェイス、ｌはテープである。
軸方向に駆動するＸドライブ、１１はステージ１３をＸ
軸と直交するＹ軸方向に駆動するＹドライブ、１２は光
源、１４．１５はセンサ、１６．１７はレンズ、１８は
フォトマスクである。９はステージコントローラ、４は
メモリ、５，７は欠陥検出部、２，６はｃｐｕ、３はイ
ンターフェイス、ｌはテープである。
実施例において、被検フォトマスク１８は本チップＡ及
び挿入チップＢ、Ｃから構成されている。ステージ１３
をＸドライブ１０、Ｙドライブ１１でＸＹＹ軸方向駆動
させてステージ１３上のフォトマスク１８のチップを走
査しつつ光源１２から光を照射し、その透過光をフォト
マスクに配列されたチップサイズの整数倍（１，２，・
・・ｎ）の間隔にセットされたレンズ１６及び１７を通
してセンサ１４及び１５で受ける。この信号を欠陥検出
部７で比較しながら、信号の不一致部分すなわち欠陥部
を検出するチップ比較方式を用いて本チップＡの欠陥検
査を行う。本チップＡの欠陥検査が終了すると、ＣＰＵ
６によりあらかじめ記憶させていた挿入チップＢの検
査スタート点がレンズ１７の位置にくるようにステージ
１３を移動させ次いでチップＢのみを走査する。
び挿入チップＢ、Ｃから構成されている。ステージ１３
をＸドライブ１０、Ｙドライブ１１でＸＹＹ軸方向駆動
させてステージ１３上のフォトマスク１８のチップを走
査しつつ光源１２から光を照射し、その透過光をフォト
マスクに配列されたチップサイズの整数倍（１，２，・
・・ｎ）の間隔にセットされたレンズ１６及び１７を通
してセンサ１４及び１５で受ける。この信号を欠陥検出
部７で比較しながら、信号の不一致部分すなわち欠陥部
を検出するチップ比較方式を用いて本チップＡの欠陥検
査を行う。本チップＡの欠陥検査が終了すると、ＣＰＵ
６によりあらかじめ記憶させていた挿入チップＢの検
査スタート点がレンズ１７の位置にくるようにステージ
１３を移動させ次いでチップＢのみを走査する。
レンズ１７から得られる信号と、テープ１より読み込み
、メモリ４にたくわえられた挿入チップＢのデータから
ステージ移動に同期させながら取り出したパターンデー
タとを比較し、欠陥検出部５によりデータネ−敷部すな
わち欠陥部を検出するデータ照合方式を用いて゛挿入チ
ップＢの欠陥検査を行う。挿入チップＣについても同様
に検査を実施し、フォトマスクの欠陥検査が終了する。
、メモリ４にたくわえられた挿入チップＢのデータから
ステージ移動に同期させながら取り出したパターンデー
タとを比較し、欠陥検出部５によりデータネ−敷部すな
わち欠陥部を検出するデータ照合方式を用いて゛挿入チ
ップＢの欠陥検査を行う。挿入チップＣについても同様
に検査を実施し、フォトマスクの欠陥検査が終了する。
（実施例２）
第２図は本発明の実施例２を示す構成図である。
本実施例ではメモリ８を有するために、チップ比較方式
を行いながら、挿入チップＢ及びＣからの信号がレンズ
１７を通して入ってきたときにパターン情報をたくわえ
ておき、データ照合を実施することが可能である。従っ
て、−回の走査でフォトマスク全面の欠陥検査ができる
のでより効率的な検査ができる利点がある。
を行いながら、挿入チップＢ及びＣからの信号がレンズ
１７を通して入ってきたときにパターン情報をたくわえ
ておき、データ照合を実施することが可能である。従っ
て、−回の走査でフォトマスク全面の欠陥検査ができる
のでより効率的な検査ができる利点がある。
以上説明したように本発明はチップ比較方式とデータ照
合方式による欠陥検査を連続して行える機能を有するこ
とにより、異種チップが挿入されたフォトマスクでも効
率的な欠陥検査が可能で検査効率を大巾に向上できる効
果がある。
合方式による欠陥検査を連続して行える機能を有するこ
とにより、異種チップが挿入されたフォトマスクでも効
率的な欠陥検査が可能で検査効率を大巾に向上できる効
果がある。
第１図、第２図は本発明のフォトマスク欠陥検査装置を
示す構成図、第３図は異種チップが挿入されたフォトマ
スクの一配置例を示す図である。 １・・・テープ ２，６・・・ＣＰＵ３・・
・インターフェイス ４，８・・・メモリ５．７・・・
欠陥検出部 ９・・・ステージコントローラ１０・・
・Ｘドライブ １１・・・Ｙドライブ１２・・
・光源 １３・・・ステージ１４．１５・
・・センサ １６，１７・・・レンズ１８・・
・フォトマスク
示す構成図、第３図は異種チップが挿入されたフォトマ
スクの一配置例を示す図である。 １・・・テープ ２，６・・・ＣＰＵ３・・
・インターフェイス ４，８・・・メモリ５．７・・・
欠陥検出部 ９・・・ステージコントローラ１０・・
・Ｘドライブ １１・・・Ｙドライブ１２・・
・光源 １３・・・ステージ１４．１５・
・・センサ １６，１７・・・レンズ１８・・
・フォトマスク
Claims (1)
- （１）フォトマスク上に発生する欠陥を検出するフォト
マスク欠陥検査装置において、フォトマスク上の隣接す
るチップ同士を比較して欠陥を検出するチップ比較方式
と、フォトマスク上のパターンを形成するためのデータ
とフォトマスク上に実際に形成されたパターンのデータ
とを照合して欠陥を検出するデータ照合方式による欠陥
検査を連続して行う機能を有することを特徴とするフォ
トマスク欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63172868A JPH0222542A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | フォトマスク欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63172868A JPH0222542A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | フォトマスク欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0222542A true JPH0222542A (ja) | 1990-01-25 |
Family
ID=15949790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63172868A Pending JPH0222542A (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | フォトマスク欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0222542A (ja) |
-
1988
- 1988-07-12 JP JP63172868A patent/JPH0222542A/ja active Pending
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