JPH0222622A - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
- Publication number
- JPH0222622A JPH0222622A JP17094288A JP17094288A JPH0222622A JP H0222622 A JPH0222622 A JP H0222622A JP 17094288 A JP17094288 A JP 17094288A JP 17094288 A JP17094288 A JP 17094288A JP H0222622 A JPH0222622 A JP H0222622A
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- JP
- Japan
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- transparent electrode
- transparent
- insulating material
- refractive index
- ito
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ＩＴＯからなる透明電極が表示パターンに対
応して形成されている液晶表示素子（以下、ＬＣＤと称
す）に関する。
応して形成されている液晶表示素子（以下、ＬＣＤと称
す）に関する。
第２図は従来一般のＬＣＤを示す要部断面図である。同
図において、上下の電極基板１．１はそれぞれ、ガラス
基板２上にＳｉＯ□からなるアンダーコート３を介して
、ＩＴＯからなり表示パターンに対応する所定形状の透
明電極４を形成したものであり、各電極基板ｌの透明電
極４はポリイミド等からなる配向膜５に被覆されている
。そして、画電極基板１，１は、配向膜５．５の表面を
それぞれ特定方向にラビングした後、図示せぬシール材
を介して貼り合わされ、相対向する配向膜５．５間に液
晶６を封入して第２図に示す如きＬＣＤが得られる。
図において、上下の電極基板１．１はそれぞれ、ガラス
基板２上にＳｉＯ□からなるアンダーコート３を介して
、ＩＴＯからなり表示パターンに対応する所定形状の透
明電極４を形成したものであり、各電極基板ｌの透明電
極４はポリイミド等からなる配向膜５に被覆されている
。そして、画電極基板１，１は、配向膜５．５の表面を
それぞれ特定方向にラビングした後、図示せぬシール材
を介して貼り合わされ、相対向する配向膜５．５間に液
晶６を封入して第２図に示す如きＬＣＤが得られる。
かかるＬＣＤは、液晶分子がラビング方向と平行な方向
に配向されていて、相対向する位置にある所望の透明電
極４，４間に電圧を印加することにより、当該透明電極
４の形状に応じたパターンをネガ表示もしくはポジ表示
することができる。
に配向されていて、相対向する位置にある所望の透明電
極４，４間に電圧を印加することにより、当該透明電極
４の形状に応じたパターンをネガ表示もしくはポジ表示
することができる。
なお、アンダーコート３はガラスのＮａ成分が液晶６中
に溶融するのを防止するたψの膜である。
に溶融するのを防止するたψの膜である。
しかしながら上述したＬＣＤは、透明電極４の屈折率が
１．８１であるのに対し、アンダーコート３の屈折率が
１．６５、配向膜５の屈折率が１．６８なので、屈折率
の相違から電圧無印加時に透明電極４が目視されてしま
うという不具合があった。
１．８１であるのに対し、アンダーコート３の屈折率が
１．６５、配向膜５の屈折率が１．６８なので、屈折率
の相違から電圧無印加時に透明電極４が目視されてしま
うという不具合があった。
このような電圧無印加時の電極見えは、意匠性を損なう
のみならず、表示パターンの視認性を劣化させる要因と
なっていた。
のみならず、表示パターンの視認性を劣化させる要因と
なっていた。
したがって本発明の目的とするところは、電圧無印加時
の電極見えを防止したＬＣＤを提供することにある。
の電極見えを防止したＬＣＤを提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は、ガラス基板上の
透明電極が形成されていない非パターニング領域を、Ｚ
ｒＯ□およびＳｉｎ、を主成分とし透明電極と同等の屈
折率を有する透明絶縁材にて充填し、この透明絶縁材と
パターニング領域たる透明電極とを配向膜で被覆する構
成とした。
透明電極が形成されていない非パターニング領域を、Ｚ
ｒＯ□およびＳｉｎ、を主成分とし透明電極と同等の屈
折率を有する透明絶縁材にて充填し、この透明絶縁材と
パターニング領域たる透明電極とを配向膜で被覆する構
成とした。
〔作用〕
上記手段によれば、ＩＴＯからなる透明電極と、ＩＴＯ
と同等の屈折率を有する透明絶縁材とが、同一面上に隙
間な（形成されているので、両者の反射率差が解消され
、電圧無印加時に透明電極が目視される虞れがなくなる
。
と同等の屈折率を有する透明絶縁材とが、同一面上に隙
間な（形成されているので、両者の反射率差が解消され
、電圧無印加時に透明電極が目視される虞れがなくなる
。
以下、本発明の実施例を図に基づいて説明する。
第１図は本発明の一実施例に係るＬＣＤの電極基板を示
す要部断面図であり、第２図と対応する部分には同一符
号が付しである。
す要部断面図であり、第２図と対応する部分には同一符
号が付しである。
第１図において、アンダーコート３の上面でＩＴｏから
なる透明電極４を形成していない非パターニング領域に
は、透明電極４と同等の厚さに、ＺｒＯ，およびＳｉｎ
、からなる透明絶縁材７が充填しである。この透明絶縁
材７は、有機溶媒中に有機金属化合物を混入した溶液を
オフセット印刷し、これを焼成して形成したものであり
、本実施例で用いた有機溶媒は、フェニルセルソルブ２
８．２重量％、２エチルヘキサノール１８．８重量％、
第２ブチルアルコール２３．０重量％であり、また有機
金属化合物は、テトラアセチルアセトナートジルコニウ
ム２２．５重量％、テトラアセチルアセトナートシリコ
ン７．５重量％である。こうして得られた透明絶縁材７
の成分比は、ＺｒＯ２：５ｉＯｚ＝３：１で、その屈折
率はＩＴＯと同じ１．８１である。したがって、アンダ
ーコート３を被覆する透明電極４と透明絶縁材７とに反
射率差はなく、電圧無印加時に透明電極４が目視されて
しまう虞れがなくなっている。
なる透明電極４を形成していない非パターニング領域に
は、透明電極４と同等の厚さに、ＺｒＯ，およびＳｉｎ
、からなる透明絶縁材７が充填しである。この透明絶縁
材７は、有機溶媒中に有機金属化合物を混入した溶液を
オフセット印刷し、これを焼成して形成したものであり
、本実施例で用いた有機溶媒は、フェニルセルソルブ２
８．２重量％、２エチルヘキサノール１８．８重量％、
第２ブチルアルコール２３．０重量％であり、また有機
金属化合物は、テトラアセチルアセトナートジルコニウ
ム２２．５重量％、テトラアセチルアセトナートシリコ
ン７．５重量％である。こうして得られた透明絶縁材７
の成分比は、ＺｒＯ２：５ｉＯｚ＝３：１で、その屈折
率はＩＴＯと同じ１．８１である。したがって、アンダ
ーコート３を被覆する透明電極４と透明絶縁材７とに反
射率差はなく、電圧無印加時に透明電極４が目視されて
しまう虞れがなくなっている。
また、本実施例では上記した透明電極４および透明絶縁
材７と配向膜５との間に３００〜４００人の絶縁膜８が
介設してあり、この絶縁膜８により、ラビング時に発生
する静電気に起因する配向膜破壊や、導電微粒子の混入
に起因する上下電極間のショートが防止されている。な
お、この絶縁膜８は、上記した有機溶媒にテトラアセチ
ルアセトナートジルコニウムを１８．０重量％、テトラ
アセチルアセトナートシリコンを１２．０重量％混入し
た溶液をオフセット印刷し、これを焼成して形成したも
のであり、その成分比はＺｒ０ｚ：ＳｉＯ，＝３：２で
あって、屈折率は配向膜５と同じ１．６８である。
材７と配向膜５との間に３００〜４００人の絶縁膜８が
介設してあり、この絶縁膜８により、ラビング時に発生
する静電気に起因する配向膜破壊や、導電微粒子の混入
に起因する上下電極間のショートが防止されている。な
お、この絶縁膜８は、上記した有機溶媒にテトラアセチ
ルアセトナートジルコニウムを１８．０重量％、テトラ
アセチルアセトナートシリコンを１２．０重量％混入し
た溶液をオフセット印刷し、これを焼成して形成したも
のであり、その成分比はＺｒ０ｚ：ＳｉＯ，＝３：２で
あって、屈折率は配向膜５と同じ１．６８である。
以上説明したように、本発明によれば、ガラス基板上の
非パターニング領域、つまりＩＴＯからなる透明電極を
形成していない領域に、ＩＴＯと同等の屈折率を有する
透明絶縁材が充填しであるので、これらの透明電極と透
明絶縁材とに反射率差はなく、よって電圧無印加時の電
極見えが防止できて視認性が著しく向上し、意匠性も良
好となる。
非パターニング領域、つまりＩＴＯからなる透明電極を
形成していない領域に、ＩＴＯと同等の屈折率を有する
透明絶縁材が充填しであるので、これらの透明電極と透
明絶縁材とに反射率差はなく、よって電圧無印加時の電
極見えが防止できて視認性が著しく向上し、意匠性も良
好となる。
第１図は本発明の一実施例に係るＬＣＤの電極基板を示
す要部断面図、第２図は従来例に係るＬＣＤの要部断面
図である。 １・・・・・・電極基板、２・・・・・・ガラス基板、
３・・・・・・アンダーコート、４・・・・・・透明電
極、５・・・・・・配向膜、７・・・・・・透明絶縁材
。
す要部断面図、第２図は従来例に係るＬＣＤの要部断面
図である。 １・・・・・・電極基板、２・・・・・・ガラス基板、
３・・・・・・アンダーコート、４・・・・・・透明電
極、５・・・・・・配向膜、７・・・・・・透明絶縁材
。
Claims (1)
- ガラス基板上にパターン形成した透明電極が配向膜で被
覆されている液晶表示素子において、上記ガラス基板上
の上記透明電極が形成されていない非パターニング領域
を、ＺｒＯ＿２およびＳｉＯ＿２を主成分とし透明電極
と同等の屈折率を有する透明絶縁材にて充填し、この透
明絶縁膜とパターニング領域たる透明電極とを上記配向
膜で被覆したことを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17094288A JPH0222622A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17094288A JPH0222622A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0222622A true JPH0222622A (ja) | 1990-01-25 |
Family
ID=15914225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17094288A Pending JPH0222622A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0222622A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0337626A (ja) * | 1989-07-04 | 1991-02-19 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
| US6825904B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-11-30 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device, color filter substrate with vapor deposited metal oxide insulating layer under transparent conductor, method for manufacturing liquid crystal device, and method for manufacturing color filter substrate |
| JP2004341488A (ja) * | 2003-03-12 | 2004-12-02 | Asulab Sa | 透明な電極を備えた基板および該基板を含む装置 |
| WO2008053774A1 (fr) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage |
-
1988
- 1988-07-11 JP JP17094288A patent/JPH0222622A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0337626A (ja) * | 1989-07-04 | 1991-02-19 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
| US6825904B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-11-30 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device, color filter substrate with vapor deposited metal oxide insulating layer under transparent conductor, method for manufacturing liquid crystal device, and method for manufacturing color filter substrate |
| JP2004341488A (ja) * | 2003-03-12 | 2004-12-02 | Asulab Sa | 透明な電極を備えた基板および該基板を含む装置 |
| WO2008053774A1 (fr) * | 2006-11-02 | 2008-05-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage |
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