JPH0222644A - 写真用支持体の製造方法 - Google Patents

写真用支持体の製造方法

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JPH0222644A
JPH0222644A JP17205088A JP17205088A JPH0222644A JP H0222644 A JPH0222644 A JP H0222644A JP 17205088 A JP17205088 A JP 17205088A JP 17205088 A JP17205088 A JP 17205088A JP H0222644 A JPH0222644 A JP H0222644A
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JP
Japan
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support
layer
photographic
temperature
antistatic
Prior art date
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Pending
Application number
JP17205088A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumio Kawamoto
二三男 川本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPH0222644A publication Critical patent/JPH0222644A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高感度写真フィルム用支持体への帯電防止剤
の塗布方法に関し、表面抵抗率の低いハロゲン化銀写真
感光材料を安定して製造することができる写真用支持体
の製造方法に関する。
〔従来の技術〕
写真感光材料の製造、および使用に際しては、静電気が
蓄積される傾向があり、この静電気の蓄積は多(の障害
を引き起こす、この帯電は、例えば製造工程においては
写真感光材料とローラーとの接触部、あるいは写真感光
材料の巻き取り、巻き戻し工程での支持体面と乳剤面と
の摩擦、または剥離を受けることにより生じ、また使用
に際しては感光材料が接着を起こす程の高湿度に曝され
た場合の支持体と乳剤面との剥離、また映画用カメラ、
X−rayフィルムの自動現像等が用いられる場合にも
発生する。そして、これらの蓄積された静電気が放電す
る際に、感光材料が感光し、現像処理後、シミ状、樹枝
状、羽毛状等の不規則なスタチックマークを生じ、写真
感光材料の商品価値を著しく失わせるものである。これ
らのスタチックマークは、現像するまではその存在が分
からないので、非常に厄介な問題の1つである。またこ
れらの蓄積された静電気は感光材料表面への塵芥の付着
を招き、塗布時の不均一故障等の2次的な故障を発生さ
せる原因になる。またすべての感光材料支持体は絶縁性
であるために静電気の蓄積が大であるから、そのスタチ
ックマークの発生は処理速度、乳剤感度の上昇につれて
増加し、著しく悪影響を及ぼすようになる。
写真感光材料の帯電を防止するために、従来種々の物質
が使用されている。これらの物質は、イオン性の導電性
物質、あるいは吸湿性物質であって、感光材料に導電性
を与えて電荷の蓄積による放電が起こる前に電荷をすみ
やかに逸散させる方法がしばしば用いられてきた。使用
にあたっては、これらの物質の単独使用、あるいは併用
することもある。写真感光材料の支持体に直接帯電防止
性を付与するためには、このような物質を支持体である
高分子物質に直接配合するか、あるいは支持体表面に塗
布する方法が知られている。後者の場合、帯電防止剤を
単独、あるいはゼラチン、ポリビニルアルコール、セル
ロースアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニル
ブチラール等の高分子物質と混合して塗布する方法が用
いられる。
例えば特公昭57−56059号公報には、陽イオン型
帯電防止剤が開示されているが、この帯電防止剤をメタ
ノール、アセトンの混合溶媒で希釈し、セルローストリ
アセテートフィルム上に塗布乾燥することにより、表面
抵抗率が10啼〜1QlllΩの帯電防止層を得ること
が可能である。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、同一の帯電防止剤を使用しているにもか
かわらず、時折スタチックマークが発生するというトラ
ブルが生じ、その原因を検討した結果、帯電防止剤を塗
布するにあたり、その塗布液温度、支持体温度、また塗
布後の帯電防止剤を乾燥させるための乾燥風の露点が変
化することにより、形成後の帯電防止層の表面抵抗率が
大きく変化することが判明した。すなわち夏等の季節的
な影響を受け、乾燥風、塗布液温度、支持体温度等一部
コントロールできない状態のもとで、上記トラブルが発
生していたものである。
本発明はハロゲン化銀写真支持体への帯電防止層の形成
方法を改良することにより、低い表面抵抗率を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料を安定して製造することができ
る支持体を提供することを課題とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は写真用支持体の一方の側に水溶性の帯電防止剤
の塗布液を、液温度、支持体温度をそれぞれ20〜35
℃の条件にして下塗りし、露点が15℃以下の乾燥風で
乾燥させることを特徴とする。
本発明において使用しうる帯電防止剤としては、特開昭
49−3972号公報に記載された水溶性高分子化合物
、特開昭51−23722号公報に記載されたスチレン
−マレイン酸共重合体等の陰イオン型帯電防止剤、およ
び特開昭48−91165号、同49−121523号
、同53−92125号公報等に記載された陽イオン型
帯電防止剤を挙げることができる。特に本発明において
は、陽イオン型帯電防止剤が好ましい、具体的には特開
昭48−91165号公報に記載された下記−般式(f
)で示される化合物 の置換、または未置換のアルキル基、AおよびBは炭素
数1乃至6のアルキレン基、水酸化メチル基、フェニレ
ン基、または単なる結合手、XlおよびXtはアニオン
、およびnは10乃至50を表す。
特開昭49へ121523号公報に記載された下記一般
式(■)で示される化合物 式中、AおよびBは各々直鎖、もしくは分岐鎖のアルキ
レン、キシリレンまたはシクロヘキシレンを表し、直鎖
、もしくは分岐鎖のアルキレンはアルキレン中に二重結
合、三重結合もしくは(CH*CHzO) y  CH
zCHz−を有していてもよい。
R1、Rg、R1およびR4は各々低級アルキル基を表
すか、またはR9とR2及び/又はR1とR4が結合し
て含窒素複素環を形成していてもよい、Xはアニオン、
nは20乃至50の整数、yは1乃至20の整数を表す
特開昭53−92125号公報に記載された下記一般式
(I[[)で示される化合物、一般式(Il+) 式中R6とR2は夫々アルキル基、シクロアルキル基、
アラルキル基、アリール基またはアルケニル基であり、
これらのR+とR2は互いに結合してアルキレン鎖を形
成してもよい、 R3は炭素数10以下のアルキレン基
、アラルキレン基を表すm  XI およびX2はアニ
オンである。nは約10乃至300である。
等が挙げられる。
本発明に用いられる帯電防止剤は、通常1 m 1当た
り約0.01〜1.0g、好ましくは0.03〜0,4
gの範囲で用いられる。
これらの帯電防止剤を写真用支持体上に適用するには、
水、有機溶媒、例えばメタノール、エタノール、アセト
ン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、アセトニトリル
、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ等、マたはこれらの混合溶媒を使用して溶解後、
噴霧、塗布あるいは該溶媒中に浸漬して乾燥すればよい
またゼラチン、ポリビニルアルコール、セルロースアセ
テート、セルロースアセテートフタレート、ポリビニル
ホルマール、ポリビニルブチラール等のバインダーと共
に使用して帯電防止層としてもよい。
本発明における写真用支持体には、例えばポリエチレン
のようなポリオレフィン、ポリスチレン、セルロースト
リアセテートのようなセルロース誘導体、ポリエチレン
テレフタレートのようなセルロースエステル等のフィル
ム、バライタ紙、合成紙、または紙等の両面をこれらの
ポリマーフィルムで被膜したシートからなる支持体、お
よびその類似物が含まれる。
また本発明により製造された写真用支持体には非感光性
の補助層、例えばバッキング層、ハレーション防止層、
中間層、保護層が設けられる。
帯電性を更に防止するために、帯電防止剤を上記各層に
含有させることができる。その含有させる場所は、ハロ
ゲン化銀乳剤層側の下塗り層に隣接する層、および/ま
たはバッキング層のポリマーバインダーからなる最表面
層に隣接する層である。下塗り層に隣接する層とは、支
持体と下塗り層の間、または下塗り層のすぐ上にある非
感光性層であり、この下塗り層に隣接する層に、帯電防
止剤を含ませることにより、写真感光材料の製造工程に
おける静電気障害を緩和させることができる。下塗り層
に隣接する層に添加する場合は、下塗り層のすぐ上の層
に添加するのが好ましい。バッキング層の最表面層に隣
接する層とは、セルロースエステル、例えばセルロース
ジアセテート、セルローストリアセテート、ニトロセル
ロース等のポリマーをバインダーとし、必要によりマッ
ト剤、滑り剤、染料等を含有するバック最表面層のすぐ
下に隣接する層であり、この層に帯電防止剤を含有させ
ることにより写真感光材料の製造時、使用時、特に使用
時の静電気障害を除去することができる。
本発明で製造される写真用支持体には、バッキング層の
表面層に弗素系界面活性剤、マット剤を併用すると特に
好ましい結果が得られ、特に弗素系界面活性剤の併用で
は、スタチックマーク防止に効果が大きい、更に上記表
面層には硬化剤、滑り剤、例えばシリコーン、パラフィ
ン、アンチハレーション防止染料等各種の目的の添加剤
を含有させてもよい。
好ましい結果の得られるマット剤としては、ハロゲン化
銀、硫酸バリウムストロンチウム、ポリメタクリル酸メ
チル、メタクリル酸メチル−メタクリル酸共重合体、コ
ロイダルシリカ、粉末シリカ等がある。
更に併用効果の得られる弗素系界面活性剤としては、以
下の化合物例をあげることができる0例えば英国特許第
1,330,356号、米国特許第3,666.478
号、同第3,589,906号に記載されている弗素系
界面活性剤がある。
代表的化合物例をあげるならば、例えばN−パーフルオ
ロオクチルスルホニル−N−プロピルグリシンカリウム
塩、2−(N−パーフルオロオクチルスルホニル−N−
エチルアミノ)エチルホスフェート、N−(4−(パー
フルオロノネニルオキシ)ベンジル)−N、N−ジメチ
ルアンモニオアセテート、N−(3CN’ 、N’ 、
N’ −)リメチルアンモニオ)プロピルコパーフルオ
ロオクチルスルホンアミドアイオダイド、およびN−(
ポリオキシエチレニル)−N−プロピルパーフルオロオ
クチルスルホアミド[CJ’+7SOtN(CJy)(
CHzCHJ)、 H)があげられる。
また本発明で製造される写真用支持体に、アンチハレー
957層を設けることもできる。この目的のためにはカ
ーボンブラック、あるいは各種の染料、例えばオキソノ
ール染料、アゾ染料、アリーリデン染料、スチリル染料
、アントラキノン染料、メロシアニン染料染料、および
トリ、またはジアリルメタン染料等があげられる。カー
ボンブランク染料のバインダーとしては、セルロースア
セテート(ジ、またはモノ)、ポリビニルアルコール、
ポリビニルブチラール、ポリビニルアセクール、ポリビ
ニルホルマール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアク
リル酸エステル、ポリスチレン、スチレン/無水マレイ
ン酸共重合体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル/無水マレ
イン酸共重合体、メチルビニルエーテル/無水マレイン
酸共重合体、ポリ塩化ビニリデン、およびそれらの誘導
体を使用することができる。
本発明の支持体を用いることができるハロゲン化銀感光
材料としては、通常の白黒ハロゲン化銀写真感光材料、
例えば逼影用白黒感材、X−ray用白黒感材、印刷用
白黒感材等、また通常の多層カラー感光材料、例えばカ
ラーリバーサルフィルム、カラーネガティブフィルム、
カラーポジティブフィルム等、種々のハロゲン化銀写真
感光材料をあげることができる。特に高温迅速処理用ハ
ロゲン化銀写真感光材料、高感度ハロゲン化銀写真感光
材料に効果が大きい。
〔作用〕
本発明は、写真用支持体に帯電防止剤を溶剤に溶解し、
溶液状態にして塗布する際に、その支持体温度、塗布液
液温の高低、また塗膜を乾燥させるための乾燥風の露点
の高低により、形成される帯電防止層の表面抵抗率が大
きく変化することを見出したものである。その理由は詳
細には不明であるが、支持体温度、塗布液液温が35℃
以上の場合には、支持体が膨潤する結果、帯電防止剤ポ
リマーが支持体中に拡散し帯電防止性が悪化するものと
思われる。また支持体温度、塗布液液温が20℃以下で
あると帯電防止剤ポリマーの塗布性が悪化するので、写
真用支持体の製造方法において、その支持体温度、塗布
液液温を20〜35℃の範囲で、帯電防止剤を塗布し、
写真用支持体とする必要がある。
また乾燥工程においても乾燥風の露点が変化することに
よっても、形成された帯電防止層の表面抵抗率が変化す
ることも見出した。一般に帯電防止剤は親水性ポリマー
であり、湿度依存性が大きく、低湿になると必ずしも充
分にその機能をはたないものが多いが、帯電防止性と乾
燥風の露点との関係において、露点が15℃以上の乾燥
風により乾燥することにより、表面抵抗率が急激に高く
なるものである。
以下実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発
明の実施8i様はこれに限定されるものではない。
(実施例〕 セルローストリアセテートフィルム上に下記の組成物を
15 m 1 / m ”となるように塗布し、乾燥し
、帯電防止層を形成した。第1表に乾燥風露点を10℃
に固定し、塗布時の支持体温度、塗布液温度と帯電防止
層の表面抵抗率との関係を示す。
また第2表に塗布時の支持体温度、塗布液温度を固定し
た場合の露点と表面抵抗率との関係を示す。
また乾燥時間は3分間である。
親水性ポリマー(下記)       35gエチレン
グリコール      270mj2メタノール 6000mI!。
アセトン (親水性ポリマー) 4000mf *ポリマーを1重量%食塩水に0.1重量%溶解し、3
0″Cで測定した極限粘度数(ηS P / C)は0
.12であった。
親水性ポリマーは50mg/m”となった。
(以下余白) 未 柩栽社虜餡 第2表 占と    “ Ω 〔発明の効果〕 本発明は、写真用支持体の製造方法において、帯電防止
剤溶液の液温、および写真用支持体温度を20〜35℃
の条件下で帯電防止剤溶液を塗布し、乾燥風の露点を1
5゛C以下にして乾燥させて帯電防止層を形成すること
により、低い表面抵抗率の写真支持体を安定して製造し
うるものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 写真用支持体の一方の側に水溶性の帯電防止剤の塗布液
    を、液温度、支持体温度をそれぞれ20〜35℃の条件
    にして下塗りし、露点が15℃以下の乾燥風で乾燥させ
    ることを特徴とするハロゲン化銀写真用支持体の製造方
    法。
JP17205088A 1988-07-11 1988-07-11 写真用支持体の製造方法 Pending JPH0222644A (ja)

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