JPH0222664A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真感光体の製造方法Info
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- JPH0222664A JPH0222664A JP17234888A JP17234888A JPH0222664A JP H0222664 A JPH0222664 A JP H0222664A JP 17234888 A JP17234888 A JP 17234888A JP 17234888 A JP17234888 A JP 17234888A JP H0222664 A JPH0222664 A JP H0222664A
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- Japan
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- substrate
- temperature
- oxide hydrate
- layer
- water
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
- G03G5/144—Inert intermediate layers comprising inorganic material
-
- G—PHYSICS
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- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/08—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はアルミニウムまたはアルミニウム合金製の基
体の表面に感光層を被着した電子写真感光体の製造方法
に関する。
体の表面に感光層を被着した電子写真感光体の製造方法
に関する。
電子写真複写機に用いられる電子写真感光体は通常アル
ミニウムまたはアルミニウム合金のような導電性金属を
円筒状に形成した基体の表面にセレンまたはセレン合金
などの無機材料を真空蒸着して製造される。この場合真
空蒸着前の基体の表面に形成される酸化膜は帯電位保持
率、残留電位。
ミニウムまたはアルミニウム合金のような導電性金属を
円筒状に形成した基体の表面にセレンまたはセレン合金
などの無機材料を真空蒸着して製造される。この場合真
空蒸着前の基体の表面に形成される酸化膜は帯電位保持
率、残留電位。
繰り返し疲労特性等に影響を与える。たとえばこの酸化
膜の厚さが自然酸化膜の厚さ程度（１０〜１５Ａ０）の
ように薄い場合には基体からの電荷注入に対してブロッ
キング層としての作用を十分果さないので所要の帯電位
保持率が得られない。これとは逆に酸化膜の厚さが著し
く厚い場合は、残留電位が高くなり複写画源にかぶり現
象が生じたり、ａｉコントラストの低下を来すなどの不
具合がある。さらに蒸着前の基体表面の清浄度がよくな
いと部分的に酸化膜の密着度が悪くなったり、酸化膜面
内でバラツキを生じ、これがため複写画像に黒点や白抜
けが生じたり、最悪の場合には膜剥離によるピンホール
が発生する。
膜の厚さが自然酸化膜の厚さ程度（１０〜１５Ａ０）の
ように薄い場合には基体からの電荷注入に対してブロッ
キング層としての作用を十分果さないので所要の帯電位
保持率が得られない。これとは逆に酸化膜の厚さが著し
く厚い場合は、残留電位が高くなり複写画源にかぶり現
象が生じたり、ａｉコントラストの低下を来すなどの不
具合がある。さらに蒸着前の基体表面の清浄度がよくな
いと部分的に酸化膜の密着度が悪くなったり、酸化膜面
内でバラツキを生じ、これがため複写画像に黒点や白抜
けが生じたり、最悪の場合には膜剥離によるピンホール
が発生する。
このため感光体の基体に感光膜を被着させる工程の前に
前処理工程を採り入れるが、従来は次のような前処理工
程を行なっていた。すなわちまず基体をトリクレン、硝
醪、アルカリあるいは純水によって洗浄作業が行なわれ
る。次いで電荷注入のブロッキング層として十分な膜厚
の酸化膜を設けるため熱酸化作業に入る。そのため作業
時間と作業工数が多くかかるという問題があった。しか
も熱酸化後のアルミニウムまたはアルミニウム合金製基
体と蒸着膜との密着性は必ずしも高いものでなく、より
高い密着性が要求されていた。
前処理工程を採り入れるが、従来は次のような前処理工
程を行なっていた。すなわちまず基体をトリクレン、硝
醪、アルカリあるいは純水によって洗浄作業が行なわれ
る。次いで電荷注入のブロッキング層として十分な膜厚
の酸化膜を設けるため熱酸化作業に入る。そのため作業
時間と作業工数が多くかかるという問題があった。しか
も熱酸化後のアルミニウムまたはアルミニウム合金製基
体と蒸着膜との密着性は必ずしも高いものでなく、より
高い密着性が要求されていた。
この発明は上述した欠点を除去し、前処理工程を簡単に
して、短時間で良好な洗浄効果が得られ、しかも基体か
らの電荷注入に対するプロ、キング層としての酸化膜を
形成することができ良質な画像が得られる電子写真感光
体の製造方法を提供することを目的とする。
して、短時間で良好な洗浄効果が得られ、しかも基体か
らの電荷注入に対するプロ、キング層としての酸化膜を
形成することができ良質な画像が得られる電子写真感光
体の製造方法を提供することを目的とする。
発明
この＃尖では上述した目的達成のため感光層形成の前に
次のような前処理工程を行なった。すなわちアルミニウ
ムまたはアルミニウム合金製の基体の表面にセレンまた
はセレン合金を真空蒸着して感光層を形成する電子写真
感光体の製造方法において、感光層を形成する前の前処
理工程として基体を温度（３）℃以上の水系処理による
洗浄を行なって基体表面に水和酸化物を形成させ、この
水和酸化物を介して感光膜を被着した。
次のような前処理工程を行なった。すなわちアルミニウ
ムまたはアルミニウム合金製の基体の表面にセレンまた
はセレン合金を真空蒸着して感光層を形成する電子写真
感光体の製造方法において、感光層を形成する前の前処
理工程として基体を温度（３）℃以上の水系処理による
洗浄を行なって基体表面に水和酸化物を形成させ、この
水和酸化物を介して感光膜を被着した。
基体を９０”Ｃ以上の温水に浸漬、基体表面に水蒸気を
吹付けなど行なうことにより基体表面に水和酸化物層を
形成し、洗浄と同時（こプロ、キング層としての酸化膜
を形成する。
吹付けなど行なうことにより基体表面に水和酸化物層を
形成し、洗浄と同時（こプロ、キング層としての酸化膜
を形成する。
第１図はこの発明の第１の実施例で使用する処理槽の縦
断面図で、側壁面１に電気ヒータ２が埋め込まれ、内部
に水Ｗが貯溜される。電気ヒータ２は槽外に設けられた
ヒータ電源３と温度制御回路４により入力電流が制御さ
れて温度調整されるが、水Ｗ中に設置された温度測定グ
ローブ５からの水温フィードパ、りによって温度制御回
路４は調整される。なお水Ｗは攪拌羽根６により攪拌さ
れて水温が均一となる。基体７は支持器８により支持さ
れながら水Ｗ中に浸漬される。
断面図で、側壁面１に電気ヒータ２が埋め込まれ、内部
に水Ｗが貯溜される。電気ヒータ２は槽外に設けられた
ヒータ電源３と温度制御回路４により入力電流が制御さ
れて温度調整されるが、水Ｗ中に設置された温度測定グ
ローブ５からの水温フィードパ、りによって温度制御回
路４は調整される。なお水Ｗは攪拌羽根６により攪拌さ
れて水温が均一となる。基体７は支持器８により支持さ
れながら水Ｗ中に浸漬される。
以下に第１の実施例による前処理工程を説明する。まず
アルミニウムまたはアルミニウム合金製の円筒管状の基
体７に付着している油脂を除去するためトリクレン洗浄
を行なう。次いでこの洗浄済の基体７を支持器８ζこて
支持させながら第１図；こ示す処理槽に浸漬させる。こ
の時の処理槽内の水Ｗの温度を５０℃、７０℃、９０°
Ｃに設定し浸漬時間を変えて下表に示すような６種類の
実験を行なった０ １２．５ｗｔ％Ｔｅ層を約５μｍ真空蒸着した、この場
合の蒸着条件は下記の通りである。
アルミニウムまたはアルミニウム合金製の円筒管状の基
体７に付着している油脂を除去するためトリクレン洗浄
を行なう。次いでこの洗浄済の基体７を支持器８ζこて
支持させながら第１図；こ示す処理槽に浸漬させる。こ
の時の処理槽内の水Ｗの温度を５０℃、７０℃、９０°
Ｃに設定し浸漬時間を変えて下表に示すような６種類の
実験を行なった０ １２．５ｗｔ％Ｔｅ層を約５μｍ真空蒸着した、この場
合の蒸着条件は下記の通りである。
（Ｉ）軸温度 ６０℃
（ＩＩ）真空度 １０−０−５Ｔｏ
ｒｒ（蒸発源温度 ３４０°Ｃ
（ＩＶ）蒸着速度 １μｍ／ｍ ｉ ｎ以上の第１の
実施例１こ対する比較例として基体を従来の代表的な工
程と同様にトリクレン洗浄後、純水洗浄を５分間行なっ
たのち温度２７５°Ｃの加熱処理を４５分間行なう。こ
の前処理工程ののち基体に前記と同じ蒸着条件で真空蒸
着を行なった。
実施例１こ対する比較例として基体を従来の代表的な工
程と同様にトリクレン洗浄後、純水洗浄を５分間行なっ
たのち温度２７５°Ｃの加熱処理を４５分間行なう。こ
の前処理工程ののち基体に前記と同じ蒸着条件で真空蒸
着を行なった。
上記のようにして作成した第１の実施例による感光体お
よび比較例としての感光体を複写機に装着して行なった
コピー画像テストおよび電気的特性、密着性テストの結
果を第１表に示す。
よび比較例としての感光体を複写機に装着して行なった
コピー画像テストおよび電気的特性、密着性テストの結
果を第１表に示す。
浸漬後基体７を処理槽より取り出し、水分が蒸発した後
、図示せぬ蒸着装置の支持軸に取付け、基体７の表面上
に第１層目にＳｅ−５ｗｔ％Ｔｅ層を約５５Ｐｍ真空蒸
着し、さらに第２層目としてＳｅ−第 表 Ｏ・・・極めて良好 Ｏ・・・良好 Δ・・・実用
上可第１表の中で電気的特性（こおける感度ｖ２ ｚよ
び残留電位ｖ３は、それぞれ帯！電位を７００Ｖ−定と
してハーフトーン対応した露光を行なった時の表面電位
および白紙露光電位である。帯電低下ΔＶＢ３ｏｏおよ
び３００回後の残留電位ｖＲ３ｏｏはそれぞれ通常の複
写工程を３００回繰り返した後の帯電位の初期の値に対
する低下量および３００回繰り返した後の残留電位であ
る。
、図示せぬ蒸着装置の支持軸に取付け、基体７の表面上
に第１層目にＳｅ−５ｗｔ％Ｔｅ層を約５５Ｐｍ真空蒸
着し、さらに第２層目としてＳｅ−第 表 Ｏ・・・極めて良好 Ｏ・・・良好 Δ・・・実用
上可第１表の中で電気的特性（こおける感度ｖ２ ｚよ
び残留電位ｖ３は、それぞれ帯！電位を７００Ｖ−定と
してハーフトーン対応した露光を行なった時の表面電位
および白紙露光電位である。帯電低下ΔＶＢ３ｏｏおよ
び３００回後の残留電位ｖＲ３ｏｏはそれぞれ通常の複
写工程を３００回繰り返した後の帯電位の初期の値に対
する低下量および３００回繰り返した後の残留電位であ
る。
第１の実施例による感光体は第１表で明らかなように画
像の均一性は比較例（従来の前処理方法）と同様の良好
な結果が得られた。基体の処理条件９０”Ｃ１分間以上
（実験４，５．６）では比較例に比べて優れた密着性が
得られる。なお処理条件（資）°Ｃ１分間（実験１）と
７０°Ｃ１分間（実験２）とでは密着性の改善は認めら
れなかった。また実用上の画像にはほとんど影響しない
が処理条件（３）℃５分間（実験５）、９０ ”Ｃ３０
分間（実験６）では感度および残留電位にわずかに劣化
の傾向が見られるがこれは酸化膜が厚く形成され過き“
たためと推測される。したがって浸漬条件は９０℃で１
〜２分程程度好ましい。
像の均一性は比較例（従来の前処理方法）と同様の良好
な結果が得られた。基体の処理条件９０”Ｃ１分間以上
（実験４，５．６）では比較例に比べて優れた密着性が
得られる。なお処理条件（資）°Ｃ１分間（実験１）と
７０°Ｃ１分間（実験２）とでは密着性の改善は認めら
れなかった。また実用上の画像にはほとんど影響しない
が処理条件（３）℃５分間（実験５）、９０ ”Ｃ３０
分間（実験６）では感度および残留電位にわずかに劣化
の傾向が見られるがこれは酸化膜が厚く形成され過き“
たためと推測される。したがって浸漬条件は９０℃で１
〜２分程程度好ましい。
第２図はこの発明の第２の実施例で使用する処理槽の縦
断面図で槽壁面１１で密閉された槽内には中心部に同筒
状でその側壁面に電気ヒータ１２を有する支持器１３が
設けられる。基体１４はこの支持器１３に嵌込まれる。
断面図で槽壁面１１で密閉された槽内には中心部に同筒
状でその側壁面に電気ヒータ１２を有する支持器１３が
設けられる。基体１４はこの支持器１３に嵌込まれる。
この支持器１３および基体１４の外周部には、管壁に多
数のノズル１５ａを有する水蒸気導入管１５が複数本植
設されている。１６は排出口である。この処理槽におい
ては水蒸気導入管１５より導入された水蒸気はノズル１
５ａより噴出し、この水蒸気は基体１４に吹付けられて
基体表面に水和酸化物層を形成するもので、基体表面に
付着した塵埃を除去することができ洗浄と同時に、ブロ
ッキング層としての酸化膜を形成することができ、感光
層被着前の前処理時間を短縮することができる。しかも
この水和酸化物層を形成した基体と真空蒸着ｌこより被
着される感光膜との密着性は極めて良好である。
数のノズル１５ａを有する水蒸気導入管１５が複数本植
設されている。１６は排出口である。この処理槽におい
ては水蒸気導入管１５より導入された水蒸気はノズル１
５ａより噴出し、この水蒸気は基体１４に吹付けられて
基体表面に水和酸化物層を形成するもので、基体表面に
付着した塵埃を除去することができ洗浄と同時に、ブロ
ッキング層としての酸化膜を形成することができ、感光
層被着前の前処理時間を短縮することができる。しかも
この水和酸化物層を形成した基体と真空蒸着ｌこより被
着される感光膜との密着性は極めて良好である。
以下に第２の実施例による前処理工程を説明する。まず
アルミニウムまたはアルミニウム合金製の円筒管状の基
体１４に付着している油脂を除去するためトリクレン洗
浄を行なう。この洗浄が終了した基体を第２図１こ示す
処理槽ζこ入れて支持器１３に取付け、電気ヒータ１２
により加熱する。この加熱は、常温状態の基体１４に直
接水蒸気を吹き付けると水滴が生ずるのでこの水滴を防
止するために行なうものである。基体の温度が１００”
Ｃに達すれば水蒸気導入管１５より導入した水蒸気をノ
ズル１５ａより噴出し基体１４の表面ｌこ水蒸気を３分
間吹付ける。水蒸気吹付けを終れば基体１４を処理槽よ
り出し、図示せぬ蒸着装置の支持軸に取付けて基体１４
の表面に第１層目としてＳｅ−５ｗ１％Ｔｅ層を約５５
μｍＪ空蒸着し、さらに第２層目として８ｅ−１２，５
ｗｔ％Ｔｅ９層を約５μｍ蒸着した。この場合の蒸着条
件は下記の通りである。
アルミニウムまたはアルミニウム合金製の円筒管状の基
体１４に付着している油脂を除去するためトリクレン洗
浄を行なう。この洗浄が終了した基体を第２図１こ示す
処理槽ζこ入れて支持器１３に取付け、電気ヒータ１２
により加熱する。この加熱は、常温状態の基体１４に直
接水蒸気を吹き付けると水滴が生ずるのでこの水滴を防
止するために行なうものである。基体の温度が１００”
Ｃに達すれば水蒸気導入管１５より導入した水蒸気をノ
ズル１５ａより噴出し基体１４の表面ｌこ水蒸気を３分
間吹付ける。水蒸気吹付けを終れば基体１４を処理槽よ
り出し、図示せぬ蒸着装置の支持軸に取付けて基体１４
の表面に第１層目としてＳｅ−５ｗ１％Ｔｅ層を約５５
μｍＪ空蒸着し、さらに第２層目として８ｅ−１２，５
ｗｔ％Ｔｅ９層を約５μｍ蒸着した。この場合の蒸着条
件は下記の通りである。
（Ｉ）軸温度 ６０°Ｃ
（ＩＩ）真空度 ｌＱ Ｔｏｒｒ
（ＩＩＩ）蒸発源温度 ３４０゛Ｃ（ＩＶ）蒸着速
度’ ｌ ｐｍ／ｍｉｎ以上の第２の実施例に対
する比較例として基体を従来の代表的な工程と同様にト
リクレン洗浄後、純水洗浄を５分間なったのち温度２７
５°Ｃの加熱処理を４５分間行なう。この前処理工程の
のち基体上に前記と同じ蒸着条件で真空蒸着を行なった
。
度’ ｌ ｐｍ／ｍｉｎ以上の第２の実施例に対
する比較例として基体を従来の代表的な工程と同様にト
リクレン洗浄後、純水洗浄を５分間なったのち温度２７
５°Ｃの加熱処理を４５分間行なう。この前処理工程の
のち基体上に前記と同じ蒸着条件で真空蒸着を行なった
。
上記のようにして作成した第２の実施例による感光体お
よび比較例としての感光体を複写機に装着して行なった
コピー画像テストおよび電気的特性、密着性テストの結
果を第２表に示す。
よび比較例としての感光体を複写機に装着して行なった
コピー画像テストおよび電気的特性、密着性テストの結
果を第２表に示す。
第
表
第２表の中で電気的特性における感度■２ および残留
電位を７００ Ｖ一定として、それぞれハーフトーンに
対応した露光を行なった時の表面電位および白紙露光電
位である。帯電位低下Δ■Ｂ３ｏｏ および３００回
後の残留電位ｖＲ３００は、それぞれ通常の複写サイク
ルを３００回繰り返した後の帯電位の初期の値（こ対す
る低下量および３００回繰り返した後の残留電位である
。
電位を７００ Ｖ一定として、それぞれハーフトーンに
対応した露光を行なった時の表面電位および白紙露光電
位である。帯電位低下Δ■Ｂ３ｏｏ および３００回
後の残留電位ｖＲ３００は、それぞれ通常の複写サイク
ルを３００回繰り返した後の帯電位の初期の値（こ対す
る低下量および３００回繰り返した後の残留電位である
。
第２の実施例による感光体は第２表に示したように、画
像濃度および画像均一性は比較例（従来の前処理方法）
と同様ｌこ良好な結果が得られた。
像濃度および画像均一性は比較例（従来の前処理方法）
と同様ｌこ良好な結果が得られた。
またこの第２の実施例による感光体は比較例に比べてよ
り殴れた密着性が得られた。これは水和酸化物層とＳｅ
蒸着層との密着性が良いためと考えられる。第２の実施
例の感度および残留電位は比較例と同レベルであった。
り殴れた密着性が得られた。これは水和酸化物層とＳｅ
蒸着層との密着性が良いためと考えられる。第２の実施
例の感度および残留電位は比較例と同レベルであった。
また通常の複写サイクルを３００回繰り返した後の実施
例の帯電低下量および残留電位は低いレベルであり、比
較例のそれらと比べても同じレベルである。
例の帯電低下量および残留電位は低いレベルであり、比
較例のそれらと比べても同じレベルである。
この発明によれば感光体の製造工程における蒸着前の基
体を高温水に浸漬、基体表面に水蒸気の吹付けなどによ
る洗浄処理を施して基体表面に水和酸化物層を形成させ
ることにより短時間で良好な洗浄効果が得られる。また
同時に得られる水和酸化物層により基体と蒸着膜との密
着性は著しく向上した。前処理工程として従来性なって
いた熱酸化工程を省略することができるため前処理工程
は短縮化され、作業工数も減少した。
体を高温水に浸漬、基体表面に水蒸気の吹付けなどによ
る洗浄処理を施して基体表面に水和酸化物層を形成させ
ることにより短時間で良好な洗浄効果が得られる。また
同時に得られる水和酸化物層により基体と蒸着膜との密
着性は著しく向上した。前処理工程として従来性なって
いた熱酸化工程を省略することができるため前処理工程
は短縮化され、作業工数も減少した。
第１図はこの発明の第１の実施例に使用する処理槽装置
の縦断面図、第２図はこの発明の第２の実施例に使用す
る処理槽装置の縦断面図である。 １．１１：側壁面％ ２，１２：電気ヒータ、３：ヒー
タ電源、４：温度制御回路、６：攪拌羽根、７．１４：
基体、８．１３：支持器、１５：水蒸気導入管、第 １
区
の縦断面図、第２図はこの発明の第２の実施例に使用す
る処理槽装置の縦断面図である。 １．１１：側壁面％ ２，１２：電気ヒータ、３：ヒー
タ電源、４：温度制御回路、６：攪拌羽根、７．１４：
基体、８．１３：支持器、１５：水蒸気導入管、第 １
区
Claims (1)
- １）アルミニウムまたはアルミニウム合金製の基体の表
面にセレンまたはセレン合金を真空蒸着して感光層を形
成する電子写真感光体の製造方法において、感光層を形
成する前の前処理工程として基体を温度９０℃以上の水
系処理による洗浄を行なって基体表面に水和酸化物を形
成させ、この水和酸化物を介して感光膜を被着したこと
を特徴とする電子写真感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17234888A JPH0222664A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17234888A JPH0222664A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 電子写真感光体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0222664A true JPH0222664A (ja) | 1990-01-25 |
Family
ID=15940241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17234888A Pending JPH0222664A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0222664A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57104938A (en) * | 1980-12-22 | 1982-06-30 | Canon Inc | Image forming member for electrophotography |
| JPS5814841A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-27 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPS58173750A (ja) * | 1982-04-05 | 1983-10-12 | Hitachi Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPS60174865A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-09 | Showa Alum Corp | 薄膜形成用アルミニウム基材の表面処理方法 |
-
1988
- 1988-07-11 JP JP17234888A patent/JPH0222664A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57104938A (en) * | 1980-12-22 | 1982-06-30 | Canon Inc | Image forming member for electrophotography |
| JPS5814841A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-27 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体の製造方法 |
| JPS58173750A (ja) * | 1982-04-05 | 1983-10-12 | Hitachi Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPS60174865A (ja) * | 1984-02-15 | 1985-09-09 | Showa Alum Corp | 薄膜形成用アルミニウム基材の表面処理方法 |
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