JPH02229502A - 水切り洗浄剤 - Google Patents
水切り洗浄剤Info
- Publication number
- JPH02229502A JPH02229502A JP4950289A JP4950289A JPH02229502A JP H02229502 A JPH02229502 A JP H02229502A JP 4950289 A JP4950289 A JP 4950289A JP 4950289 A JP4950289 A JP 4950289A JP H02229502 A JPH02229502 A JP H02229502A
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- JP
- Japan
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- general formula
- carboxylic acid
- salt
- detergent
- surfactant
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- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、被洗浄物表面に付着する水を効率よく除去す
ることのできる水切り洗浄剤に関する。
ることのできる水切り洗浄剤に関する。
（従来の技術）
従来、金属，ガラス、セラミックス、プラスチックス等
の各材料の固形物表面に付着する水を効率よく除去する
には、■ＩＰＡ．エタノール、メタノール、アセトンな
どの親水性溶剤中に水洗後の物品を浸漬し、物品に付着
している水を溶剤中に拡散させて水切り乾燥する方法、
■１，１．２−トリクロルー１，２．２−トリフルオル
エタンに界面活性剤を添加した洗浄剤中に、水の付着し
ている物品を浸漬し、付着水を除去して水切り乾燥する
方法などが実用されている。
の各材料の固形物表面に付着する水を効率よく除去する
には、■ＩＰＡ．エタノール、メタノール、アセトンな
どの親水性溶剤中に水洗後の物品を浸漬し、物品に付着
している水を溶剤中に拡散させて水切り乾燥する方法、
■１，１．２−トリクロルー１，２．２−トリフルオル
エタンに界面活性剤を添加した洗浄剤中に、水の付着し
ている物品を浸漬し、付着水を除去して水切り乾燥する
方法などが実用されている。
（発明が解決しようとする課題）
しかし、前考は溶剤自体が可燃性であり、また被洗浄物
に付着している水が溶剤中に拡散移行するため，その量
にもよるが洗浄剤としての液寿命が比較的短く，洗浄溶
剤の液交換を頻繁に行わなければならないという問題が
あり，また後者は水切り性能には優れているが、近年オ
ゾン層破壊物質として生産、消費が規制されるに至った
，このため、１，１．２−トリクロルー１．２．２−ト
リフルオルエタンに界面活性剤を添加した水切り洗浄剤
と同等の性能を有する塩素系炭化水素溶剤による水切り
洗浄剤の出現が強く望まれていた．（課題を解決するた
めの手段） 本発明は．これらの問題点を解決すべく鋭意検討を重ね
た結果達成されたもので、塩素系炭化水素溶剤中に、一
般弐Ｒ１−ＮＨ２（式中Ｒ１は炭素数が６〜１２のアル
キル基である）で示される脂肪族アミンと一般式 Ｒ”
−ＣＯＯＨ （式中Ｒ２は炭素数が５〜６のアルキル基
である）で示される脂肪族カルボン酸との塩からなる界
面活性剤０．１〜１０重量％を含有してなる水切り洗浄
剤としたことを要旨とするものであり、これによれば１
，１．２−トリクロルー１．２．２−トリフルオルエタ
ンのようにオゾン層を破壊する恐れがなく、被洗浄物表
面の付着水の除去能力に優れ、長期の使用においても、
これと同等の水切り性能が付与され，しかもその乾燥時
間は極めて短時間で済み，さらに金属表面の錆の発生も
なく、不燃性で水切り乾燥に優れた機能を発揮するとい
う効果を奏する．これを、さらに詳細に説明すると、本
発明による水切り洗浄剤は、塩素系炭化水素溶剤中に、
般式 Ｒ １− Ｎ Ｈ ｚ （式中Ｒ１は炭素数が６
〜ｌ２のアルキル基である）で示される脂肪族アミンと
一般式 ｒ＜ ” − ｃ○ＯＨ（式中Ｒ２は炭素数が
５〜６のアルキル基である）で示される脂肪族カルボン
酸との塩からなる界面活性剤を、０．１−１０重量％、
好ましくは０．５〜３重量％含有してなるものである．
ここで、界面活性剤の添加量が０．１重量％未満のとき
は水切り性能が充分でなく、１０重量％を超えるときは
被洗浄物表面に多量の界面活性剤が残留するため好まし
くない． 本発明の水切り洗浄剤において用いられる塩素系炭化水
素溶剤としては，比重が１．３以上、常温において液体
で不燃性のものがよく、これらの内ではとくに塩化メチ
レンが好適である．前記一般式で示される脂肪族アミン
としては，一般式Ｒ１−ＮＨ，のＲ１の炭素数が８のア
ルキル基であるｎ−オクチルアミンが、また脂肪族カル
ボン酸としては、一般式ｉ＜”−ｃ○ＯＨのＲ２の炭素
数が５のアルキル基であるｎ一カプロン酸がそれぞれ最
も好適である。
に付着している水が溶剤中に拡散移行するため，その量
にもよるが洗浄剤としての液寿命が比較的短く，洗浄溶
剤の液交換を頻繁に行わなければならないという問題が
あり，また後者は水切り性能には優れているが、近年オ
ゾン層破壊物質として生産、消費が規制されるに至った
，このため、１，１．２−トリクロルー１．２．２−ト
リフルオルエタンに界面活性剤を添加した水切り洗浄剤
と同等の性能を有する塩素系炭化水素溶剤による水切り
洗浄剤の出現が強く望まれていた．（課題を解決するた
めの手段） 本発明は．これらの問題点を解決すべく鋭意検討を重ね
た結果達成されたもので、塩素系炭化水素溶剤中に、一
般弐Ｒ１−ＮＨ２（式中Ｒ１は炭素数が６〜１２のアル
キル基である）で示される脂肪族アミンと一般式 Ｒ”
−ＣＯＯＨ （式中Ｒ２は炭素数が５〜６のアルキル基
である）で示される脂肪族カルボン酸との塩からなる界
面活性剤０．１〜１０重量％を含有してなる水切り洗浄
剤としたことを要旨とするものであり、これによれば１
，１．２−トリクロルー１．２．２−トリフルオルエタ
ンのようにオゾン層を破壊する恐れがなく、被洗浄物表
面の付着水の除去能力に優れ、長期の使用においても、
これと同等の水切り性能が付与され，しかもその乾燥時
間は極めて短時間で済み，さらに金属表面の錆の発生も
なく、不燃性で水切り乾燥に優れた機能を発揮するとい
う効果を奏する．これを、さらに詳細に説明すると、本
発明による水切り洗浄剤は、塩素系炭化水素溶剤中に、
般式 Ｒ １− Ｎ Ｈ ｚ （式中Ｒ１は炭素数が６
〜ｌ２のアルキル基である）で示される脂肪族アミンと
一般式 ｒ＜ ” − ｃ○ＯＨ（式中Ｒ２は炭素数が
５〜６のアルキル基である）で示される脂肪族カルボン
酸との塩からなる界面活性剤を、０．１−１０重量％、
好ましくは０．５〜３重量％含有してなるものである．
ここで、界面活性剤の添加量が０．１重量％未満のとき
は水切り性能が充分でなく、１０重量％を超えるときは
被洗浄物表面に多量の界面活性剤が残留するため好まし
くない． 本発明の水切り洗浄剤において用いられる塩素系炭化水
素溶剤としては，比重が１．３以上、常温において液体
で不燃性のものがよく、これらの内ではとくに塩化メチ
レンが好適である．前記一般式で示される脂肪族アミン
としては，一般式Ｒ１−ＮＨ，のＲ１の炭素数が８のア
ルキル基であるｎ−オクチルアミンが、また脂肪族カル
ボン酸としては、一般式ｉ＜”−ｃ○ＯＨのＲ２の炭素
数が５のアルキル基であるｎ一カプロン酸がそれぞれ最
も好適である。
本発明による水切り洗浄剤には上記の脂肪族アミンと脂
肪族カルボン酸との塩以外の界面活性剤や防錆剤を組合
せて使用することもできる．また、この水切り洗浄剤の
使用に際しては，公知の如何なる水切り洗浄装置を適用
することができ，冷浴または沸騰浴のいずれにおいても
好適に使用することができる。
肪族カルボン酸との塩以外の界面活性剤や防錆剤を組合
せて使用することもできる．また、この水切り洗浄剤の
使用に際しては，公知の如何なる水切り洗浄装置を適用
することができ，冷浴または沸騰浴のいずれにおいても
好適に使用することができる。
（実施例）
以ド、本発明の具体的態様を実施例および比較例により
説明するが，本発明はこれら実施例の記載に限定される
ものではない。
説明するが，本発明はこれら実施例の記載に限定される
ものではない。
実施例１．
きれいに洗浄したガラス板（２５Ｘ７５Ｘ ｔ＝ １ｍ
）に水を付着させ，これを表−１に示す界面活性剤を１
．５重量％含有する塩化メチレンからなる洗浄剤中に浸
漬し、静置状態で付着水が除去されるまでの時間を測定
し、結果を表−１に併記した．表−１ （拳 ：旭硝子■製） 実施例２． きれいに洗浄したガラス板（２５ｘ７５Ｘ ｔ ＝ １
ｍ）に水を付着させ、これを表−２に示す界面活性剤
を１．５重量％含有する塩化メチレンからなる洗浄剤中
に浸漬し、下記の方法で洗浄、乾燥を行なった後、接触
角を測定し、ガラス板表面でのリンス性を比較した．結
果を表−２に併記した。
）に水を付着させ，これを表−１に示す界面活性剤を１
．５重量％含有する塩化メチレンからなる洗浄剤中に浸
漬し、静置状態で付着水が除去されるまでの時間を測定
し、結果を表−１に併記した．表−１ （拳 ：旭硝子■製） 実施例２． きれいに洗浄したガラス板（２５ｘ７５Ｘ ｔ ＝ １
ｍ）に水を付着させ、これを表−２に示す界面活性剤
を１．５重量％含有する塩化メチレンからなる洗浄剤中
に浸漬し、下記の方法で洗浄、乾燥を行なった後、接触
角を測定し、ガラス板表面でのリンス性を比較した．結
果を表−２に併記した。
（洗浄、
乾燥方法）
浸漬・超音波
浸漬・超音波
表−２
蒸気浴
本発明によれば、従来周知の１．１．２−トリクロルー
１．２．２−トリフルオルエタンのようにオゾン層を破
壊する恐れがなく、長期の使用においても，これと同等
の水切り性能が付与され、しかもその乾燥時間は極めて
短時間で済み，金属表面の錆の発生もなく，不燃性で、
液管理も簡便に行なえる．さらに塩化メチレンにｎ−オ
クチルアミンとｎ一カプリル酸とを中和して得られる塩
を界面活性剤として含有する洗浄剤と比べても、被洗浄
物表面の付着水の除去能力およびリンス性に優れた機能
を発揮する。
１．２．２−トリフルオルエタンのようにオゾン層を破
壊する恐れがなく、長期の使用においても，これと同等
の水切り性能が付与され、しかもその乾燥時間は極めて
短時間で済み，金属表面の錆の発生もなく，不燃性で、
液管理も簡便に行なえる．さらに塩化メチレンにｎ−オ
クチルアミンとｎ一カプリル酸とを中和して得られる塩
を界面活性剤として含有する洗浄剤と比べても、被洗浄
物表面の付着水の除去能力およびリンス性に優れた機能
を発揮する。
：信越化学工業■製のメチレンクロライド蒸気洗浄用グ
レード 拳−：，ｆｔｌ硝子■製 拳＊拳； Ｉ Ｐ Ａに浸漬し，蒸気洗浄したガラス板
（発明の効果）
レード 拳−：，ｆｔｌ硝子■製 拳＊拳； Ｉ Ｐ Ａに浸漬し，蒸気洗浄したガラス板
（発明の効果）
Claims (1)
- １、塩素系炭化水素溶剤中に、一般式Ｒ＾１−ＮＨ＿２
（式中Ｒ＾１は炭素数が６〜１２のアルキル基である）
で示される脂肪族アミンと一般式Ｒ＾２−ＣＯＯＨ（式
中Ｒ＾２は炭素数が５〜６のアルキル基である）で示さ
れる脂肪族カルボン酸との塩からなる界面活性剤０．１
〜１０重量％を含有してなる水切り洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4950289A JPH02229502A (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 水切り洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4950289A JPH02229502A (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 水切り洗浄剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02229502A true JPH02229502A (ja) | 1990-09-12 |
| JPH0542281B2 JPH0542281B2 (ja) | 1993-06-28 |
Family
ID=12832913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4950289A Granted JPH02229502A (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 水切り洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02229502A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS591082A (ja) * | 1982-06-25 | 1984-01-06 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ウエブの欠陥部の位置を検出する方法 |
-
1989
- 1989-03-01 JP JP4950289A patent/JPH02229502A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS591082A (ja) * | 1982-06-25 | 1984-01-06 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ウエブの欠陥部の位置を検出する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0542281B2 (ja) | 1993-06-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090628 Year of fee payment: 16 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090628 Year of fee payment: 16 |