JPH02233524A - 超電導膜 - Google Patents

超電導膜

Info

Publication number
JPH02233524A
JPH02233524A JP1053299A JP5329989A JPH02233524A JP H02233524 A JPH02233524 A JP H02233524A JP 1053299 A JP1053299 A JP 1053299A JP 5329989 A JP5329989 A JP 5329989A JP H02233524 A JPH02233524 A JP H02233524A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
superconducting
group
elements
periodic table
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1053299A
Other languages
English (en)
Inventor
Yukio Nishiyama
幸夫 西山
Hitoshi Tabata
仁 田畑
Osamu Murata
修 村田
Junzo Fujioka
順三 藤岡
Nanao Kawai
河合 七雄
Tomoji Kawai
知二 川合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kawasaki Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Kawasaki Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Heavy Industries Ltd filed Critical Kawasaki Heavy Industries Ltd
Priority to JP1053299A priority Critical patent/JPH02233524A/ja
Publication of JPH02233524A publication Critical patent/JPH02233524A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E40/00Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
    • Y02E40/60Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment

Landscapes

  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業−Hの利用分野) この発明は新規な構造の超電導膜に関するものである。
(従来の技術及びその問題点) Bi−Sr−Ca−Cu − 0系(以下、Bi系と称
する)で層状構造を有する超電導物質においては、Bi
t−島層間に挟まれたCu−01層の層数によって結晶
構造の異なる数種の相が存在する。そしてこの種の超電
導物質は従来、粉体を混合して焼結する方法(以下、バ
ルク法という)によって製造されている。
ところで超電導特性の改善のため、超電導物質中へその
構成元素(Bi,PbSSr,Ca, Cu)以外の新
しい元素を添加した超電導物質に対する要請があるが、
従来のバルク法では、超電導相の他に超電導特性を有さ
ない相が混在し、第3の元素を存する超電導物質の単相
化を達成し得す、そのため上記要請に応えた超電導物質
を提供し得ないのが実情である(例えば、第7図参照)
この発明は上記した珈来の欠点を解決するためになされ
たものであって、その目的は、超電導特性を改善するこ
とが可能な新規な構造の超電導膜を提供することにある
(問題点を解決するための手段) そこでこの発明の超電導膜では、旧一Sr − CaC
u−0系超電導膜において、その構造中に、Sr及びC
aの他に、その他の周期表第■族、あるいは第■族に属
する元素が超電導膜の構成元素として含有されている。
上記周期表第■族に属する元素としては、例えばBaS
Be, Mg等のアルカリ土類金属を挙げることができ
るし、また周期表第■族に属する元素としては、例えば
Yやランタノイド系元素を挙げることができるが、特に
これらに限定されるものではない。
(作用) 上記のように第3の元素を選択することによって、これ
ら元素を超電導膜中に含有させると共に、形成される超
電導膜の単相化が図れることになる。
(実施例) 次にこの発明の超電導膜の具体的な実施例について、図
面を参照しつつ説明する。
第1図、第4図に、それぞれレーザスパッタリング法に
より形成したBi系酸化物超電導膜のX線回折パターン
を示す。これらの81系酸化物超電導膜は、下記の成膜
条件1、2に記しているように、組成が■旧tPbso
y,■SrCuOy,■CaCuOV,■BaCuOy
、■Y CuOyの5種類のターゲットのい《つかを組
み合わせて、以下の順番で、順次レーザ照射を行うサイ
クルを繰返して成膜したものである。
威艮条件上 ?ーゲット:■Bt7Pb30ys■SrCuOy,■
CaCuOy■BaCuOy 雰囲気  :N20ガス気流(10− ’ − I T
orr )レーザ強度:80〜100信J/shot発
振周波数: 4 〜10Hz (6 Hz)基板温度 
:500〜600゜C ( 550゜C)繰返し順序:
■→■→■→■→■→■→■1サイクルにおけるレーザ
照射時間 ターゲット■:20秒 ターゲット■:lO秒 ターゲット■:35秒 ターゲット■:lO秒 上記の成膜条件lで得られた膜を800゜C、30分ア
ニールしたものの、X線回折パターンは第1図に示すご
とくなっており、この膜はC軸配向したBizO。層間
にCu−0■層を2層有する単相であることが確認され
た。またEDX (エネルギー分散型X線分析装置)に
より、この膜でのBaの存在が確認されている(第2図
)。したがって、この膜は、Baを構造中に取り込んだ
Cu−Ozの2層を有する構造であることを確認した。
またこの物質の臨界温度はTC−ia =81Kであっ
た。なおこの物質の温度一抵抗特性を第3図に示す。
虞l条止I ターゲット:■Bi.pb3oy,■SrCuOy,■
CaCuOy■YCuOy 雰囲気  :N20ガス気流(10−’ − I To
rr)レーザ強度: 80〜100 mJ/shot発
振周波数: 4 〜10Hz ( 6 Hz )基板温
度 =500〜600℃(550℃)繰返し順序:■→
■→■→■→■→■→■1サイクルにおけるレーザ照射
時間 ターゲット■:20秒 ターゲット■:10秒 ターゲット■:35秒 ターゲット■:10秒 上記の成膜条件2で得られた膜を800’C、30分ア
ニールしたX線回折パターンを第4図に示すが、同図か
らこの膜が、C軸配向したBiz02層間にCu?0■
層を2層有する単相であることが確認できる。
さらにEDX観察よりこの膜中にYが存在していること
が確認されたことより、この膜は、Yをその構造に含ん
だ、2層のCu−0■を有する新しい構造であることを
確認した(第5図)。またこの物質の温度一抵抗特性を
第6図に示す。
止較斑 Bi系超電導膜を、粉休を混合、焼結する従来のバルク
法により、下記の条件で形成した。
出発試料: BizO, 、PhO 、SrCO3 、
CaCO:+BaCO,, 、CuO 混合組成: Bi r. 6Pb+1.isrl, 6
CazBao.4Cu40y焼成条件:830゜C×8
4時間(大気中)上記によって形成されたバルク材のX
線回折パターンを第7図に示すが、同図のように、超電
導相以外の相BaCuOg、BaBi03が存在してい
ることが明らかである。
(発明の効果) 以上のようにこの発明の超電導膜は、第3の元素を適当
に選択することによって、第3の元素を含む新しい構造
の単相の超電導膜を提供するものであり、そのため超電
導膜の特性改善に寄与し得第1図はこの発明の超電導膜
の実施例における3図はその温度一抵抗特性を示すグラ
フ、第4図は第2成膜条件で形成された膜のX線回折パ
ターン図、第5図はそのX線分析結果を示すグラフ、第
6図はその温度一抵抗特性を示すグラフ、第7図は従来
のバルク法によって形成された膜のX線回折パターン図
である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、Bi−Sr−Ca−Cu−O系超電導膜において、
    その構造中に、Sr及びCaの他に、その他の周期表第
    II族、あるいは第III族に属する元素が超電導膜の構成
    元素として含有されていることを特徴とする超電導膜。
JP1053299A 1989-03-06 1989-03-06 超電導膜 Pending JPH02233524A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1053299A JPH02233524A (ja) 1989-03-06 1989-03-06 超電導膜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1053299A JPH02233524A (ja) 1989-03-06 1989-03-06 超電導膜

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02233524A true JPH02233524A (ja) 1990-09-17

Family

ID=12938845

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1053299A Pending JPH02233524A (ja) 1989-03-06 1989-03-06 超電導膜

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02233524A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH08502629A (ja) 高温ジョセフソン接合及び方法
Aselage et al. Instability of Thallium‐Containing Superconductor Phases in Isothermal Equilibrium with Thallium Oxide
JPH02233524A (ja) 超電導膜
JPS63288944A (ja) 高温超電導体の作製方法
JPH0818839B2 (ja) 超電導膜の製造方法
Khan et al. Synthesis and study of Raman active modes of Cu1− xTlxBa2CaCu2O8− y superconductor thin films
JPS63301424A (ja) 酸化物超伝導体薄膜の製造方法
JPH0251806A (ja) 超電導セラミックス積層体およびその製造法
JP2803823B2 (ja) T1系酸化物超電導体の製造方法
JP2820082B2 (ja) 超伝導物質
JPH0848520A (ja) 酸化物超電導体及び製造方法
JPH04292420A (ja) 超伝導性化合物及びその調製方法
JP2671880B2 (ja) 超伝導物質
JP2502744B2 (ja) 薄膜超電動体の製造方法
JPH0745357B2 (ja) 超電導繊維状単結晶およびその製造方法
JP2671881B2 (ja) 超伝導物質
JP2971504B2 (ja) Bi基酸化物超電導体の製造方法
JPH0725700A (ja) 超伝導体および薄膜超伝導体の製造方法
JPH0238359A (ja) 超電導体の製造方法
JPH0446098A (ja) 超電導部材
JPH01290530A (ja) 複合酸化物系超電導材料およびその製造方法
JPH0416592A (ja) Bi系酸化物超伝導薄膜
JPH0240992A (ja) 超伝導体配線の構造
Pessaud et al. Multitarget laser ablation: a way for the elaboration of thin films of high-Tc superconducting copper oxides
JPH0431320A (ja) 酸化物超伝導体及び回路配線