JPH02233674A - ラクトン類の製造法 - Google Patents
ラクトン類の製造法Info
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- JPH02233674A JPH02233674A JP1052853A JP5285389A JPH02233674A JP H02233674 A JPH02233674 A JP H02233674A JP 1052853 A JP1052853 A JP 1052853A JP 5285389 A JP5285389 A JP 5285389A JP H02233674 A JPH02233674 A JP H02233674A
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- Japan
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- ruthenium
- acid
- liquid
- reaction
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Furan Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はラクトン類の製造法に間するものである。詳し
くは、ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物及び/又はジ
カルボン酸エステルを液相で水素化することによりラク
トン類を製造する方法の改良に間するものである。
くは、ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物及び/又はジ
カルボン酸エステルを液相で水素化することによりラク
トン類を製造する方法の改良に間するものである。
(従来の技術)
ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物及び/又はジカルボ
ン酸エステルを水素化してラクトン類を製造する方法は
古くから検討されてお,り、これまでに多数の纒案がな
されている.例えば触媒として、ニッケル系触媒(特公
昭43−8947号公報)、コバルト系触媒(特間昭5
1−95057号公報)、銅一クロム系触媒(特公昭3
B−20119号公報)、銅一亜鉛系触媒(特公昭42
− 14463号公報)等を使用して、固定床又は懸i
l液相Lこより水素化反応を行なう方法が知られている
。
ン酸エステルを水素化してラクトン類を製造する方法は
古くから検討されてお,り、これまでに多数の纒案がな
されている.例えば触媒として、ニッケル系触媒(特公
昭43−8947号公報)、コバルト系触媒(特間昭5
1−95057号公報)、銅一クロム系触媒(特公昭3
B−20119号公報)、銅一亜鉛系触媒(特公昭42
− 14463号公報)等を使用して、固定床又は懸i
l液相Lこより水素化反応を行なう方法が知られている
。
一方、均一系のルテニウム系触媒を使用して上記の水素
化反応を行なう方法も知られ、例えば米国特許3957
827号には、[RuXn(PR+R2Rs)xLyl
型のルテニウム系触媒を使用し40〜400 psiの
加圧下で水素化してラクトン類を製造する方法が記載さ
れ、また米国特゛許448524e号には、同様の触媒
による水素化反応を有機アミンの存在下で行なうことが
記載されている.更に本出願人は、先に触媒としてルテ
ニウム、有機ホスフィン及びρκa値が2より小さい酸
の共役塩基を含有するルテニウム系触媒を使用し、液相
で水素化する方法を提案した(特願昭82−15732
1公報).(発明が解決しようとするfil1) しかしながら、上記のニッケル系触媒、コバルト系触媒
、銅一クロム系触媒、銅一亜鉛系触媒等の固体触媒を使
用する従来の方法は、反応条件が数十気圧以上の苛酷な
条件の採用は避けられないという問題点があった.一方
、上記均一系のルテニウム系触媒を使用する従来の方法
は、・反応条件が比較的温和であり、また触媒の失活が
比較的に遅いので、反応に使用した触媒液を反応生成物
の混合液として反応帯域から取り出し、生成物を蒸留分
離後、触媒液を反応帯域に循環使用し得る利点がある.
しかし反面、ルテニウムは高価であり、また失活が比較
的に遅いとはいえ、なお充分満足し得るものでなく触媒
寿命の点で工業的実施上問題がある. 本発明は、上記ルテニウム系触媒を使用する方法の問題
点を解決し、ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物及び/
又はジカルボン酸エステルから、工業的有利にラクトン
類を製造することを目的とするものである. (課題を解決するための手段) 本発明者等は上記の目的を達成するために検討の結果、
ルテニウム系触媒の活性低下の原因が、主として反応器
内におけるルテニウム金属の析出に基づくこと、及びル
テニウム金属の析出の防止に、水素化反応の際に生成す
る高沸点の副生液状物が寄与することを見出し、この知
見に基づいて、更に検討を重ね本発明を完成した。即ち
、本発明の要旨は、ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物
及びジカルボン酸エステルから選ばれる原料物質をルテ
ニウム系触媒の存在下液相で水素化することによりラク
トン類を製造する方法において、水素化反応混合物から
、生成ラクトン類及び原料物質を除去して得られる高沸
点液状物を、少なくとも20重量%含有する液状媒体中
において、水素化反応を行うことを特徴とするラクトン
類の製造法に存する. 以下に本発明を詳細に説明する。
化反応を行なう方法も知られ、例えば米国特許3957
827号には、[RuXn(PR+R2Rs)xLyl
型のルテニウム系触媒を使用し40〜400 psiの
加圧下で水素化してラクトン類を製造する方法が記載さ
れ、また米国特゛許448524e号には、同様の触媒
による水素化反応を有機アミンの存在下で行なうことが
記載されている.更に本出願人は、先に触媒としてルテ
ニウム、有機ホスフィン及びρκa値が2より小さい酸
の共役塩基を含有するルテニウム系触媒を使用し、液相
で水素化する方法を提案した(特願昭82−15732
1公報).(発明が解決しようとするfil1) しかしながら、上記のニッケル系触媒、コバルト系触媒
、銅一クロム系触媒、銅一亜鉛系触媒等の固体触媒を使
用する従来の方法は、反応条件が数十気圧以上の苛酷な
条件の採用は避けられないという問題点があった.一方
、上記均一系のルテニウム系触媒を使用する従来の方法
は、・反応条件が比較的温和であり、また触媒の失活が
比較的に遅いので、反応に使用した触媒液を反応生成物
の混合液として反応帯域から取り出し、生成物を蒸留分
離後、触媒液を反応帯域に循環使用し得る利点がある.
しかし反面、ルテニウムは高価であり、また失活が比較
的に遅いとはいえ、なお充分満足し得るものでなく触媒
寿命の点で工業的実施上問題がある. 本発明は、上記ルテニウム系触媒を使用する方法の問題
点を解決し、ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物及び/
又はジカルボン酸エステルから、工業的有利にラクトン
類を製造することを目的とするものである. (課題を解決するための手段) 本発明者等は上記の目的を達成するために検討の結果、
ルテニウム系触媒の活性低下の原因が、主として反応器
内におけるルテニウム金属の析出に基づくこと、及びル
テニウム金属の析出の防止に、水素化反応の際に生成す
る高沸点の副生液状物が寄与することを見出し、この知
見に基づいて、更に検討を重ね本発明を完成した。即ち
、本発明の要旨は、ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物
及びジカルボン酸エステルから選ばれる原料物質をルテ
ニウム系触媒の存在下液相で水素化することによりラク
トン類を製造する方法において、水素化反応混合物から
、生成ラクトン類及び原料物質を除去して得られる高沸
点液状物を、少なくとも20重量%含有する液状媒体中
において、水素化反応を行うことを特徴とするラクトン
類の製造法に存する. 以下に本発明を詳細に説明する。
本発明におけるラクトン類の製造用原科としては、炭素
数3〜7の飽和又は不飽和のジカルボン酸、それ等の無
水物、もしくはそれ等のジカルボン酸のエステルが挙げ
られ、エステルとしては低級アルキルエステルが好まし
い.具体的には例えば、マレイン酸、フマール酸、コハ
ク酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、マレイン酸ジメ
チル、フマール酸ジエチル、コハク酸−ジーn−ブチル
等が使用される. 本発明における触媒としては、以下に示す(イ)ルテニ
ウム、(口)有機ホスフィン及び(ハ)pKa値が2よ
り小さい酸の共役塩基を含有するルテニウム系触媒が挙
げられる。
数3〜7の飽和又は不飽和のジカルボン酸、それ等の無
水物、もしくはそれ等のジカルボン酸のエステルが挙げ
られ、エステルとしては低級アルキルエステルが好まし
い.具体的には例えば、マレイン酸、フマール酸、コハ
ク酸、無水マレイン酸、無水コハク酸、マレイン酸ジメ
チル、フマール酸ジエチル、コハク酸−ジーn−ブチル
等が使用される. 本発明における触媒としては、以下に示す(イ)ルテニ
ウム、(口)有機ホスフィン及び(ハ)pKa値が2よ
り小さい酸の共役塩基を含有するルテニウム系触媒が挙
げられる。
(イ)ルテニウム:
ルテニウムとしては、金属ルテニウム及びルテニウム化
合物の何れも使用することができる。ルテニウム化合物
としては、ルテニウムの酸化物、ハロゲン化物、水酸化
物、無機酸塩、有機酸塩又は錯化合物が使用され、具体
的には例えば、二酸化ルテニウム、四酸化ルテニウム、
二水酸化ルテニウム、塩化ルテニウム、臭化ルテニウム
、ヨウ化ルテニウム、硝酸ルテニウム、酢酸ルテニウム
、トリス(アセチルアセトン)ルテニウム、ヘキサク口
口ルテニウム酸ナトリウム、テトラカルポニルルテニウ
ム酸ジカリウム、ペンタカルポニルルテニウム、シクロ
ペンタジエニルジ力ルポニルルテニウム、ジブロモトリ
力ルポニルルテニウム、クロロトリス(トリフェニルホ
スフィン)ヒドリドルテニウム、ビス(トリ一〇−プチ
ルホスフィン)トリ力ルポニルルテニウム、ドデカ力ル
ボニルトリルテニウム、テトラヒドリドデ力力ルポニル
テトラJ ルテニウム、オクタデ力力ルポニルへキサルテニウム酸
ジセシウム、ウンデカ力ルポニルヒドリドトリルテニウ
ム酸テトラフエニルホスホニウム等が挙げられる.これ
等の金属ルテニウム及びルテニウム化合物の使用量は通
常、反応溶液1リットル中のルテニウムとして0.00
01〜100ミリモル程度、好ましくはo.oot〜l
Oミリモルである.(C2)有機ホスフィン: 有機ホスフィンは、主触媒である(イ)のルテニウムの
電子状態を制御したり、ルテニウムの活性状態を安定化
するのに寄与するものと考えられる.有機ホスフィンの
具体例としては、トリオクチルホスフィン、トリ一〇一
プチルホスフィン、ジメチル一〇一オクチルホスフィン
等のドリアルキルホスフィン類、トリシクロへキシルホ
スフィンのようなトリシクロアルキルホスフィン類、ト
リフエニルホスフィンのようなトリアリールホスフィン
類、ジメチルフエニルホスフィンのようなアルキルアリ
ールホスフィン類、1.2−ビス(ジフエニルホスフィ
ノ)エタンのような多官能性ホスフィン類が挙げられる
.有機ホスフィンの使用量は通常、ルテニウム1モルに
対して、0.1〜1000モル程度、好ましくはi〜1
00モルである。また、有機ホスフィンは、それ自体単
独で、あるいはルテニウム触媒との複合体の形で、反応
系に供給することができる. (ハ)pKa値が2より小さい酸の共役塩基:pKaf
liが2より小さい酸の共役塩基は、触媒1l8a中又
は反応系中において、pKa値が2より小さい酸の共役
塩基を生成するものであればよく、その供給形態として
は、pKa値が2より小さいプレンステッド酸又はその
各種の塩等が用いられる.具体的には例えば、硫酸、亜
硫酸、硝酸、亜硝酸、過塩**, mal,ホウフッ化
水素酸、ヘキサフルオ口燐酸、タングステン酸、燐モリ
ブデン酸、燐タングステン酸、シリコンタングステン酸
、ポリケイ酸、フルオロスルホン酸等の無機酸類、トリ
クロロ酢酸、ジクロ口酢酸、トリフルオロ酢酸、メタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ラウリル
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ρ一トルエンスルホ
ン酸等の有機酸、あるいはこれ等の酸のアンモニウム塩
、ホスホニウム塩が挙げられる。また、これ等の酸の兵
役塩基が反応系で生成すると考えられる酸誘導体、例え
ば酸ハロゲン化物、酸無水物、エステル、酸アミド等の
形で添加しても同様の効果が得られる.これ等の酸又は
その塩の使用量は、ルテニウムlモルに対して0.01
〜1000モル、好ましくは0.1〜100モル、更に
好ましくは0.5〜20モルの範囲である.本発明の特
徴とする点は、上記ルテニウム系触媒の存在下で、ジカ
ルボン酸、ジカルボン酸無水物及び/又はジカルボン酸
エステル等の原料物質を液相で水素化してラクトン類を
製造する場合に、水素化反応を、水素化反応により副生
ずる高沸点液状物を少なくとも20重量%含有する液状
媒体中において、実施することである. 上記の高沸点液状物とは、水素化反応により得られる反
応混合物から、生成ラクトン及び場合により存在する未
反応原料物質を、蒸留等の分離手段により除去して得ら
れる、生成ラクトン及び原料物質よりも高沸点の残留液
を指示する.なお、水素化反応の際、生成ラクトン及び
原料物質の他に溶媒を使用した場合は、反応混合物から
生成ラクトン、原科物質及び該溶媒を除去した後の高沸
点の残留液を指示する. この高沸点液状物は、水素化反応条件下で液状であり、
上記ルテニウム系触媒、原科物質、生成ラクトン及び溶
媒と相溶性が大きく、それ等の混合物は均一液相を形成
する. 本発明の水素化反応は、上記高沸点液状物のみを媒体と
して行うことができるが、生成ラクトンや原料物質を溶
媒として併用してもよい.この場合には、水素化反応混
合物から、生成ラクトン及び原料物質の一部を留去せず
に残留させ、要すれば、触媒成分を補給して、次の反応
に供与すればよい.また高沸点液状物を、後述する他の
溶媒と併用して水素化反応を行うこともできる。しかし
、高沸点液状物と溶媒を併用する場合(よ、何れの場合
にも、高沸点液状物を、全量に対し20重量%以上使用
することが必要である。
合物の何れも使用することができる。ルテニウム化合物
としては、ルテニウムの酸化物、ハロゲン化物、水酸化
物、無機酸塩、有機酸塩又は錯化合物が使用され、具体
的には例えば、二酸化ルテニウム、四酸化ルテニウム、
二水酸化ルテニウム、塩化ルテニウム、臭化ルテニウム
、ヨウ化ルテニウム、硝酸ルテニウム、酢酸ルテニウム
、トリス(アセチルアセトン)ルテニウム、ヘキサク口
口ルテニウム酸ナトリウム、テトラカルポニルルテニウ
ム酸ジカリウム、ペンタカルポニルルテニウム、シクロ
ペンタジエニルジ力ルポニルルテニウム、ジブロモトリ
力ルポニルルテニウム、クロロトリス(トリフェニルホ
スフィン)ヒドリドルテニウム、ビス(トリ一〇−プチ
ルホスフィン)トリ力ルポニルルテニウム、ドデカ力ル
ボニルトリルテニウム、テトラヒドリドデ力力ルポニル
テトラJ ルテニウム、オクタデ力力ルポニルへキサルテニウム酸
ジセシウム、ウンデカ力ルポニルヒドリドトリルテニウ
ム酸テトラフエニルホスホニウム等が挙げられる.これ
等の金属ルテニウム及びルテニウム化合物の使用量は通
常、反応溶液1リットル中のルテニウムとして0.00
01〜100ミリモル程度、好ましくはo.oot〜l
Oミリモルである.(C2)有機ホスフィン: 有機ホスフィンは、主触媒である(イ)のルテニウムの
電子状態を制御したり、ルテニウムの活性状態を安定化
するのに寄与するものと考えられる.有機ホスフィンの
具体例としては、トリオクチルホスフィン、トリ一〇一
プチルホスフィン、ジメチル一〇一オクチルホスフィン
等のドリアルキルホスフィン類、トリシクロへキシルホ
スフィンのようなトリシクロアルキルホスフィン類、ト
リフエニルホスフィンのようなトリアリールホスフィン
類、ジメチルフエニルホスフィンのようなアルキルアリ
ールホスフィン類、1.2−ビス(ジフエニルホスフィ
ノ)エタンのような多官能性ホスフィン類が挙げられる
.有機ホスフィンの使用量は通常、ルテニウム1モルに
対して、0.1〜1000モル程度、好ましくはi〜1
00モルである。また、有機ホスフィンは、それ自体単
独で、あるいはルテニウム触媒との複合体の形で、反応
系に供給することができる. (ハ)pKa値が2より小さい酸の共役塩基:pKaf
liが2より小さい酸の共役塩基は、触媒1l8a中又
は反応系中において、pKa値が2より小さい酸の共役
塩基を生成するものであればよく、その供給形態として
は、pKa値が2より小さいプレンステッド酸又はその
各種の塩等が用いられる.具体的には例えば、硫酸、亜
硫酸、硝酸、亜硝酸、過塩**, mal,ホウフッ化
水素酸、ヘキサフルオ口燐酸、タングステン酸、燐モリ
ブデン酸、燐タングステン酸、シリコンタングステン酸
、ポリケイ酸、フルオロスルホン酸等の無機酸類、トリ
クロロ酢酸、ジクロ口酢酸、トリフルオロ酢酸、メタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ラウリル
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ρ一トルエンスルホ
ン酸等の有機酸、あるいはこれ等の酸のアンモニウム塩
、ホスホニウム塩が挙げられる。また、これ等の酸の兵
役塩基が反応系で生成すると考えられる酸誘導体、例え
ば酸ハロゲン化物、酸無水物、エステル、酸アミド等の
形で添加しても同様の効果が得られる.これ等の酸又は
その塩の使用量は、ルテニウムlモルに対して0.01
〜1000モル、好ましくは0.1〜100モル、更に
好ましくは0.5〜20モルの範囲である.本発明の特
徴とする点は、上記ルテニウム系触媒の存在下で、ジカ
ルボン酸、ジカルボン酸無水物及び/又はジカルボン酸
エステル等の原料物質を液相で水素化してラクトン類を
製造する場合に、水素化反応を、水素化反応により副生
ずる高沸点液状物を少なくとも20重量%含有する液状
媒体中において、実施することである. 上記の高沸点液状物とは、水素化反応により得られる反
応混合物から、生成ラクトン及び場合により存在する未
反応原料物質を、蒸留等の分離手段により除去して得ら
れる、生成ラクトン及び原料物質よりも高沸点の残留液
を指示する.なお、水素化反応の際、生成ラクトン及び
原料物質の他に溶媒を使用した場合は、反応混合物から
生成ラクトン、原科物質及び該溶媒を除去した後の高沸
点の残留液を指示する. この高沸点液状物は、水素化反応条件下で液状であり、
上記ルテニウム系触媒、原科物質、生成ラクトン及び溶
媒と相溶性が大きく、それ等の混合物は均一液相を形成
する. 本発明の水素化反応は、上記高沸点液状物のみを媒体と
して行うことができるが、生成ラクトンや原料物質を溶
媒として併用してもよい.この場合には、水素化反応混
合物から、生成ラクトン及び原料物質の一部を留去せず
に残留させ、要すれば、触媒成分を補給して、次の反応
に供与すればよい.また高沸点液状物を、後述する他の
溶媒と併用して水素化反応を行うこともできる。しかし
、高沸点液状物と溶媒を併用する場合(よ、何れの場合
にも、高沸点液状物を、全量に対し20重量%以上使用
することが必要である。
他の溶媒としては、例えばジエチルエーテル、アニソー
ル、テトラヒド口フラン、エチレングリコー゛ルジエチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル
、ジオキサン等のエーテル類;アセトン、メチルエチル
ケトン、アセトフエノン等のケトン類;メタノール、エ
タノール、n・プタノール、ベンジルアルコール、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール等のアルコール
類;フェノール類;ギ酸、酢酸、ブロビオン酸、トルイ
ル酸等のカルボン酸類;酢酸メチル、酢酸nーブチル、
安息香酸ベンジル等のエステル類;ベンゼン、トルエン
、エチルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素;n
−ヘキサン、n−オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族
炭化水素;ジクロ口メタン、トリクaロエタン、クロロ
ベンゼン等のハロゲン化炭化水素;ニトロメタン、二ト
ロベンゼン等のニトロ化炭化水素;N,トジメチルホル
ムアミド、H,N−ジメチルアセトアミド、トメチルビ
ロリドン等のカルボン酸アミド;ヘキサメチル燐酸トリ
アミド、N,N,N’,N’−テトラエチルスルファミ
ド等のその他のアミド類; N,N’−ジメチルイミダ
ゾリドン、N,N,N,N−テトラメチル尿素等の尿素
類;ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホン等のス
ルホン類;ジメチルスルホキシド、ジフエニルスルホキ
シド等のスルホキシド類;γ−プチロラクトン、ε一カ
ブロラクトン等のラクトン類;テトラグライム、18−
クラウン−6等のポリエーテル類、アセトニトリル、ペ
ンゾニトリル等のニトリル類;ジメチルカーボネート、
エチレンカーボネート等の炭酸エステル類が挙げられる
。
ル、テトラヒド口フラン、エチレングリコー゛ルジエチ
ルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル
、ジオキサン等のエーテル類;アセトン、メチルエチル
ケトン、アセトフエノン等のケトン類;メタノール、エ
タノール、n・プタノール、ベンジルアルコール、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール等のアルコール
類;フェノール類;ギ酸、酢酸、ブロビオン酸、トルイ
ル酸等のカルボン酸類;酢酸メチル、酢酸nーブチル、
安息香酸ベンジル等のエステル類;ベンゼン、トルエン
、エチルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素;n
−ヘキサン、n−オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族
炭化水素;ジクロ口メタン、トリクaロエタン、クロロ
ベンゼン等のハロゲン化炭化水素;ニトロメタン、二ト
ロベンゼン等のニトロ化炭化水素;N,トジメチルホル
ムアミド、H,N−ジメチルアセトアミド、トメチルビ
ロリドン等のカルボン酸アミド;ヘキサメチル燐酸トリ
アミド、N,N,N’,N’−テトラエチルスルファミ
ド等のその他のアミド類; N,N’−ジメチルイミダ
ゾリドン、N,N,N,N−テトラメチル尿素等の尿素
類;ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホン等のス
ルホン類;ジメチルスルホキシド、ジフエニルスルホキ
シド等のスルホキシド類;γ−プチロラクトン、ε一カ
ブロラクトン等のラクトン類;テトラグライム、18−
クラウン−6等のポリエーテル類、アセトニトリル、ペ
ンゾニトリル等のニトリル類;ジメチルカーボネート、
エチレンカーボネート等の炭酸エステル類が挙げられる
。
本発明の方法に従って、水素化反応を行うには、反応容
器に、原科物質、前記の触媒成分及び前記の高沸点液状
物、更に所望により併用溶媒を装入し、これに水素を導
入する。水素は、窒素あるいは二酸化炭素等の反応に不
活性なガスで希釈されたものであってもよい.反応温度
は通常50〜250℃、好ましくは100〜200℃で
ある.工業的に実施する場合における反応系内の水素圧
は通常0.1〜100 kg/cm2、好ましくは1〜
50 J/cw2である。
器に、原科物質、前記の触媒成分及び前記の高沸点液状
物、更に所望により併用溶媒を装入し、これに水素を導
入する。水素は、窒素あるいは二酸化炭素等の反応に不
活性なガスで希釈されたものであってもよい.反応温度
は通常50〜250℃、好ましくは100〜200℃で
ある.工業的に実施する場合における反応系内の水素圧
は通常0.1〜100 kg/cm2、好ましくは1〜
50 J/cw2である。
反応時問は通常数十分〜数十時問である.反応は回分方
式及び連続方式の何れでも実施することができる. 連続方式においては、反応液をk応器内に保持したまま
、生成ラクトン及び溶媒(使用した場合)をガスとして
反応帯域から抜き出すガスストリツビング方式、又は反
応液を溢流させて生成ラクトンを溢流渣として反応帯域
から抜き出し、蒸留等により生成ラクトンを分離し、残
留する高沸点液状物を反応帯域に循環使用する溢流方式
、あるいは両者を組合わて実施する方式等を採用するこ
とができる. (実施例) 以下本発明を実施例及び比較例について更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を超えない限りこれ等の実施
例に限定されるものではない.比較例l (1)触媒液の調I1: 10 1のsusaオートクレープに、トリプライム(
トリエチレングリコールジメチルエーテル、溶媒)3.
8 +、ルテニウムアセチルアセトナート18.7g1
トリオクチルホスフィン173 g,ρ・トルエンスル
ホン酸78.8 gを仕込み、窒素雰囲気下、200℃
、2時問加熱処理した後40℃に冷却して触媒液を調製
した。この触媒液中のルテニウムは1380ji量pp
一であった. (2)水素化反応: 11のsusaオートクレープに、上記O)で調製した
触媒液をトリグライムで4倍に希釈して得た触媒液50
0g、無水コハク酸too gを仕込み、水素加圧して
、水素圧40kg/ cm2 G、210℃で3時問水
素化反応を行なった.反応終了後、急冷し放圧し、反応
混合物をガスクロマトグラフィーにより分析した結果、
無水コハク酸の転化率は94%であり、γ−プチロラク
トンの収率は88.4%であった。また、ゲルパーミイ
エーションク口マトグラフィ−(GPC)による分析の
結果、高沸点液状物の濃度は0.83重量%であり、高
沸点液状物の収率は5.6%であった. (3)反応液のリサイクル: 上記の反応混合,物580 gをガラス製20段のオー
ルダーショウ蒸留塔を用い、真空度30 lm Hgs
温度135〜150℃で精留してγ〜プチロラクトンを
留去した.残留漬中のルテニウム濃度は660重量p1
)1であり、高沸点液状物の濃度は0.98重量%であ
った.この残留液全量を用いて、これに簾水コハク酸を
、前記(2)の水素化反応におけると同じ量比で添加し
て2回目の水素化反応を行ない、次いで上記と同一条件
で精留した。この操作を10回繰り返し、l1回目の反
応成績を調べたところ、無水コハク酸の転化率は89.
5%であり、これは1回反応当り、約2%の失活に相当
する.また、γ−プチロラクトンの収率は88.6%で
あった.このときの高沸点液状物の濃度は7.5重量%
であった.なお、2回目の仕込みを基準にしたルテニウ
ムの回収率は88.2%であり、反応器を間放して検査
したところ、器内表面に黒色のルテニウムが検出された
.実施例l 比較例lの(2)の水素化反応(11回目)により得ら
れた反応混合物から、γ−プチロラクトン、未反応原料
及びトリグライムを除去した残留液112.5 gを、
トリグライム262.5 gと混合し、得られた溶液(
高沸点液状物濃度を30重置%含有)に、比較例1の(
1)ので得た触媒液+258を添加して触媒液5008
をaI!t,た. 上記触媒液を使用し、比較例lの(2)及び(3)と全
く同様にして、無水コハク酸の水素化反応を繰り返し実
施した.■回目の反応成績は表1の通りであった。
式及び連続方式の何れでも実施することができる. 連続方式においては、反応液をk応器内に保持したまま
、生成ラクトン及び溶媒(使用した場合)をガスとして
反応帯域から抜き出すガスストリツビング方式、又は反
応液を溢流させて生成ラクトンを溢流渣として反応帯域
から抜き出し、蒸留等により生成ラクトンを分離し、残
留する高沸点液状物を反応帯域に循環使用する溢流方式
、あるいは両者を組合わて実施する方式等を採用するこ
とができる. (実施例) 以下本発明を実施例及び比較例について更に詳細に説明
するが、本発明はその要旨を超えない限りこれ等の実施
例に限定されるものではない.比較例l (1)触媒液の調I1: 10 1のsusaオートクレープに、トリプライム(
トリエチレングリコールジメチルエーテル、溶媒)3.
8 +、ルテニウムアセチルアセトナート18.7g1
トリオクチルホスフィン173 g,ρ・トルエンスル
ホン酸78.8 gを仕込み、窒素雰囲気下、200℃
、2時問加熱処理した後40℃に冷却して触媒液を調製
した。この触媒液中のルテニウムは1380ji量pp
一であった. (2)水素化反応: 11のsusaオートクレープに、上記O)で調製した
触媒液をトリグライムで4倍に希釈して得た触媒液50
0g、無水コハク酸too gを仕込み、水素加圧して
、水素圧40kg/ cm2 G、210℃で3時問水
素化反応を行なった.反応終了後、急冷し放圧し、反応
混合物をガスクロマトグラフィーにより分析した結果、
無水コハク酸の転化率は94%であり、γ−プチロラク
トンの収率は88.4%であった。また、ゲルパーミイ
エーションク口マトグラフィ−(GPC)による分析の
結果、高沸点液状物の濃度は0.83重量%であり、高
沸点液状物の収率は5.6%であった. (3)反応液のリサイクル: 上記の反応混合,物580 gをガラス製20段のオー
ルダーショウ蒸留塔を用い、真空度30 lm Hgs
温度135〜150℃で精留してγ〜プチロラクトンを
留去した.残留漬中のルテニウム濃度は660重量p1
)1であり、高沸点液状物の濃度は0.98重量%であ
った.この残留液全量を用いて、これに簾水コハク酸を
、前記(2)の水素化反応におけると同じ量比で添加し
て2回目の水素化反応を行ない、次いで上記と同一条件
で精留した。この操作を10回繰り返し、l1回目の反
応成績を調べたところ、無水コハク酸の転化率は89.
5%であり、これは1回反応当り、約2%の失活に相当
する.また、γ−プチロラクトンの収率は88.6%で
あった.このときの高沸点液状物の濃度は7.5重量%
であった.なお、2回目の仕込みを基準にしたルテニウ
ムの回収率は88.2%であり、反応器を間放して検査
したところ、器内表面に黒色のルテニウムが検出された
.実施例l 比較例lの(2)の水素化反応(11回目)により得ら
れた反応混合物から、γ−プチロラクトン、未反応原料
及びトリグライムを除去した残留液112.5 gを、
トリグライム262.5 gと混合し、得られた溶液(
高沸点液状物濃度を30重置%含有)に、比較例1の(
1)ので得た触媒液+258を添加して触媒液5008
をaI!t,た. 上記触媒液を使用し、比較例lの(2)及び(3)と全
く同様にして、無水コハク酸の水素化反応を繰り返し実
施した.■回目の反応成績は表1の通りであった。
実施例2
比較例lの(2)の水素化反応(目四目)により得られ
た反応混合物から、γ・プチaラクトン、未反応原科及
びトリグライムを除去した残留液く高沸点液状物)22
5 gを、トリプライム150 gと混合し、得られた
WI液(I11i沸点液状物濃度を6帽1%含有)37
5 gに、比較例1の(1)ので得た触媒液125gを
添加して触媒液500 gを調製した。
た反応混合物から、γ・プチaラクトン、未反応原科及
びトリグライムを除去した残留液く高沸点液状物)22
5 gを、トリプライム150 gと混合し、得られた
WI液(I11i沸点液状物濃度を6帽1%含有)37
5 gに、比較例1の(1)ので得た触媒液125gを
添加して触媒液500 gを調製した。
上記触媒液を使用し、比較例1の(2)及び(3)と全
く同様にして、無水コハク酸の水素化反応を繰り返し実
施した.■回目の反応成績は表1の通りであった. 表 1 (発明の効果) 本発明方法によれば、ルテニウム系触媒の存在下、ジカ
ルボン酸、ジカルボン酸無水物及び/又はジカルボン酸
エステルを水素化することによりラクトン煩を製造する
際に、水素化反応を、高沸点副生液状物を含む液状媒体
中で実施することにより、表1に示すように、触媒寿命
を長期間保持することができ、その実用上の価値は・大
きい。
く同様にして、無水コハク酸の水素化反応を繰り返し実
施した.■回目の反応成績は表1の通りであった. 表 1 (発明の効果) 本発明方法によれば、ルテニウム系触媒の存在下、ジカ
ルボン酸、ジカルボン酸無水物及び/又はジカルボン酸
エステルを水素化することによりラクトン煩を製造する
際に、水素化反応を、高沸点副生液状物を含む液状媒体
中で実施することにより、表1に示すように、触媒寿命
を長期間保持することができ、その実用上の価値は・大
きい。
Claims (2)
- (1)ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物及びジカルボ
ン酸エステルから選ばれる原料物質をルテニウム系触媒
の存在下液相で水素化することによりラクトン類を製造
する方法において、水素化反応混合物から、生成ラクト
ン類及び原料物質を除去して得られる高沸点液状物を、
少なくとも20重量%含有する液状媒体中において、水
素化反応を行うことを特徴とするラクトン類の製造法。 - (2)ジカルボン酸、ジカルボン酸無水物及びジカルボ
ン酸エステルから選ばれる原料物質をルテニウム系触媒
及び溶媒の存在下液相で水素化することによりラクトン
類を製造する方法において、水素化反応混合物から、生
成ラクトン類、原料物質及び溶媒を除去して得られる高
沸点液状物を、少なくとも20重量%含有する液状媒体
中において、水素化反応を行うことを特徴とするラクト
ン類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1052853A JPH02233674A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | ラクトン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1052853A JPH02233674A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | ラクトン類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02233674A true JPH02233674A (ja) | 1990-09-17 |
Family
ID=12926415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1052853A Pending JPH02233674A (ja) | 1989-03-07 | 1989-03-07 | ラクトン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02233674A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7427684B2 (en) | 2003-10-30 | 2008-09-23 | Davy Process Technology Limited | Process for the production of lactams |
| US7498450B2 (en) | 2003-10-31 | 2009-03-03 | Davy Process Technology Limited | Homogeneous process for the hydrogenation of dicarboxylic acids and/or anhydrides thereof |
| US7709689B2 (en) | 2002-05-02 | 2010-05-04 | Davy Process Technololgy Limited | Homogenous process for the hydrogenation of carboxylic acids and derivatives thereof |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS497267A (ja) * | 1972-05-31 | 1974-01-22 | ||
| JPS62501702A (ja) * | 1984-11-21 | 1987-07-09 | デイビ− マツキ− (ロンドン) リミテツド | ブタン−1,4−ジオ−ルの生成方法 |
| JPS63500099A (ja) * | 1985-06-04 | 1988-01-14 | デイビ− マツキ−(ロンドン)リミテツド | ガンマ−ブチロラクトンの生成方法 |
| JPS6425771A (en) * | 1986-08-19 | 1989-01-27 | Mitsubishi Chem Ind | Production of lactones |
-
1989
- 1989-03-07 JP JP1052853A patent/JPH02233674A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS497267A (ja) * | 1972-05-31 | 1974-01-22 | ||
| JPS62501702A (ja) * | 1984-11-21 | 1987-07-09 | デイビ− マツキ− (ロンドン) リミテツド | ブタン−1,4−ジオ−ルの生成方法 |
| JPS63500099A (ja) * | 1985-06-04 | 1988-01-14 | デイビ− マツキ−(ロンドン)リミテツド | ガンマ−ブチロラクトンの生成方法 |
| JPS6425771A (en) * | 1986-08-19 | 1989-01-27 | Mitsubishi Chem Ind | Production of lactones |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7709689B2 (en) | 2002-05-02 | 2010-05-04 | Davy Process Technololgy Limited | Homogenous process for the hydrogenation of carboxylic acids and derivatives thereof |
| US9636671B2 (en) | 2002-05-02 | 2017-05-02 | Davy Process Technology Limited | Homogeneous process for the hydrogenation of carboxylic acids and derivatives thereof |
| US7427684B2 (en) | 2003-10-30 | 2008-09-23 | Davy Process Technology Limited | Process for the production of lactams |
| US7498450B2 (en) | 2003-10-31 | 2009-03-03 | Davy Process Technology Limited | Homogeneous process for the hydrogenation of dicarboxylic acids and/or anhydrides thereof |
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