JPH02235209A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気ヘッドの製造方法に係り，特に，磁気ヘ
ッド構成部材を形成するブロックに形成される、トラッ
ク幅を決定する溝内に溶着ガラスを溶融・充填する方法
に関するものである。

〔従釆の技術〕

第６図は，例えば特公昭６３−５８０２号公報に示され
た従来の磁気ヘッドの製造方法で得た磁気ヘッドのブロ
ック斜視図を示すものであり，図において（ｔａ）（ｔ
ｂ）はそれぞれフエライト等からなるコアブロック、《
２》はガラス留めとなるガラス溝、《３》はトラック幅
を決定するための狭トラック幅規制用溝、（５）は上記
ガラス溝（２）及び狭トラック幅規制用溝（３）内に溶
融・充填された溶着ガラス，（旬はコイルを巻《ための
巻線窓、（７》はギャップ、（８）は媒体摺動向である
。

この様に構成された磁気ヘッドブロックは、溶着ガラス
（５》で充填された狭トラック幅規制用溝（３】上を，
砥石等でＡ−Ａ線で切断され個別ヘッドと成る。

一方、上記の様に構成された磁気ヘッドブロックは、第
７図に示す工程で製造される。まず第７図（ａ）に示す
ように、フエライト等からなる素材を砥石等で切断、研
削して直方体のコアブロック（１）を形成する。次に第
７図（ｂ）に示すように上記コアブロック（１）上面に
、前記コアブロック（１）の長手方向にガラス留めとな
るガラス溝《２》と、前記コアブロック（１）の外側縁
に沿って磁気ヘッドのトラック幅を．決定する狭トラッ
ク幅規制用溝（３》を、回転砥石を用いた研削加工で形
成する。ここでガラス溝（２）の形状は丸溝、角溝等の
いかなる形状であっても良い。次に第７図（ｃ）に示す
ように、ガラス溝（２》にガラス棒（４》を置いて不活
性ガス雰囲気中で、ガラスの作業点以上に高温加熱する
と、ガラス棒（４）が溶融し、ガラス溝（２）、狭トラ
ック幅規制用溝（３】内に、溶着ガラス（６）が充填さ
れ、第７図（ｄ）に示す様になる。なお、この際に、高
温加熱する作業温度を上げ過ぎると溶融した溶着ガラス
（５》は、上記コアブロックｆｌｌ面より流れ落ちるが
、適当な温度で処理すると、表面張力のために溶着ガラ
ス（５）は流れ落ちずに、コアブロック（１）上面のみ
を覆うように固化されることが出来る。次に第７図（ｅ
）に示すように上記コアブロック（１）上の溶着ガラス
（５》を研削等で除去し、コアブロック（１）の上面を
露出させ第７図（ｆ）に示すように，コアブロック（１
）の長手方向にコイルを巻《ための巻線窓（６》を研削
加工する。次に、ヘッドギャップとなる酸化シリコン（
Ｓｉｆｔ）等の非磁性材料をスパッタリング、蒸着等、
薄膜形成技術により、上記コアブロック（１）上に形成
する（図示せず）。上記の方法により得られた一対の溶
着ガラス（６）が充填されたコアブロック（１）を線対
称に接合し、不活性ガス雰囲気中で高温加熱すると、狭
トラック幅規制用溝（３》及びガラス溝《２》内の溶着
ガラス（５）が溶融し、一体化するため、両コアブロッ
クｔｔａ）　（１ｂ）は溶着され、第６図に示す磁気ヘ
ッドブロックは完成する。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来の磁気ヘッドの製造方法における溶着ガラスの溶融
・充填方法は、コアブロック（１１上に溶着ガラス（５
）を溶融し、ガラス溝《２１及び狭トラック幅規制用溝
（３）に充填するが、溶着ガラス（５）とコアブロック
（１）との濡れ性が悪《、充填性も悪いため、溶着ガラ
スの溶融・充填作業温度をガラスの作業点以上に設定し
、ガラスの粘性を低下させて充填性を上げて用いていた
。

しかるに，この様に作業点以上の温度に加熱された溶着
ガラス（５）は，粘性が低下するものの、活性化しコア
ブロック（１）を浸食して、コアブロック（１）の磁気
特性を劣化させ、士気ヘッドの性能は低下させてしまう
という問題が生じた。さらに、コアブロック（１）と溶
着ガラス（５）との濡れ性が悪いため狭トラック幅規制
用溝（３）にガラスが充填される際に気泡が巻き込まれ
、磁気ヘッドの摺動面における溶着ガラス（５）の表面
層に気泡が表れ、磁気ヘッドの媒体摺動時にこの気泡上
のガラス層が削られ、凹部となり、この凹部の縁部で媒
体の損傷を引き起こしたり、凹部に媒体の磁性粉が詰ま
り、磁気ヘッドと媒体間にスペーシングが生じ、いわゆ
るヘッドづまりが発生し、士気ヘッドの特性が劣化する
という問題も生じた。

本発明は、かかる課題を解決するためになされたもので
、コアブロックと溶着狐スの濡れ性及び充填性を改善す
ると共にコアブロックへの溶着ガラスの浸食を防止し、
溶着ガラス中の気泡の発生を減少させ、高品質、高信頼
性の磁気ヘッドの製造方法を得ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の磁気ヘッドの製造方法は、磁気ヘッドの構成部
材を形成するコアブロックの狭トラック幅規制用溝の内
表面に、スパッタリングあるいは蒸着等の薄膜形成技術
により、薄膜状のガラス層を形成した後に上記薄膜状の
ガラス層上で、溶着ガラスを溶融し、上記狭トラック幅
規制用溝内に、ガラスを充填したものである。

〔作用〕

本発明においては、薄膜状のガラス層が、軟化点以上の
温度で軟化するため、溶着ガラスの溶融・充填温度で、
薄膜状ガラス層が軟化して溶着ガラスと一体化して上記
狭トラック幅規制用溝を充填するので、溝内に充填され
るガラスとコアブロックとの濡れ性を改善させ、気泡等
の巻き込みを抑えて、充填性も改善させる。したがって
、薄膜状のガラス層が、溶着ガラスとして粘．性の比較
的大きな状態で狭トラック幅規制溝内に充填させても気
泡等の欠陥発生を抑え、溶着ガラスの溶融・充填作業温
度を低下させることができ、ガラスのコアブロックへの
浸食を押されることができる。

さらに、薄膜状のガラス層は、スパッタリング、蒸着等
の薄膜形成技術により形成されるため、薄膜状のガラス
層中の気泡も軽減できる。

〔実施例〕

以下にこの発明の一実施例を第１図及び第２図に基づい
て説明する。第１図は磁気ヘッドブロックの斜視図を示
し、第１図において（１）〜（８目よ，上記第６図に示
した従来の磁気ヘッドブロックの構成部と同一である。

（９）はコアブロック（１）と溶着ガラス（５》との間
に介在された薄膜状のガラス層で溶着ガラス溶融・充填
前に，スパッタリングあるいは蒸着等の薄膜形成技術で
形成されたものである。

なお、第１図において、薄膜状のガラス層（８》と区 溶着ガラス（５）とを碩別して図示しているが、実際に
は溶着ガラス（６）と一体化し、識別できない。

次に、上記の様に構成された磁気ヘッドブロックの製造
方法を説明する。まず、従来の技術で説明したものと同
様に第７図（ａ）及び（ｂ）に示した工程まで行ない、
コアブロック（１）の上面に、ガラス溝（２）及び狭ト
ラック幅規制用溝（３》を形成する。次に、第２図（ａ
）に示すように狭トラック幅規制用溝（３》及びガラス
溝（２）の内表面を含んだコアブロック（１）上全面に
、スパッタリングあるいは蒸着等の薄膜形成技術により
薄膜状のガラス層（９）を被着する。その後、第２図（
ｂ）に示すように、ガラス溝（２）上にガラス棒（４）
を置いて、不活性ガス雰囲気中で高温加熱をおこない、
狭トラック幅規制溝（３）に溶着ガラス（５）を充填す
る。次に、従来の技術で示したと同様に、コアブロック
（１）上の溶着ガラス（５）を研削等で除去してコアブ
ロック（１）上面を露出させ、巻線窓（６）を研削加工
にて形成し、コアブロック（１）上にヘッドギャップと
なる酸化シリコン層を形成する。

この様にして形成された溶着ガラス（５）がガラス溝（
２】及び狭トラック幅規制用溝（３）に充填された一対
のコアブロック（ｌａ）　（ｌｂ）を線対称に接合して
一体化し、第１図に示した磁気ヘッドブロックを得る。

その後、図示Ａ−Ａで示した切断線に沿って切断して個
別の磁気ヘッドを得るものである。

次に、発明者等は薄膜状のガラス層（９》の膜厚を種々
変えたものを製作し，検討を行なったところ、膜厚がＩ
ＯＯＯＡ未満の厚さのものは、溶着ガラス（５》の高温
加熱によってガラス層（９）が溶融した際に表面張力に
より縞状となり、濡れ性のばらつきを生じ、数μｍを越
えた厚さのものはガラス層（９）の形成に長時間必要と
し、量産性に劣り、実用上問題があった。

従って、ガラス層（９）の膜厚は１（１００Ａ以上数μ
ｍ以下が好ましいものである。

また、発明者等は、溶着ガラス（５）の加熱温度と、俗
着ガラス（５）のガラス溝《２》及び狭トラック幅規制
用溝（３》内への充填性及び溶着ガラス（５》のコアブ
ロック（１）への浸食との関係について検討を加えた。

加熱温度と粘性との関係は、第３図に示すように、加熱
温度が高くなる程、粘性が低くなるものであり、従来の
ものにおいては、ガラス溝（２》及び狭トラック幅規制
用溝（３）内の充填性を上げるために低い粘性が必要で
あり、加熱温度を作業点（６５０’Ｑ）以上にしていた
ものであった。これに対して、薄膜形成技術によって形
成したガラス層（９）を設けた上記実施例の、も・のに
あっては、加熱温度がガラスの軟化点以上であれば、溶
融ガラス（５》の粘性が従米方法に比して高くとも，ガ
ラスの軟化点以上となると薄膜状のガラス層（９》が軟
化するため、溶着ガラス（５》がこのガラス層（９）と
一体化するので、コアブロックとの濡れ性は急激に向上
し、それに伴い、充填性も向上したことによるものと考
えられる。

しかも、加熱温度がガラスの軟化点以上で、溶着ガラス
＋５１を両溝＋２１　（３）内に欠陥な《充填できるた
め、加熱温度を作業点（５５０°）禾満に抑えられるの
で、溶着ガラス（５）の活性化を押さえることができ、
溶着ガラス慢》のコアブロック（１）内への浸食は抑制
され、コアブロック（１）内への浸食は抑制され、コア
ブロック（１）の磁気特性の低下を抑制できる。

従って、溶着ガラス《５》の加熱温度は、ガラスの軟化
点以上、ガラスの作業点未満にするのが好ましいもので
ある。

上記の様に製造された磁気ヘッドにあっては、ガラス層
（９》を薄膜技術によって形成したため、ガラス層（９
）中の気泡の発生がな＜、シかも，このガラス層《９》
によって溶融ガラス（５｝とコアブロック（１）との密
着性を良好にして、ガラス溝《２》及び狭トラツク幅規
制用溝（３》内への溶着ガラス（５）の充填性をラス（
５》が、一体化して充填されることにより、気泡を巻き
込むことも少ない。さらに、溶着ガラス（５）の加熱温
度を作業点以下に抑えられるため、コアブロック（１）
への溶着ガラス（５》の侵透を防げ、コアブロック（１
ノの磁気特性の低下を抑えられる。その結果、品質及び
信頼性が向上するという効果を有しているものである。

第４図はこの発明の他の実施例を示すものであり、まず
、第４図（ａ）に示すように、二つのコアブロック（ｌ
ａ）　（ｌｂ）を溶着した後、狭トラック幅規制用溝（
３冫を加工し、上記狭トラック幅規制用溝（３】の内表
面を含んだコアブロック《ｔａ）　＋ｌｂ）の全表面に
、スパッタリングあるいは蒸着等の薄膜形成技術により
薄膜状のガラス層（９）を形成し、次いでガラス溝（２
１上にガラス棒（４）を置いてガラスを溶融・充填した
後、第４図（ｂ）に示すようにコアブロック（ｌａ）　
（ｘｂ）の全表面を露出する様に溶着ガラス（５）を研
磨する。その後図示Ａ−Ａ切断線に沿って切断して個別
の磁気ヘッドを得る。

この様に構成されたものにおいても，ガラスの漏れ性、
充填性は向上し、ガラスの溶融時の加熱温度を低下させ
ることができ、コアブロックへのガラスの浸食は減少で
き、上記実施例と同様の効果を奏するとともに、士気ヘ
ッド特性に太き《影響するギャップ材への溶着ガラス（
旬の浸食も軽減できる。

第５図はさらに他の実施例を示すものであり、第４図に
示したものに対して、コアブロック（ｌａ）第４図に示
したものと同様に製造することにより、同様の効果が得
られると共に、合金磁性材料叫への溶着ガラス（６】の
浸食も軽減でき、高温上昇に伴って生じる。合金磁性膜
αｑとコアブロック（１１の拡散反応を押さえることが
できる。したがって、合金磁性膜四とコアブロック（１
）介面に拡散反応層が生じることによる擬似ギャップに
基づく、磁気ヘッド特性を低下させることがな《、良好
な礎気ヘツド特性が得られる効果も有するものである。

なお上記実施例においては、２つのコアブロックを形成
する磁気ヘッドの製造方法について説明したが、これに
限られるものではな《、その他の磁気ヘッドの製造方法
にも適用出来ることは言うまでもない。

〔発明の効果〕

この発明は、以上に述べたように、少なくとも狭トラッ
ク幅規制用溝の内表面にスパッタリングあるいは蒸着等
の薄膜形成技術により薄膜状のガラス層を被着した後、
前記溝内にガラスを充填したので、上記ガラスのコアブ
ロックと濡れ性、及び狭トラック幅規制用幅への充填性
が向上し、気泡の発生も低減出来るとともに、ガラスを
溶融・充填する際の加熱温度も、低下でき、コアブロッ
植 クへのガラスの浸食が援減できるため、高品質、高信頼
性の磁気ヘッドを得ることが出来るという効果を有する
ものである。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図はこの発明の一実施例を示し第１図は
硼気ヘッドブロックを示す斜視図、第２図は工程順に示
す要部斜視図、第３図はガラスの加熱温度と粘性との関
係を示す図、第４図は、この発明の他の実施例を工程順
に示す要部斜視図、第５図はこの発明の更に他の実施例
を示す磁気ヘッドブロックの要部斜視図、第６図及び第
７図は従来の技術を示し、第６図は磁気ヘッドブロック
の斜視図、第７図は工程順に示す斜視図である．。 図において、（ｌ）はコアブロック、《３》は狭トラッ
ク幅規制用溝、（６》は溶着ガラス、（９》は薄膜状の
ガラス層である。 なお、各図中同一符号は、同一又は相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 磁気ヘッド構成部材を形成するブロックに磁気ヘッドの
   トラック幅を決定する溝を形成する工程と、少なくとも
   前記溝の内表面にスパッタリングあるいは蒸着等の薄膜
   形成技術によりガラス層を被着した後、前記溝内にガラ
   スを充填する工程を有する磁気ヘツドの製造方法。