JPS6331014A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、磁性層に非晶質磁性合金を用いた磁気ヘッド
の製造に関する。

〔従来の技術〕

近年、磁気記録再生装置の高密度記録化に伴い、磁気記
録媒体の改良とともに、磁気ヘッドの改良も進められて
いる。その−例として、磁性層に非晶質磁性合金を用い
たものがｕ案されており、これによって、退位率などの
磁気特性に優れ、かつ機械的特性に優れた磁気ヘッドが
実現可能となっている。

かかる磁気ヘッドは、基体上に、スパッタ法や蒸着法を
用いて、非晶質磁性合金からなる磁性層とその上にＳ　
ｔ　Ｏｔなどからなる保護膜とを形成してコア半体を形
成し、２個のコア半体を低融点ガラスで接合することに
よって形成されるものであり、この接合部でヘッドギャ
ップが形成される。

また、２個のコア半体を接合する場合には、まず、夫々
のコア半体上に低融点ガラスのバルクを乗せて電気炉内
で加熱し、低融点ガラスを溶融させて保ｒｌ膜上に低融
点ガラスの屡を作る。その後、冷却して低融点ガラスを
凝固させ、低融点ガラスの表面を平坦に研摩する０次に
、互いの低融点ガラスの表面が当接するようにして２個
のコア半体を重ね、再び電気炉内で加熱して夫々の低融
点ガラスを熔融させる。その後、冷却することによって
低融点ガラスを凝固される。これによって２個のコア半
体が接合する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、このようにして２個のコア半体を接合す
ると、次のような問題が生じた。

（１）低融点ガラスは、それが溶融されるためには、４
５０℃〜４７０℃の高温に約２０分加熱される。かかる
加熱温度は各コア半体の非晶質磁性合金の薄膜（非晶質
磁性合金薄膜）の結晶化温度（５００℃〜５３０℃）に
近い、そこで、上記従来のように２個のコア半体を接合
する場合には、非晶［性合金薄膜がその結晶化温度付近
まで加熱され、しかも、低融点ガラスをコア半体に付着
されるときとこれが付着された２つのコア半体を接着さ
せるときの２度も加熱されることになる。

この結果、非晶質磁性合金薄膜は、低融点ガラスを溶融
させる前後の過熱冷却期間も含めると、その結晶化温度
付近の４００℃以上に約６０分と長時間加熱された状態
となり、その磁気特性が劣化してしまうことになる。そ
の−例を示すと、この加熱により、保磁力は０．２〜０
．５０．から１〜２０、ｌまで、場合によっては数０．
まで劣化する。

（２）低融点のガラスのバルクが溶融するときに、コア
半体の保護膜と低融点ガラスとの界面付近に気泡が発生
し、低融点ガラスが凝固するときに直径５〜５０μｍ程
度の気泡が残留する。そこで、摺動面の研摩処理を行う
と、この気泡が磁気ヘッドの媒体摺動面に現れ、この媒
体摺動面に小さな多数のくぼみが生じて、記録媒体に傷
などをつけることになる。このことから、磁気ヘッドと
して好ましくないものとなり、歩留りが低下するという
問題があった。

（３）　　溶融した低融点ガラスはＳ　＋　Ｏｔなどの
保護膜との濡れ性が悪い、このために、２個のコア半体
間に充填されてこれらを接合するに必要な量だけの低融
点ガラスを使用すると、低融点ガラスが溶融したとき、
２個のコア半体間から多量の低融点ガラスが逃げてしま
い、これら２個のコア半体間を完全には充填するに至ら
ない、そこで、実際には、コア半体間に充填するに必要
な量の１００倍近い非常に多量な低融点ガラスが使用さ
れている。これによると、２個のコア半体間に低融点ガ
ラスが充分充填され、これらが堅固に結合するが、使用
される溶融低融点ガラスのほとんどはコア半体に設けら
れている巻線窓に流れ込んでしまい、これを除去するた
めの作業が必要となる。このことから、この磁気ヘッド
の生産性が低いという問題があった。

（４）上記のように、２個のコア半体を接合する場合、
低融点ガラスを溶融し、その後、冷却されて低融点ガラ
スが凝固するが、冷却されるにつれて低融点ガラスに残
留熱応力が発生する。ところが、上記（３）で説明した
ように、非常に多量の低融点ガラスが用いられると、そ
の残留熱応力も非常に大きなものとなり、しかも、低融
点ガラスに比べてコア半体の基体の熱膨張率が小さいこ
とから、コア半体の基体が歪んでしまうことになる。こ
のために、ギャップ形成面の研摩加工に長時間を要する
し、ヘッドギャップ幅の精度も悪化し、生産性１歩留り
に問題があった。

本発明の目的は、かかる従来技術の問題点を解消し、磁
気特性が優れ、生産性１歩留りが向上した磁気ヘッドの
製造方法を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明は、コア半体に低融
点ガラスをスパッタもしくは蒸着し、形成された低融点
ガラス層を突き合わせて加熱、溶融することにより、２
個のコア半体を接合するものである。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面によって説明する。

第１図は本発明による磁気ヘッドの製造方法の一実施例
を示す工程図であって、１は基体、２は非晶質磁性合金
薄膜、３は保ｍｓ、４はギャップ形成面、５は巻線窓、
６はトラック溝、７は低融点ガラス、８はギャップ規制
膜である。

ここでは、単体の基体にコア半体が多数形成されている
場合について説明する。

すなわち、第１図（８）において、基体１には、矢印Ａ
方向にＵ学校の溝が多数設けられており、これら溝間の
山部の頂部は全て同一平面内に平坦に研摩されている。

また、この基体１には、これら溝の方向（矢印Ａ）とは
直交する方向に、後に巻線用５となる溝が設けられてい
る。この基体１の全表面に、スパッタ法などにより、た
とえばＣＯＮ　ｂ　　Ｚ　、の非晶質磁性合金薄膜２．
さらにその上にＳ、Ｏ，の保護膜３が形成されている。

これがコア半体の複合体であり、その表面には、基体１
のＵ字状溝毎にＵ字状のトラック溝６が形成されており
、トラック溝６間の山部の頂部は全て同一平面内で平坦
に研磨加工されてギャップ形成面をなしている。この重
合体では、トラック溝６の中心から隣りのトラック溝６
の中心までが１つのコア半体であり、図では、４個のコ
ア半体が一体となっている。

この複合体の全表面に、トラック溝６が充分埋設しトラ
ック溝６の深さよりも若干厚くなるように、低融点ガラ
スをスパッタもしくは蒸着する。

第１図中）は低融点ガラス層が形成された複合体を、第
１図ｆａｌの矢印入方向に垂直な方向で切断して示して
示したものである。しかる後、第１図（ｂｌにおいて、
ギャップのトラック幅を所定値に設定するために、複合
体の表面を一点ｕｔ線まで研磨する。

一方、第１図（ａｌと同様の構成をなしているが、巻線
窓のための溝をもたないコア半体の複合体も形成してお
き、これにも同様に低融点ガラスをスパッタもしくは蒸
着し、第１図（ト））のように、ギャップのトラック幅
設定のための研磨を行う。

これら複合体の研磨面はトラック形成面と呼ばれるが、
これら異なる複合体の夫々のトラック形成面に低融点ガ
ラスを所定膜厚にスパッタもしくは蒸着し、ギャップ幅
を決定するギャップ規制膜８を形成する。そして、これ
ら異なる複合体はそれらのギャップ規制膜が対向するよ
うにして突き合わされて加熱される。この加熱により、
低融点ガラスは溶融し、これら複合体は接合する。

第１図（ｅｌは２つの複合体が接合された状態を示して
いる。

この接合体を低融点ガラスＮ７の中心を通る二点ａ線に
沿って矢印入方向に切断することにより、磁気へラドコ
アが得られる０図では、この接合体から４個の磁気ヘッ
ドコアが得られ、この接合体を切断して得られかつ仕上
げ加工された磁気ヘッドコアを第２図に示す、これに巻
線窓５を通してＳ線を施すことにより、磁気ヘッドが完
成する。

この実施例において、低融点ガラスはスパッタもしくは
蒸着される。スパッタ中の温度はプラズマの影響で測定
できないが、スパッタ終了直後の温度は２００℃前後で
あるから、スパッタ中もほぼこの温度であると考えられ
る。また、低融点ガラスの蒸着中の温度は１５０℃以下
である。したがって、低融点ガラス層をスパッタ法もし
くは蒸着法で形成しても、コア半体の非晶質磁性合金薄
膜は、その結晶化温度よりも充分低い温度に加熱される
だけであり、スパッタもしくは蒸着に長時間を要しても
、非晶質磁性合金薄膜の磁気特性は何ら影響されない。

また、このように低融点ガラス層が形成されたコア半体
を突き合わせて接合する場合、この点融点ガラス層を加
熱して溶融させるために非晶質磁性合金薄膜はその結晶
化温度近くまで加熱されるが、この加熱期間は短いから
、非晶質磁性合金薄膜の磁気特性の劣化はわずかである
。すなわち、非晶質磁性合金薄膜の結晶化温度近くまで
の加熱期間は、上記実施例の場合、従来の技術のほぼ半
分となり、したがって、非晶質磁性合金薄膜はほとんど
最良な磁気特性を保持する。実際、保磁力は殆ど変化し
なかった。

上記実施例では、低融点ガラスは保護膜上にスパッタ法
もしくは蒸着法によって形成されるが、これによると、
低融点ガラスは保護膜表面にほぼ均一に付着形成される
。このために、低融点ガラスの使用量はコア半体の充填
されなければならない部分の容量の数倍程度であり、上
記従来技術に比べて大幅に低減できる。この結果、２個
のコア半体を接合しても、巻線窓の低融点ガラスによる
目詰まりがなくなって、上記従来技術のような巻線窓に
流れ込んだ低融点ガラスを取り除く作業が不必要となる
。また、低融点ガラスの使用量が大幅に低減するから、
コア半体を接合した後の低融点ガラスに生ずる残留熱応
力が小さく、コア半体の基体の歪みや反りが大幅に低減
される。このために、ギャップ形成面の研磨加工やギャ
ップのトラック幅の正確な設定のための加工が容易にな
る。

さらに、低融点ガラスは、溶融することなく、気相から
直接固相へ変化して保護膜上に形成されるから、保護膜
と低融点ガラスとの界面付近に気泡が発生することはな
い、このために、形成された磁気ヘッドの媒体摺動面は
極めて滑らかな面となる。

なお、本発明は、上記の磁気ヘッドに限らず、磁性層に
非晶ｔｍ性合金を用いる他の磁気ヘッドにも適用可能で
あることはいうまでもない。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、コア半体の接合
のための高温加熱時間が大幅に削減できて非晶Ｗｍ性合
金薄膜の磁気特性の劣化を防止できて、磁気ヘッドの磁
気特性が大幅に向上し、また、コア半体の接合に使用す
る低融点ガラスの量を大幅に低減できるから、巻線窓で
の低融点ガラスの目詰まりやコア半体の歪み２反りなど
を防止でき、製造工程が大幅に削減できて磁気へウドの
生産性が大幅に向上し、さらに、低融点ガラスをコア半
体に接着する際に気泡の発生を防止できて磁気ヘッドの
媒体摺動面が極めて滑らかとなり、磁気ヘッドの歩溜り
が大幅に高くなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による磁気ヘッドの製造方法の一実施例
を示す工程図、第２図はこの実施例によるヘッドコアを
示す斜視図である。 １・・・基体、２・・・非晶質磁性合金薄膜、３・・・
保護膜、４・・・ギャップ形成面、５・・・巻線窓、７
・・・低融点ガラス。 第１図 （ａ） （ｂ） 第１図 （Ｃ） 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非晶質磁性合金薄膜を磁性層として用いた２個のコア半
   体が接合されてなる磁気ヘッドの製造方法において、該
   コア半体の夫々にスパッタ法もしくは蒸着法によつて低
   融点ガラス層を形成し、該低融点ガラス層を突き合わせ
   て加熱、溶融することにより、２個の該コア半体を接合
   したことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。