JPH08147621A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH08147621A JPH08147621A JP28626994A JP28626994A JPH08147621A JP H08147621 A JPH08147621 A JP H08147621A JP 28626994 A JP28626994 A JP 28626994A JP 28626994 A JP28626994 A JP 28626994A JP H08147621 A JPH08147621 A JP H08147621A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- alloy thin
- magnetic head
- gap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 酸化物磁性材料上に磁性合金薄膜を形成する
ＭＩＧ型磁気ヘッドにおいて、疑似ギャップの発生を防
止し、かつトラック幅を精度良く得ることができる構造
を有する磁気ヘッドを提供する。 【構成】 酸化物磁性材料上に形成した磁性合金薄膜を
１層毎種類を変え、磁気ギャップ形成面に近い程透磁率
の高い磁性合金薄膜を配置した構造を有するＭＩＧ型磁
気ヘッド。あるいは前記の磁性合金薄膜を１層毎薄膜の
厚さを変え、磁気ギャップ形成面に近い程厚さの薄い磁
性合金薄膜を配置した構造を有するＭＩＧ型磁気ヘッ
ド。
ＭＩＧ型磁気ヘッドにおいて、疑似ギャップの発生を防
止し、かつトラック幅を精度良く得ることができる構造
を有する磁気ヘッドを提供する。 【構成】 酸化物磁性材料上に形成した磁性合金薄膜を
１層毎種類を変え、磁気ギャップ形成面に近い程透磁率
の高い磁性合金薄膜を配置した構造を有するＭＩＧ型磁
気ヘッド。あるいは前記の磁性合金薄膜を１層毎薄膜の
厚さを変え、磁気ギャップ形成面に近い程厚さの薄い磁
性合金薄膜を配置した構造を有するＭＩＧ型磁気ヘッ
ド。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＶＴＲ用ビデオヘッドと
して使用される磁気ヘッドに関し、特に歩留と生産性向
上を図った磁気ヘッドに関するものである。
して使用される磁気ヘッドに関し、特に歩留と生産性向
上を図った磁気ヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】酸化物磁性材料と合金磁性薄膜等、２種
の磁性材料を用いた従来の磁気ヘッドにおいては、２種
の磁性材料の接合面を磁気ギャップと平行にしたものが
ある。本方法によれば生産性は良好であるが２種の磁性
材料接合面が疑似ギャップとして作用し、大きく磁気特
性を劣化させる。
の磁性材料を用いた従来の磁気ヘッドにおいては、２種
の磁性材料の接合面を磁気ギャップと平行にしたものが
ある。本方法によれば生産性は良好であるが２種の磁性
材料接合面が疑似ギャップとして作用し、大きく磁気特
性を劣化させる。
【０００３】そのため、図３に示すように、２種の磁性
材料接合面と磁気ギャップが平行にならないよう、高透
磁率磁性材料、通常は酸化物磁性材料１、例えば単結晶
フェライトにＶ字状溝を設け、その上にもう一方の磁性
材料、通常は合金磁性薄膜２をスパッタリング等で形成
し、疑似ギャップの発生を防止する方法が提案されてい
る。なお、図４はこの方法で構成された磁気コアを示
す。
材料接合面と磁気ギャップが平行にならないよう、高透
磁率磁性材料、通常は酸化物磁性材料１、例えば単結晶
フェライトにＶ字状溝を設け、その上にもう一方の磁性
材料、通常は合金磁性薄膜２をスパッタリング等で形成
し、疑似ギャップの発生を防止する方法が提案されてい
る。なお、図４はこの方法で構成された磁気コアを示
す。
【０００４】しかし、本方法ではトラック幅となる部分
６が、Ｖ字状の先端部分をラップマスター等で研磨して
形成されるので、研磨量によりトラック幅が決定され、
その精度確保が困難である。一方、最近のＶＴＲ用ビデ
オヘッドに要求されるトラック幅精度は±１μｍ以下で
ある。このためトラック幅不良発生の割合が高く、生産
歩留が低下する。
６が、Ｖ字状の先端部分をラップマスター等で研磨して
形成されるので、研磨量によりトラック幅が決定され、
その精度確保が困難である。一方、最近のＶＴＲ用ビデ
オヘッドに要求されるトラック幅精度は±１μｍ以下で
ある。このためトラック幅不良発生の割合が高く、生産
歩留が低下する。
【０００５】そこで、２種の磁性材料接合面と磁気ギャ
ップが平行になっても２種の磁性材料接合面が疑似ギャ
ップとして作用しないよう磁気ギャップ形成面に、Ｃｒ
等の非磁性金属薄膜を形成する方法が提案されている。
しかし、本方法でも完全に疑似ギャップの作用を防止す
ることはできず、良好な電磁変換特性を得ることが困難
である。
ップが平行になっても２種の磁性材料接合面が疑似ギャ
ップとして作用しないよう磁気ギャップ形成面に、Ｃｒ
等の非磁性金属薄膜を形成する方法が提案されている。
しかし、本方法でも完全に疑似ギャップの作用を防止す
ることはできず、良好な電磁変換特性を得ることが困難
である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前述の従来技術では電
磁変換特性劣化に繋る疑似ギャップ発生を完全に防止
し、かつトラック幅精度不良による生産歩留低下を防ぐ
ことは前述したように困難である。本発明はこれらの欠
点を除去し疑似ギャップ発生を防止しながら生産歩留が
高く、生産性の良いＭＩＧ型磁気ヘッドを提供すること
を目的とする。
磁変換特性劣化に繋る疑似ギャップ発生を完全に防止
し、かつトラック幅精度不良による生産歩留低下を防ぐ
ことは前述したように困難である。本発明はこれらの欠
点を除去し疑似ギャップ発生を防止しながら生産歩留が
高く、生産性の良いＭＩＧ型磁気ヘッドを提供すること
を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するため酸化物磁性材料上にスパッタ等で形成する
磁性合金の多層膜を１層毎種類を変え、かつ、その配置
が磁気ギャップ形成面に近くなるほど、透磁率の高い順
に並べるようにしたものである。また、同様の目的のた
め、前記の磁性合金薄膜の厚さを変え、磁気ギャップ形
成面に近くなるほど薄くなるように順に並べるようにし
たものである。
達成するため酸化物磁性材料上にスパッタ等で形成する
磁性合金の多層膜を１層毎種類を変え、かつ、その配置
が磁気ギャップ形成面に近くなるほど、透磁率の高い順
に並べるようにしたものである。また、同様の目的のた
め、前記の磁性合金薄膜の厚さを変え、磁気ギャップ形
成面に近くなるほど薄くなるように順に並べるようにし
たものである。
【０００８】磁性合金薄膜の種類を変えるのは多元スパ
ッタ装置を用いれば容易であり、また、膜厚を変えるに
はスパッタ時間を調整すれば良い。さらに多種類の磁性
合金薄膜形成のためのターゲットは例えば、Ｃｏ−Ｚｒ
−Ｎｂから成るアモルファスであればその組成比率を少
しずつ変えることにより得ることができる。
ッタ装置を用いれば容易であり、また、膜厚を変えるに
はスパッタ時間を調整すれば良い。さらに多種類の磁性
合金薄膜形成のためのターゲットは例えば、Ｃｏ−Ｚｒ
−Ｎｂから成るアモルファスであればその組成比率を少
しずつ変えることにより得ることができる。
【０００９】
【作用】その結果、疑似ギャップの発生は、透磁率が異
なる磁性合金薄膜が接することによる相互作用により防
止でき、磁気ギャップ形成面を酸化物磁性材料と磁性合
金薄膜との接合面を非平行にする方法をとらなくてもよ
い。このため酸化物磁性材料上にＶ字状の溝を設ける必
要がなく、歩留の良いＭＩＧ型ヘッドを生産性良く得る
ことができる。
なる磁性合金薄膜が接することによる相互作用により防
止でき、磁気ギャップ形成面を酸化物磁性材料と磁性合
金薄膜との接合面を非平行にする方法をとらなくてもよ
い。このため酸化物磁性材料上にＶ字状の溝を設ける必
要がなく、歩留の良いＭＩＧ型ヘッドを生産性良く得る
ことができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１、２により説
明する。図１は本発明の磁気ヘッドのＩコアあるいはＣ
コアの断面図であり、図２は本発明による磁気ヘッドの
斜視図である。１は酸化物磁性材料で通常は単結晶フェ
ライトが用いられ、２は合金磁性薄膜で通常はアモルフ
ァスが用いられる。また３は磁気ギャップで高融点ガラ
ス等が使用され、４はトラック幅制御溝で通常は低融点
ガラスが充填され、５は巻線溝である。
明する。図１は本発明の磁気ヘッドのＩコアあるいはＣ
コアの断面図であり、図２は本発明による磁気ヘッドの
斜視図である。１は酸化物磁性材料で通常は単結晶フェ
ライトが用いられ、２は合金磁性薄膜で通常はアモルフ
ァスが用いられる。また３は磁気ギャップで高融点ガラ
ス等が使用され、４はトラック幅制御溝で通常は低融点
ガラスが充填され、５は巻線溝である。
【００１１】本発明の磁気ヘッドを得るため、まず、酸
化物磁性材料上に磁性合金薄膜を形成する。この時形成
する磁性合金薄膜は多元スパッタ装置を用い透磁率の低
い順に数種のターゲットをスパッタする。または一種の
磁性合金をターゲットにする時は磁性合金薄膜厚さが厚
い順に並ぶようスパッタ時間を調整する。次にトラック
幅制御溝を通常の磁気ヘッドと同様に既知の方法でダイ
サーあるいはワイヤソーを用いて形成する。かかる後に
Ｃコアとなる方の磁気コアに巻線溝を設け、磁気ギャッ
プ形成面にスパッタ等で高融点ガラス薄膜を形成し、電
気炉等で磁気ギャップを作製する。もちろん磁気ギャッ
プ長は高融点ガラス薄膜により規制する。さらにトラッ
ク幅制御溝に低融点ガラスを充填し、やはり電気炉等で
溶融、固着させる。次に所望する大きさに１対になった
磁気ブロックを切断し磁気ヘッド用チップを得る。以上
の方法により製作した磁気ヘッドチップを所定のベース
に接着剤を用いて所望する位置に接着し、その後巻線を
施し本発明の磁気ヘッドを得る。
化物磁性材料上に磁性合金薄膜を形成する。この時形成
する磁性合金薄膜は多元スパッタ装置を用い透磁率の低
い順に数種のターゲットをスパッタする。または一種の
磁性合金をターゲットにする時は磁性合金薄膜厚さが厚
い順に並ぶようスパッタ時間を調整する。次にトラック
幅制御溝を通常の磁気ヘッドと同様に既知の方法でダイ
サーあるいはワイヤソーを用いて形成する。かかる後に
Ｃコアとなる方の磁気コアに巻線溝を設け、磁気ギャッ
プ形成面にスパッタ等で高融点ガラス薄膜を形成し、電
気炉等で磁気ギャップを作製する。もちろん磁気ギャッ
プ長は高融点ガラス薄膜により規制する。さらにトラッ
ク幅制御溝に低融点ガラスを充填し、やはり電気炉等で
溶融、固着させる。次に所望する大きさに１対になった
磁気ブロックを切断し磁気ヘッド用チップを得る。以上
の方法により製作した磁気ヘッドチップを所定のベース
に接着剤を用いて所望する位置に接着し、その後巻線を
施し本発明の磁気ヘッドを得る。
【００１２】
【発明の効果】本発明による磁気ヘッドは、磁気ギャッ
プと酸化物磁性材料と合金磁性薄膜接合面が平行になっ
ていても透磁率の異なる磁性合金薄膜が多層になってい
るため、各磁性合金薄膜の磁気フラックスの相互作用に
より疑似ギャップの発生が防止できる。また、磁性合金
薄膜の厚さを順に変えていく場合も、結果的に透磁率の
異なる磁性合金薄膜を並べていった場合と同様である。
よって、酸化物磁性材料にＶ字状溝を施し、その先端を
研磨し、トラック幅を決定する必要がなく、トラック幅
決め研磨工程での精度不良発生が無く加工工数も短縮で
きる。したがって、疑似ギャップの発生を防止し電磁変
換特性に優れたＭＩＧ型磁気ヘッドを歩留良く得ること
ができ、生産性も向上することができる。
プと酸化物磁性材料と合金磁性薄膜接合面が平行になっ
ていても透磁率の異なる磁性合金薄膜が多層になってい
るため、各磁性合金薄膜の磁気フラックスの相互作用に
より疑似ギャップの発生が防止できる。また、磁性合金
薄膜の厚さを順に変えていく場合も、結果的に透磁率の
異なる磁性合金薄膜を並べていった場合と同様である。
よって、酸化物磁性材料にＶ字状溝を施し、その先端を
研磨し、トラック幅を決定する必要がなく、トラック幅
決め研磨工程での精度不良発生が無く加工工数も短縮で
きる。したがって、疑似ギャップの発生を防止し電磁変
換特性に優れたＭＩＧ型磁気ヘッドを歩留良く得ること
ができ、生産性も向上することができる。
【図１】本発明による磁気ヘッドのＩコアあるいはＣコ
アの断面図である。
アの断面図である。
【図２】本発明による磁気ヘッドの斜視図である。
【図３】従来型の磁気ヘッドのＩコアあるいはＣコアの
断面図である。
断面図である。
【図４】従来型の磁気ヘッドの斜視図である。
１ 酸化物磁性材料 ２ 合金磁性薄膜 ３ 磁気ギャップ ４ トラック幅制御溝 ５ 巻線溝 ６ 磁気ギャップ形成面あるいはトラック幅制御溝形成
面
面
Claims (2)
- 【請求項１】 磁気ギャップ形成面の磁性合金薄膜が多
層で構成されるＭＩＧ型磁気ヘッドにおいて、前記磁性
合金薄膜を１層毎種類を異ならせるとともに磁気ギャッ
プ形成面に近い程透磁率が高くなるように配置したこと
を特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 請求項１の磁気ヘッドにおいて、前記磁
性合金薄膜の厚さを１層毎変え、さらに磁気ギャップ形
成面に近い程磁性合金薄膜厚さが薄くなるよう配置した
ことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28626994A JPH08147621A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28626994A JPH08147621A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08147621A true JPH08147621A (ja) | 1996-06-07 |
Family
ID=17702182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28626994A Pending JPH08147621A (ja) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08147621A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7304822B2 (en) | 2002-08-22 | 2007-12-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head with multilayer film including metal magnetic films and non-magnetic films and magnetic recording/reproducing device |
-
1994
- 1994-11-21 JP JP28626994A patent/JPH08147621A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7304822B2 (en) | 2002-08-22 | 2007-12-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic head with multilayer film including metal magnetic films and non-magnetic films and magnetic recording/reproducing device |
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