JPH0778853B2 - 浮動型磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents
浮動型磁気ヘツド及びその製造方法Info
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Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （イ） 産業上の利用分野 本発明はハードディスク型の記録媒体に対して用いられ
る浮動型磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
る浮動型磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
（ロ） 従来の技術 近年、ハードディスクドライブ装置においても、小型化
の要求が著しく記録媒体への高密度記録が重要な問題に
なっている。このため、従来の酸化物の塗布型の磁気デ
ィスクに代って抗磁力（Hc）の高い金属薄膜型の磁気デ
ィスクが記録媒体として開発されている。この様に金属
薄膜型の磁気ディスクに対応する磁気ヘッドとしては、
例えば特開昭62−295207号公報（G11B5/23）等に開示さ
れているように従来のモノリシック型やコンポジット型
の浮動型磁気ヘッドのギャップ衝き合わせ面にセンダス
トやアモルファス磁性合金等の高飽和磁束密度材料をス
パッタリングによって成膜したMIG型（メタル・イン・
ギャップ型）の浮動型磁気ヘッドが提案されている。
の要求が著しく記録媒体への高密度記録が重要な問題に
なっている。このため、従来の酸化物の塗布型の磁気デ
ィスクに代って抗磁力（Hc）の高い金属薄膜型の磁気デ
ィスクが記録媒体として開発されている。この様に金属
薄膜型の磁気ディスクに対応する磁気ヘッドとしては、
例えば特開昭62−295207号公報（G11B5/23）等に開示さ
れているように従来のモノリシック型やコンポジット型
の浮動型磁気ヘッドのギャップ衝き合わせ面にセンダス
トやアモルファス磁性合金等の高飽和磁束密度材料をス
パッタリングによって成膜したMIG型（メタル・イン・
ギャップ型）の浮動型磁気ヘッドが提案されている。
第10図はMIG型の浮動型磁気ヘッドの媒体対向面のギャ
ップ近傍部を示す図である。
ップ近傍部を示す図である。
図中、（1a）（1b）はMn−Znフェライトよりなるコア半
体、（２）はセンダスト等の強磁性金属薄膜、（３）は
SiO2等のギャップスペーサであり、前記コア半体（1a）
（1b）、強磁性金属薄膜（２）及びギャップスペーサ
（３）によりコアチップ（４）が形成されている。前記
コアチップ（４）はスライダー（図示せず）に接合用ガ
ラス（５）（５）によって固定されている。
体、（２）はセンダスト等の強磁性金属薄膜、（３）は
SiO2等のギャップスペーサであり、前記コア半体（1a）
（1b）、強磁性金属薄膜（２）及びギャップスペーサ
（３）によりコアチップ（４）が形成されている。前記
コアチップ（４）はスライダー（図示せず）に接合用ガ
ラス（５）（５）によって固定されている。
次に、上記MIG型の浮動型磁気ヘッドの製造方法につい
て説明する。
て説明する。
先ず、Mn−Znフェライトよりなる第１・第２の基板（6
a）（6b）を用意し、該基板（6a）（6b）の上面と下面
を鏡面研磨した後、第11図に示すように第１の基板（6
a）の上面（ギャップ形成面）に強磁性金属薄膜（２）
及び所望のギャップ長に相当する膜厚のギャップスペー
サ（３）をスパッタリングにより被着形成する。また第
12図に示すように第２の基板（6b）の上面（ギャップ形
成面）には所望のトラック幅よりも少許幅広の予備トラ
ック幅t1が得られるように一定のピッチＰで予備加工溝
（７）を形成する。次に、前記第２の基板（6b）の上面
に膜線溝（８）を形成した後、第13図に示すように前記
両基板（6a）（6b）の上面同士を衝き合わせた後、第14
図に示すように前記膜線溝（８）にガラス棒（９）を挿
入し、該ガラス棒（９）を溶融固化することにより第15
図に示すように前記予備加工溝（７）に第１のガラス
（10）を充填し前記一対の基板（6a）（6b）をガラス接
合してブロック（11）を形成する。
a）（6b）を用意し、該基板（6a）（6b）の上面と下面
を鏡面研磨した後、第11図に示すように第１の基板（6
a）の上面（ギャップ形成面）に強磁性金属薄膜（２）
及び所望のギャップ長に相当する膜厚のギャップスペー
サ（３）をスパッタリングにより被着形成する。また第
12図に示すように第２の基板（6b）の上面（ギャップ形
成面）には所望のトラック幅よりも少許幅広の予備トラ
ック幅t1が得られるように一定のピッチＰで予備加工溝
（７）を形成する。次に、前記第２の基板（6b）の上面
に膜線溝（８）を形成した後、第13図に示すように前記
両基板（6a）（6b）の上面同士を衝き合わせた後、第14
図に示すように前記膜線溝（８）にガラス棒（９）を挿
入し、該ガラス棒（９）を溶融固化することにより第15
図に示すように前記予備加工溝（７）に第１のガラス
（10）を充填し前記一対の基板（6a）（6b）をガラス接
合してブロック（11）を形成する。
次に前記ブロック（11）を破線Ａ−Ａ′に沿って切断し
コアブロック（14）を形成し、該コアブロック（14）の
媒体対向面に第16図に示すように所望のトラック幅t2が
得られるようにピッチＰでトラック幅規制溝（12）加工
を施して媒体対向突部（13）を形成する。
コアブロック（14）を形成し、該コアブロック（14）の
媒体対向面に第16図に示すように所望のトラック幅t2が
得られるようにピッチＰでトラック幅規制溝（12）加工
を施して媒体対向突部（13）を形成する。
次に、前記コアブロック（14）をスライスすることによ
り第17図に示すようにコア半体（1a）（1b）、強磁性金
属薄膜（２）及びギャップスペーサ（３）よりなるコア
チップ（４）を形成する。
り第17図に示すようにコア半体（1a）（1b）、強磁性金
属薄膜（２）及びギャップスペーサ（３）よりなるコア
チップ（４）を形成する。
次に、第18図に示すようにコアチップ取付用のスリット
（15）が形成されたチタン酸カルシウム等の非磁性セラ
ミックよりなるスライダー（16）を用意し、該スライダ
ー（16）のスリット（15）に第19図に示すようにコアチ
ップ（４）を挿入し、その上に前記第１のガラスよりも
低軟化点の第２のガラスよりなるガラス板（17）を載置
する。
（15）が形成されたチタン酸カルシウム等の非磁性セラ
ミックよりなるスライダー（16）を用意し、該スライダ
ー（16）のスリット（15）に第19図に示すようにコアチ
ップ（４）を挿入し、その上に前記第１のガラスよりも
低軟化点の第２のガラスよりなるガラス板（17）を載置
する。
次に第20図に示すように前記ガラス板（17）を溶融固化
することにより前記媒体対向突部（13）の両側と前記ス
ライダー（16）のスリット（15）内壁と前記コアチップ
（４）との間に第２のガラス（５）を充填して、前記ス
ライダー（16）に前記コアチップ（４）を固定し、その
後前記スライダー（16）にチャンファー部（18）等の外
形成形を施すことにより浮動型磁気ヘッドが完成する。
することにより前記媒体対向突部（13）の両側と前記ス
ライダー（16）のスリット（15）内壁と前記コアチップ
（４）との間に第２のガラス（５）を充填して、前記ス
ライダー（16）に前記コアチップ（４）を固定し、その
後前記スライダー（16）にチャンファー部（18）等の外
形成形を施すことにより浮動型磁気ヘッドが完成する。
しかし乍ら、上記従来の磁気ヘッドでは、第11図におい
てMn−Znフェライトよりなる基板（6a）の上面にMn−Zn
フェライトとは熱膨張係数の異なる強磁性金属薄膜
（２）をスパッタリングにより被着するため、スパッタ
リング工程中における温度変化により前記基板（6a）に
反りが発生し、ギャップ長の精度が劣化する。また、第
13図から第15図の工程において、ガラスと濡れ性が悪い
SiO2膜とフェライトとガラス接合することによりブロッ
ク（11）を形成するため、該ブロック（11）の接合強度
が極めて弱く、後工程で割れやヒビ等がよく発生し、コ
アチップ（４）のコア半体（1a）（1b）間の接合強度が
弱い。また、上述のガラス接合の際、ガラス棒（９）を
ガラスの軟化点よりも150〜250℃程度高い温度まで加熱
する必要があり、これによりフェライトとセンダストと
の界面で反応が進行し、これが擬似ギャップの原因とな
る虞れもある。
てMn−Znフェライトよりなる基板（6a）の上面にMn−Zn
フェライトとは熱膨張係数の異なる強磁性金属薄膜
（２）をスパッタリングにより被着するため、スパッタ
リング工程中における温度変化により前記基板（6a）に
反りが発生し、ギャップ長の精度が劣化する。また、第
13図から第15図の工程において、ガラスと濡れ性が悪い
SiO2膜とフェライトとガラス接合することによりブロッ
ク（11）を形成するため、該ブロック（11）の接合強度
が極めて弱く、後工程で割れやヒビ等がよく発生し、コ
アチップ（４）のコア半体（1a）（1b）間の接合強度が
弱い。また、上述のガラス接合の際、ガラス棒（９）を
ガラスの軟化点よりも150〜250℃程度高い温度まで加熱
する必要があり、これによりフェライトとセンダストと
の界面で反応が進行し、これが擬似ギャップの原因とな
る虞れもある。
また、第11図の工程において、第１の基板（6a）の上面
に強磁性金属薄膜（２）をスパッタリングにより被着す
る際、前記第１の基板（6a）上面は活性化ガスイオンの
衝撃等により結晶性が乱れ、前記第１の基板（6a）と強
磁性金属薄膜（２との界面には非磁性の結晶質層が形成
され、該非晶質層が擬似ギャップになるという欠点も生
じる。
に強磁性金属薄膜（２）をスパッタリングにより被着す
る際、前記第１の基板（6a）上面は活性化ガスイオンの
衝撃等により結晶性が乱れ、前記第１の基板（6a）と強
磁性金属薄膜（２との界面には非磁性の結晶質層が形成
され、該非晶質層が擬似ギャップになるという欠点も生
じる。
（ハ） 発明が解決しようとする課題 本発明は上記従来の欠点に鑑みなされたものであり、薄
膜形成工程中の温度変化によりギャップ長の精度が劣化
するのを抑え、コアチップのコア半体同士を強固に接合
した浮動型磁気ヘッド及びその製造方法を提供すること
を目的とするものである。
膜形成工程中の温度変化によりギャップ長の精度が劣化
するのを抑え、コアチップのコア半体同士を強固に接合
した浮動型磁気ヘッド及びその製造方法を提供すること
を目的とするものである。
更に、本発明はコアチップのコア半体と強磁性金属薄膜
との境界が擬似ギャップとして働くのを防止した浮動型
磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とするもの
である。
との境界が擬似ギャップとして働くのを防止した浮動型
磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とするもの
である。
（ニ） 課題を解決するための手段 本発明の浮動型磁気ヘッドは、コアチップの一対のコア
半体同士を作動ギャップが形成された媒体対向突部の側
部で強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを介さずに直
接ガラス接合したことを特徴とする。
半体同士を作動ギャップが形成された媒体対向突部の側
部で強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを介さずに直
接ガラス接合したことを特徴とする。
また、本発明の第１の浮動型磁気ヘッドの製造方法は、
強磁性酸化物よりなる第１の基板の上面に所望のトラッ
ク幅より幅広の強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを
被着形成する第１の工程と、前記第１の基板と強磁性酸
化物よりなる第２の基板を第１のガラスにより接合して
コアブロックを形成する第２の工程と、前記コアブロッ
クの媒体対向面にトラック幅規制溝加工を施して幅が所
望のトラック幅である媒体対向突部を形成した後、前記
コアブロックを切断する第３の工程によりコアチップを
形成した後、該コアチップを前記第１のガラスより低軟
化点の第２のガラスによりスライダーに固定することを
特徴とする。
強磁性酸化物よりなる第１の基板の上面に所望のトラッ
ク幅より幅広の強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを
被着形成する第１の工程と、前記第１の基板と強磁性酸
化物よりなる第２の基板を第１のガラスにより接合して
コアブロックを形成する第２の工程と、前記コアブロッ
クの媒体対向面にトラック幅規制溝加工を施して幅が所
望のトラック幅である媒体対向突部を形成した後、前記
コアブロックを切断する第３の工程によりコアチップを
形成した後、該コアチップを前記第１のガラスより低軟
化点の第２のガラスによりスライダーに固定することを
特徴とする。
更に、上記第１の製造方法は、前記第２の工程におい
て、第２の基板の上面に溝を形成し、該溝に充填した第
１のガラスにより第１の基板と第２の基板とを接合する
ことを特徴とする。
て、第２の基板の上面に溝を形成し、該溝に充填した第
１のガラスにより第１の基板と第２の基板とを接合する
ことを特徴とする。
更に、上記第１の製造方法は、前記第１の工程におい
て、第１の基板の上面全域に強磁性金属薄膜及びギャッ
プスペーサを被着した後、ドライエッチングにより余分
な部分を除去して所望のトラック幅より幅広の強磁性金
属薄膜及びギャップスペーサを形成することを特徴とす
る。
て、第１の基板の上面全域に強磁性金属薄膜及びギャッ
プスペーサを被着した後、ドライエッチングにより余分
な部分を除去して所望のトラック幅より幅広の強磁性金
属薄膜及びギャップスペーサを形成することを特徴とす
る。
また、本発明の第２の浮動型磁気ヘッドの製造方法は、
強磁性酸化物よりなる第１、第２の基板を用意し、該第
２の基板の上面に所望のトラック幅より幅広のギャップ
スペーサを被着形成し、該ギャップスペーサの上面に強
磁性金属薄膜を被着形成する第１の工程と、前記第１の
基板と前記第２の基板とを第１のガラスにより前記ギャ
ップスペーサ及び強磁性金属薄膜を介して接合してコア
ブロックを形成する第２の工程と、前記コアブロックの
媒体対向面にトラック幅規制溝加工を施して幅が所望の
トラック幅である媒体対向突部を形成した後、前記コア
ブロックを切断する第３の工程とによりコアチップを形
成した後、該コアチップを前記第１のガラスより低軟化
点の第２のガラスによりスライダーに固定することを特
徴とする。
強磁性酸化物よりなる第１、第２の基板を用意し、該第
２の基板の上面に所望のトラック幅より幅広のギャップ
スペーサを被着形成し、該ギャップスペーサの上面に強
磁性金属薄膜を被着形成する第１の工程と、前記第１の
基板と前記第２の基板とを第１のガラスにより前記ギャ
ップスペーサ及び強磁性金属薄膜を介して接合してコア
ブロックを形成する第２の工程と、前記コアブロックの
媒体対向面にトラック幅規制溝加工を施して幅が所望の
トラック幅である媒体対向突部を形成した後、前記コア
ブロックを切断する第３の工程とによりコアチップを形
成した後、該コアチップを前記第１のガラスより低軟化
点の第２のガラスによりスライダーに固定することを特
徴とする。
更に、上記第２の製造方法は、前記第１の工程におい
て、第２の基板の上面に所望のトラック幅よりも幅広の
予備トラック面を規制する溝を形成し、該溝に前記第１
のガラスを充填した後、前記予備トラック面上に前記ギ
ャップスペーサを被着することを特徴とする。
て、第２の基板の上面に所望のトラック幅よりも幅広の
予備トラック面を規制する溝を形成し、該溝に前記第１
のガラスを充填した後、前記予備トラック面上に前記ギ
ャップスペーサを被着することを特徴とする。
更に、上記第２の製造方法は、前記第１の工程におい
て、第２の基板の上面全域にギャップスペーサ及び強磁
性金属薄膜を被着した後、ドライエッチングにより余分
な部分を除去して所望のトラック幅より幅広の強磁性金
属薄膜及びギャップスペーサを被着形成することを特徴
とする。
て、第２の基板の上面全域にギャップスペーサ及び強磁
性金属薄膜を被着した後、ドライエッチングにより余分
な部分を除去して所望のトラック幅より幅広の強磁性金
属薄膜及びギャップスペーサを被着形成することを特徴
とする。
また、本発明の第３の浮動型磁気ヘッドの製造方法は、
強磁性酸化物よりなる第１、第２のコア半体同士が該第
１のコア半体のガラス充填溝に充填され前記第２のコア
半体に接触する第１のガラスにより強磁性金属薄膜及び
ギャップスペーサを介して接合されているコアチップを
形成した後、該コアチップの上面にトラック加工を施し
て所望のトラック幅の作動ギャップを有する媒体対向突
部を形成し、その後、前記コアチップを前記第１のガラ
スより低軟化点の第２のガラスによりスライダーに固定
するこを特徴とする。
強磁性酸化物よりなる第１、第２のコア半体同士が該第
１のコア半体のガラス充填溝に充填され前記第２のコア
半体に接触する第１のガラスにより強磁性金属薄膜及び
ギャップスペーサを介して接合されているコアチップを
形成した後、該コアチップの上面にトラック加工を施し
て所望のトラック幅の作動ギャップを有する媒体対向突
部を形成し、その後、前記コアチップを前記第１のガラ
スより低軟化点の第２のガラスによりスライダーに固定
するこを特徴とする。
更に、上記第３の製造方法は、強磁性酸化物よりなる第
１、第２の基板同士を前記第１のガラスを用いて所望の
トラック幅より幅広の強磁性金属薄膜及びギャップスペ
ーサを介して接合してコアブロックを形成した後、該コ
アブロックを切断して前記コアチップを形成することを
特徴とする。
１、第２の基板同士を前記第１のガラスを用いて所望の
トラック幅より幅広の強磁性金属薄膜及びギャップスペ
ーサを介して接合してコアブロックを形成した後、該コ
アブロックを切断して前記コアチップを形成することを
特徴とする。
更に、上記第３の製造方法は、前記第１の基板に所望の
トラック幅よりも幅広の強磁性金属薄膜を被着形成し、
該強磁性金属薄膜上にギャップスペーサを被着形成し、
前記第２の基板に所望のトラック幅よりも幅広の予備ト
ラック面を規制する溝を形成し、該溝に第１のガラスを
充填した後、前記ギャップスペーサと前記予備トラック
面とを衝き合わせた状態で前記第１のガラスを溶融固化
することにより前記第１の基板と前記第２の基板とを接
合して前記コアブロックを形成することを特徴とする。
トラック幅よりも幅広の強磁性金属薄膜を被着形成し、
該強磁性金属薄膜上にギャップスペーサを被着形成し、
前記第２の基板に所望のトラック幅よりも幅広の予備ト
ラック面を規制する溝を形成し、該溝に第１のガラスを
充填した後、前記ギャップスペーサと前記予備トラック
面とを衝き合わせた状態で前記第１のガラスを溶融固化
することにより前記第１の基板と前記第２の基板とを接
合して前記コアブロックを形成することを特徴とする。
更に、上記第３の製造方法は、前記第１の基板の上面全
域に強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを被着した
後、ドライエッチングにより余分な部分を除去して所望
のトラック幅よりも幅広の強磁性金属薄膜及びギャップ
スペーサを形成することを特徴とする。
域に強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを被着した
後、ドライエッチングにより余分な部分を除去して所望
のトラック幅よりも幅広の強磁性金属薄膜及びギャップ
スペーサを形成することを特徴とする。
（ホ） 作用 上記構造の浮動型磁気ヘッドは、強磁性金属薄膜のコア
半体への被着面積が小さいため、強磁性金属薄膜形成時
に生じるコア半体の反りによってギャップ長の精度が劣
化するのを防止出来る。また、一対のコア半体同士は、
作動ギャップが形成された媒体対向突部の側部では、ガ
ラスとの濡れ性が良い強磁性酸化物同士が直接ガラス接
合されており、強固に接合される。
半体への被着面積が小さいため、強磁性金属薄膜形成時
に生じるコア半体の反りによってギャップ長の精度が劣
化するのを防止出来る。また、一対のコア半体同士は、
作動ギャップが形成された媒体対向突部の側部では、ガ
ラスとの濡れ性が良い強磁性酸化物同士が直接ガラス接
合されており、強固に接合される。
また、本発明の第１、第２、第３の製造方法に依れば、
強磁性金属薄膜の基板への被着面積を小さくし、基板の
反りによるコアチップのギャップ精度の劣化を抑えた浮
動型磁気ヘッドを効率良く製造出来る。
強磁性金属薄膜の基板への被着面積を小さくし、基板の
反りによるコアチップのギャップ精度の劣化を抑えた浮
動型磁気ヘッドを効率良く製造出来る。
更に、本発明の第１、第２、第３の製造方法に依れば、
溝に充填した第１のガラスによつて前記第１、第２の基
板同士を接合するので、この接合の際前記第１のガラス
の軟化点よりも150〜250℃も高い温度になるまで加熱す
る必要はなく、高温加熱による第１の基板と強磁性金属
薄膜との界面反応を抑えることが出来る。
溝に充填した第１のガラスによつて前記第１、第２の基
板同士を接合するので、この接合の際前記第１のガラス
の軟化点よりも150〜250℃も高い温度になるまで加熱す
る必要はなく、高温加熱による第１の基板と強磁性金属
薄膜との界面反応を抑えることが出来る。
また、本発明の第２の製造方法に依れば、第２の基板上
にはギャップスペーサを介して強磁性金属薄膜が被着さ
れるので、前記第２の基板には非磁性の非晶質層が形成
されても該非晶質層はギャップスペーサの一部となり擬
似ギャップは形成されない。
にはギャップスペーサを介して強磁性金属薄膜が被着さ
れるので、前記第２の基板には非磁性の非晶質層が形成
されても該非晶質層はギャップスペーサの一部となり擬
似ギャップは形成されない。
（ヘ） 実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の第１、第２、第３実施
例について詳細に説明する。
例について詳細に説明する。
第１図乃至第９図は第１実施例の浮動型磁気ヘッドの製
造方法を示す図である。
造方法を示す図である。
先ず、Mn−Znフェライトよりなる第１、第２の基板（6
a）（6b）を用意し、第１の基板（6a）の上面（ギャッ
プ形成面）及び下面に鏡面研磨した後、第２図に示すよ
うに前記基板（6a）の上面にセンダスト等よりなる強磁
性金属薄膜（２）を3.5μｍ厚被着形成し、該強磁性金
属薄膜（２）の上面にSiO2等よりなるギャップスペーサ
（３）を0.8μｍ厚被着形成する。尚、前記強磁性金属
薄膜（２）は対向ターゲット型スパッタ装置により、基
板温度200℃、ガス圧力2m torr、放電電極4KW、バイア
ス電圧50V、成膜速度1400Å／分の条件下で形成され
る。また、前記ギャップスペーサ（３）はイオンプレー
ティング装置により基板温度200℃、真空度1.0×10-5to
rr、成膜速度600Å／分の条件下で形成される。
a）（6b）を用意し、第１の基板（6a）の上面（ギャッ
プ形成面）及び下面に鏡面研磨した後、第２図に示すよ
うに前記基板（6a）の上面にセンダスト等よりなる強磁
性金属薄膜（２）を3.5μｍ厚被着形成し、該強磁性金
属薄膜（２）の上面にSiO2等よりなるギャップスペーサ
（３）を0.8μｍ厚被着形成する。尚、前記強磁性金属
薄膜（２）は対向ターゲット型スパッタ装置により、基
板温度200℃、ガス圧力2m torr、放電電極4KW、バイア
ス電圧50V、成膜速度1400Å／分の条件下で形成され
る。また、前記ギャップスペーサ（３）はイオンプレー
ティング装置により基板温度200℃、真空度1.0×10-5to
rr、成膜速度600Å／分の条件下で形成される。
次に、イオンビームエッチング装置等のドライエッチン
グ装置を用いて第３図に示すように所望のトラック幅t2
よりも少許幅広の予備トラック幅t1の分だけ強磁性金属
薄膜（２）及びギャップスペーサ（３）がピッチＰの間
隔で残るように他の余分な薄膜を除去する。上述のイオ
ンビームエッチングは、ガス圧力２×10-4torr、放電電
圧34.5V、加速電圧750V、入射角40゜の条件下で予備ト
ラック幅t1以外の強磁性金属薄膜（２）が完全になくな
るまで約135分間行った。尚、インオンビームエッチン
グ等を行わず、直接第３図のように第１の基板（6a）の
上面に強磁性金属薄膜（２）及びギャップスペーサ
（３）を被着形成してもよい。
グ装置を用いて第３図に示すように所望のトラック幅t2
よりも少許幅広の予備トラック幅t1の分だけ強磁性金属
薄膜（２）及びギャップスペーサ（３）がピッチＰの間
隔で残るように他の余分な薄膜を除去する。上述のイオ
ンビームエッチングは、ガス圧力２×10-4torr、放電電
圧34.5V、加速電圧750V、入射角40゜の条件下で予備ト
ラック幅t1以外の強磁性金属薄膜（２）が完全になくな
るまで約135分間行った。尚、インオンビームエッチン
グ等を行わず、直接第３図のように第１の基板（6a）の
上面に強磁性金属薄膜（２）及びギャップスペーサ
（３）を被着形成してもよい。
一方、第２の基板（6b）には第４図に示すようにその上
面に予備トラック幅t1が残るように一定のピッチＰで予
備加工溝（７）を形成した後、第５図に示すように前記
予備加工溝（７）と直交する方向にデプスエンド溝（1
9）を形成する。次に、前記第１のガラスからなるガラ
ス板を前記第２の基板（6b）に圧接し加熱することによ
り第６図に示すように前記予備加工溝（７）及びデプス
エンド溝（19）内に軟化点が590℃である第１のガラス
（７）を充填し、その後前記基板（6b）の上面に鏡面研
磨を施す。尚、前述のガラス充填は590℃の真空中で70
分間保持することにより行われる。
面に予備トラック幅t1が残るように一定のピッチＰで予
備加工溝（７）を形成した後、第５図に示すように前記
予備加工溝（７）と直交する方向にデプスエンド溝（1
9）を形成する。次に、前記第１のガラスからなるガラ
ス板を前記第２の基板（6b）に圧接し加熱することによ
り第６図に示すように前記予備加工溝（７）及びデプス
エンド溝（19）内に軟化点が590℃である第１のガラス
（７）を充填し、その後前記基板（6b）の上面に鏡面研
磨を施す。尚、前述のガラス充填は590℃の真空中で70
分間保持することにより行われる。
次に、前記第２の基（6b）の上面に前記デプスエンド溝
（19）と平行且つデプスエンド溝（19）の一部を削る位
置に断面長方形状の巻線溝（８）を形成し、その後、第
７図に示すように前記両基板（6a）（6b）の上面同士を
ギャップスペーサ（３）と予備トラック面（20）とが対
向するように衝き合わせた状態で前記第１のガラス（1
0）を再び溶融固化することにより前記両基板（6a）（6
b）をガラス接合してブロック（21）を形成する。尚、
この時のガラス溶着は670℃の真空中で12分間保持する
ことにより行われる。
（19）と平行且つデプスエンド溝（19）の一部を削る位
置に断面長方形状の巻線溝（８）を形成し、その後、第
７図に示すように前記両基板（6a）（6b）の上面同士を
ギャップスペーサ（３）と予備トラック面（20）とが対
向するように衝き合わせた状態で前記第１のガラス（1
0）を再び溶融固化することにより前記両基板（6a）（6
b）をガラス接合してブロック（21）を形成する。尚、
この時のガラス溶着は670℃の真空中で12分間保持する
ことにより行われる。
次に、前記ブロック（21）を破線Ｂ−Ｂ′に沿って切断
してコアブロック（22）を形成した後、第８図に示すよ
うに前記コアブロック（22）の媒体対向面にトラック幅
規制溝（12）を加工形成してトラック幅ｔを媒体対向突
部（23）を形成する。
してコアブロック（22）を形成した後、第８図に示すよ
うに前記コアブロック（22）の媒体対向面にトラック幅
規制溝（12）を加工形成してトラック幅ｔを媒体対向突
部（23）を形成する。
次に、前記コアブロック（22）を第８図に示す斜線（2
4）の位置でスライスて第９図に示すコアチップ（25）
を形成する。前記コアチップ（25）はMn−Znフェライト
からなる一対のコア半体（1a）（1b）からなり、該コア
半体（1a）（1b）は強磁性金属薄膜（２）及びギャップ
スペーサ（３）を介してギャップ接合されている。
4）の位置でスライスて第９図に示すコアチップ（25）
を形成する。前記コアチップ（25）はMn−Znフェライト
からなる一対のコア半体（1a）（1b）からなり、該コア
半体（1a）（1b）は強磁性金属薄膜（２）及びギャップ
スペーサ（３）を介してギャップ接合されている。
次に第18図に示す非磁性セラミックよりなるスライダー
（16）のスリット（15）に前記コアチップ（25）を挿入
し、その上面に軟化点が460℃であるガラス板（17）を
載置しガラス板（17）を溶融固化することにより第１図
に示すように前記コアチップ（25）の媒体対向突部（2
3）の両側及び前記スリット（15）の内壁と前記コアチ
ップ（25）との間に第２のガラス（５）を充填して前記
スリット（15）内に前記コアチップ（25）を固定する。
尚、この時のガラス充填は真空中或いは大気中で500℃
まで昇温することにより行われる。そして最後に、前記
スライダー（16）にチャンファー部（18）等の外形成型
を施すことにより浮動型磁気ヘッドが完成する。
（16）のスリット（15）に前記コアチップ（25）を挿入
し、その上面に軟化点が460℃であるガラス板（17）を
載置しガラス板（17）を溶融固化することにより第１図
に示すように前記コアチップ（25）の媒体対向突部（2
3）の両側及び前記スリット（15）の内壁と前記コアチ
ップ（25）との間に第２のガラス（５）を充填して前記
スリット（15）内に前記コアチップ（25）を固定する。
尚、この時のガラス充填は真空中或いは大気中で500℃
まで昇温することにより行われる。そして最後に、前記
スライダー（16）にチャンファー部（18）等の外形成型
を施すことにより浮動型磁気ヘッドが完成する。
上述の本実施例の浮動型磁気ヘッドでは、コアチップ
（25）の強磁性金属薄膜（２）の被着部分が作動ギャッ
プ近傍部のみであるため第１の基板（6a）上面にトラッ
ク形成部より少許幅広に強磁性金属薄膜（２）を被着す
ればよく、前記第１の基板（6a）には該基板（6a）と強
磁性金属薄膜（２）との熱膨張係数の違いによる反りは
ほとんど生じず、ギャップ長の精度は劣化しない。ま
た、前記コアチップ（25）は作動ギャップ両側の時路構
成面近傍部でガラスとの濡れ性がよいフェライトよりな
るコア半体（1a）（1b）同士が直接ガラス接合されてい
るので、機械的強度に優れている。更に、上述の製造方
法では、第２の基板（6b）の予備加工溝（７）及びデプ
スエンド溝（19）に充填した第１のガワス（10）を軟化
させることにより第１の基板（6a）と第２の基板（6b）
とをガラス接合するので、第１のガラ（10）の軟化点よ
りも80℃程度高く加熱するだけでよく、第１の基板（6
a）と強磁性金属薄膜（２）との界面での反応はほとん
ど進行せず、該界面が擬似ギャップとして動作するのが
抑えられる。
（25）の強磁性金属薄膜（２）の被着部分が作動ギャッ
プ近傍部のみであるため第１の基板（6a）上面にトラッ
ク形成部より少許幅広に強磁性金属薄膜（２）を被着す
ればよく、前記第１の基板（6a）には該基板（6a）と強
磁性金属薄膜（２）との熱膨張係数の違いによる反りは
ほとんど生じず、ギャップ長の精度は劣化しない。ま
た、前記コアチップ（25）は作動ギャップ両側の時路構
成面近傍部でガラスとの濡れ性がよいフェライトよりな
るコア半体（1a）（1b）同士が直接ガラス接合されてい
るので、機械的強度に優れている。更に、上述の製造方
法では、第２の基板（6b）の予備加工溝（７）及びデプ
スエンド溝（19）に充填した第１のガワス（10）を軟化
させることにより第１の基板（6a）と第２の基板（6b）
とをガラス接合するので、第１のガラ（10）の軟化点よ
りも80℃程度高く加熱するだけでよく、第１の基板（6
a）と強磁性金属薄膜（２）との界面での反応はほとん
ど進行せず、該界面が擬似ギャップとして動作するのが
抑えられる。
第21図乃至第31図は第２実施例の浮動型磁気ヘッドの製
造方法を示す図である。
造方法を示す図である。
先ず、Mn−Znフェライト等の強磁性酸化物材料よりなる
第１、第２の基板（26a）（26b）の上面（ギャップ形成
面）及び下面に鏡面研磨を施した後、第22図に示すよう
に前記第２の基板（26b）の上面に所望のトラック幅t2
より少許幅広の予備トラック幅t1の予備トラック面（2
7）が残るように一定のピッチＰで予備加工溝（28）を
複数形成する。
第１、第２の基板（26a）（26b）の上面（ギャップ形成
面）及び下面に鏡面研磨を施した後、第22図に示すよう
に前記第２の基板（26b）の上面に所望のトラック幅t2
より少許幅広の予備トラック幅t1の予備トラック面（2
7）が残るように一定のピッチＰで予備加工溝（28）を
複数形成する。
次に、第23図に示すように前記第２の基板（26b）の上
面に前記予備加工溝（28）と直交するデプスエンド溝
（29）を一定のピッチPoで複数形成する。
面に前記予備加工溝（28）と直交するデプスエンド溝
（29）を一定のピッチPoで複数形成する。
次に、第24図に示すように前記予備加工溝（28）及びデ
プスエンド溝（29）内に軟化点が590℃である第１のガ
ラス（30）を充填した後、前記第２の基板（26b）の上
面に鏡面研磨を施す。
プスエンド溝（29）内に軟化点が590℃である第１のガ
ラス（30）を充填した後、前記第２の基板（26b）の上
面に鏡面研磨を施す。
次に、第25図に示すように前記第２の基板（26b）上面
全域にSiO2等よりなるギャップスペーサ（41）を0.8μ
ｍ厚被着形成し、該ギャップスペーサ（41）の上面にセ
ンダスト等よりなる強磁性金属薄膜（31）を3.5μｍ厚
スパッタリングにより被着形成する。
全域にSiO2等よりなるギャップスペーサ（41）を0.8μ
ｍ厚被着形成し、該ギャップスペーサ（41）の上面にセ
ンダスト等よりなる強磁性金属薄膜（31）を3.5μｍ厚
スパッタリングにより被着形成する。
次に、イオンビームエッチング装置等のドライエッチン
グ装置により第26図に示すように前記第１のガラス（3
0）上に被着している強磁性金属薄膜及びギャップスペ
ーサを除去して前記予備トラック面（27）上に被着して
いるギャップスペーサ（41）及び強磁性金属薄膜（31）
を残す。この工程により残る強磁性金属薄膜（31）の上
面の幅は前記予備トラック面（27）の予備トラック幅t1
に等しい。
グ装置により第26図に示すように前記第１のガラス（3
0）上に被着している強磁性金属薄膜及びギャップスペ
ーサを除去して前記予備トラック面（27）上に被着して
いるギャップスペーサ（41）及び強磁性金属薄膜（31）
を残す。この工程により残る強磁性金属薄膜（31）の上
面の幅は前記予備トラック面（27）の予備トラック幅t1
に等しい。
次に、第27図に示すように前記第２の基板（26b）の上
面に前記デプスエンド溝（29）と平行且つ該デプスエン
ド溝（29）の一部を削る位置に断面長方形状の巻線溝
（32）を形成する。
面に前記デプスエンド溝（29）と平行且つ該デプスエン
ド溝（29）の一部を削る位置に断面長方形状の巻線溝
（32）を形成する。
次に、第28図に示す上面及び下面が鏡面研磨された第１
の基板（26a）の上面と第27図に示す第２の基板（26b）
上の強磁性金属薄膜（31）とを衝き合わせた状態で前記
第１のガラス（30）を再度溶融固化することにより第29
図に示すように前記基板（26a）（26b）をガラス接合し
てブロック（33）を形成する。
の基板（26a）の上面と第27図に示す第２の基板（26b）
上の強磁性金属薄膜（31）とを衝き合わせた状態で前記
第１のガラス（30）を再度溶融固化することにより第29
図に示すように前記基板（26a）（26b）をガラス接合し
てブロック（33）を形成する。
次に、前記ブロック（33）を破線Ｃ−Ｃ′に沿って切断
してコアブロック（34）を形成した後、第30図に示すよ
うに前記コアブロック（34）の媒体対向面にトラック幅
規制溝（35）を加工形成してトラック幅t2の作動ギャッ
プを有する媒体対向突部（37）を形成する。
してコアブロック（34）を形成した後、第30図に示すよ
うに前記コアブロック（34）の媒体対向面にトラック幅
規制溝（35）を加工形成してトラック幅t2の作動ギャッ
プを有する媒体対向突部（37）を形成する。
次に、前記コアブロック（34）を第30図に示す斜線（3
8）の位置でスライスして第31図に示すコアチップ（3
9）を形成する。前記コアチップ（39）はMn−Znフェラ
イトからなる一対のコア半体（40a）（40b）で構成さ
れ、該コア半体（40a）（40b）は強磁性金属薄膜（31）
及びギャップスペーサ（41）を介してギャップ接合され
ている。
8）の位置でスライスして第31図に示すコアチップ（3
9）を形成する。前記コアチップ（39）はMn−Znフェラ
イトからなる一対のコア半体（40a）（40b）で構成さ
れ、該コア半体（40a）（40b）は強磁性金属薄膜（31）
及びギャップスペーサ（41）を介してギャップ接合され
ている。
以後は、第１実施例と同様にしてスライダー（16）のス
リット（15）に前記コアチップ（39）を固定した後、前
記スライダー（16）にチャンファー部（18）等の外形成
形を施すことにより第21図に示す浮動型磁気ヘッドが完
成する。
リット（15）に前記コアチップ（39）を固定した後、前
記スライダー（16）にチャンファー部（18）等の外形成
形を施すことにより第21図に示す浮動型磁気ヘッドが完
成する。
上述の第２実施例の浮動型磁気ヘッドにおいても第１実
施例と同様にコアチップ（39）は第31図に示すように作
動ギャップを有する媒体対向突部（37）の両側でガラス
との濡れ性がよいフェライトよりなるコア半体（40a）
（40b）同士が直接ガラス接合されているので、機械的
強度に優れている。
施例と同様にコアチップ（39）は第31図に示すように作
動ギャップを有する媒体対向突部（37）の両側でガラス
との濡れ性がよいフェライトよりなるコア半体（40a）
（40b）同士が直接ガラス接合されているので、機械的
強度に優れている。
また、上述の第２実施例の製造方法も第１実施例と同様
に第２の基板（26b）に予備加工溝（28）及びデプスエ
ンド溝（29）に充填した第１のガラス（30）を軟化させ
ることにより第１の基板（26a）と第２の基板（26b）と
をガラス接合するので、前記第１のガラス（30）の軟化
点よりも少許高温に加熱するだけでよく、前記第１の基
板（26a）と強磁性金属薄膜（31）との界面での反応は
ほとんど進行せず、該界面が擬似ギャップとして動作す
るのが抑えられる。更に、第２実施例の製造方法では、
第２の基板（26b）上にギャップスペーサ（41）を形成
した後、強磁性金属薄膜（31）を被着形成するので、前
記第２の基板（26b）と前記強磁性金属薄膜（31）との
間にはギャップスペーサ（41）が存在し、前述の強磁性
金属薄膜（31）の被着形成時に、前記第２の基板（26
b）の上面には非磁性の非晶質層は形成されず、擬似ギ
ャップ作用は更に抑えられる。また、仮に、ギャップス
ペーサ（41）被着形成時に前記第２の基板（26b）の上
面に非晶質層が形成されても、該非晶質層は前記ギャッ
プスペーサ（41）と一体になり擬似ギャップは形成され
ない。
に第２の基板（26b）に予備加工溝（28）及びデプスエ
ンド溝（29）に充填した第１のガラス（30）を軟化させ
ることにより第１の基板（26a）と第２の基板（26b）と
をガラス接合するので、前記第１のガラス（30）の軟化
点よりも少許高温に加熱するだけでよく、前記第１の基
板（26a）と強磁性金属薄膜（31）との界面での反応は
ほとんど進行せず、該界面が擬似ギャップとして動作す
るのが抑えられる。更に、第２実施例の製造方法では、
第２の基板（26b）上にギャップスペーサ（41）を形成
した後、強磁性金属薄膜（31）を被着形成するので、前
記第２の基板（26b）と前記強磁性金属薄膜（31）との
間にはギャップスペーサ（41）が存在し、前述の強磁性
金属薄膜（31）の被着形成時に、前記第２の基板（26
b）の上面には非磁性の非晶質層は形成されず、擬似ギ
ャップ作用は更に抑えられる。また、仮に、ギャップス
ペーサ（41）被着形成時に前記第２の基板（26b）の上
面に非晶質層が形成されても、該非晶質層は前記ギャッ
プスペーサ（41）と一体になり擬似ギャップは形成され
ない。
第32図乃至第38図は第３実施例の浮動型磁気ヘッドの製
造方法を示す図である。
造方法を示す図である。
先ず、第33図に示すようにMn−Znフェライト等の強磁性
酸化物材料よりなる鏡面研磨された第１、第２の基板
（42a）（42b）を用意し、第２の基板（42b）のギャッ
プ形成面上には所望のトラック幅t2より少許幅広の予備
トラック幅t1の予備トラック面（43）が残るように一定
のピッチＰでガラス充填溝（44）を複数形成すると共に
該ガラス充填溝（44）と直交するデプスエンド溝（45）
を形成し、第１の基板（42a）にはセンダスト等の強磁
性金属薄膜（46）とSiO2等のギャップスペーサ（47）を
スパッタリング等により被着形成する。
酸化物材料よりなる鏡面研磨された第１、第２の基板
（42a）（42b）を用意し、第２の基板（42b）のギャッ
プ形成面上には所望のトラック幅t2より少許幅広の予備
トラック幅t1の予備トラック面（43）が残るように一定
のピッチＰでガラス充填溝（44）を複数形成すると共に
該ガラス充填溝（44）と直交するデプスエンド溝（45）
を形成し、第１の基板（42a）にはセンダスト等の強磁
性金属薄膜（46）とSiO2等のギャップスペーサ（47）を
スパッタリング等により被着形成する。
次に、第34図に示すように第２の基板（42b）にはガラ
ス充填溝（44）及びデプスエンド溝（45）に軟化点590
℃の第１のガラス（48）を充填し、第１の基板（42a）
にはイオンビームエッチング装置等のドライエッチング
装置を用いて予備トラック幅t1の分だけ強磁性金属薄膜
（46）及びギャップスペーサ（47）がピッチＰの間隔で
残るように他の余分な薄膜を除去する。
ス充填溝（44）及びデプスエンド溝（45）に軟化点590
℃の第１のガラス（48）を充填し、第１の基板（42a）
にはイオンビームエッチング装置等のドライエッチング
装置を用いて予備トラック幅t1の分だけ強磁性金属薄膜
（46）及びギャップスペーサ（47）がピッチＰの間隔で
残るように他の余分な薄膜を除去する。
次に、第35図に示すように前記第２の基板（42b）のト
ラック面（43）上に溶着している第１のガラス（48）を
鏡面研磨により除去した後、前記デプスエンド溝（45）
と平行且つデプスエンド溝（44）の一部を削る位置に断
面長方形状の巻線溝（49）を形成し、その後、前記第２
の基板（42b）のトラック面（43）と前記第１の基板（4
2a）のギャップスペーサ（47）とを衝き合わせ、前記第
１のガラス（48）を溶融固化することにより前記両基板
（42a）（42b）をガラス接合してコアブロック（50）を
形成する。
ラック面（43）上に溶着している第１のガラス（48）を
鏡面研磨により除去した後、前記デプスエンド溝（45）
と平行且つデプスエンド溝（44）の一部を削る位置に断
面長方形状の巻線溝（49）を形成し、その後、前記第２
の基板（42b）のトラック面（43）と前記第１の基板（4
2a）のギャップスペーサ（47）とを衝き合わせ、前記第
１のガラス（48）を溶融固化することにより前記両基板
（42a）（42b）をガラス接合してコアブロック（50）を
形成する。
次に、第36図に示すように前記コアブロック（50）を所
望の幅に研削し、一転鎖線Ｄ−Ｄ′に沿って切断するこ
とにより、第37図に示すコアチップ（51）を切り落す。
前記コアチップ（51）はMn−Znフェライトからなる一対
のコア半体（52a）（52b）で構成され、該コア半体（52
a）（52b）はガラス充填溝（44）内の第１のガラス（4
8）により強磁性金属薄膜（46）及びギャップスペーサ
（47）を介さず直接強固に接合されており、前記ガラス
充填溝（44）の両側にトラック面（43）とギャップスペ
ーサ（47）との衝合部（53a）（53b）を備える。
望の幅に研削し、一転鎖線Ｄ−Ｄ′に沿って切断するこ
とにより、第37図に示すコアチップ（51）を切り落す。
前記コアチップ（51）はMn−Znフェライトからなる一対
のコア半体（52a）（52b）で構成され、該コア半体（52
a）（52b）はガラス充填溝（44）内の第１のガラス（4
8）により強磁性金属薄膜（46）及びギャップスペーサ
（47）を介さず直接強固に接合されており、前記ガラス
充填溝（44）の両側にトラック面（43）とギャップスペ
ーサ（47）との衝合部（53a）（53b）を備える。
次に、前記コアチップ（51）の上面のうち一方の衝合部
（53a）、ガラス充填溝（44）形成部及び他方の衝合部
（53b）の一部を除去するトラック加工を行い、第38図
に示すように所望のトラック幅t2の作動ギャップを有す
る媒体対向突部（54）を形成する。
（53a）、ガラス充填溝（44）形成部及び他方の衝合部
（53b）の一部を除去するトラック加工を行い、第38図
に示すように所望のトラック幅t2の作動ギャップを有す
る媒体対向突部（54）を形成する。
以後は、第１実施例及び第２実施例と同様にしてスライ
ダー（16）のスリット（15）に前記コアチップ（51）を
固定した後、前記スライダー（16）にチャンファー部
（18）等の外形成型を施すことにより第32図に示す第３
実施例の浮動型磁気ヘッドが完成する。
ダー（16）のスリット（15）に前記コアチップ（51）を
固定した後、前記スライダー（16）にチャンファー部
（18）等の外形成型を施すことにより第32図に示す第３
実施例の浮動型磁気ヘッドが完成する。
上述の第３実施例の浮動型磁気ヘッドにおいても、スラ
イダー（16）に取り付けられている第38図に示すコアチ
ップ（51）は、作動ギャップを有する媒体対向突部（5
4）の側方のガラス充填溝（44）形成部分でガラスとの
濡れ性がよいフェライトよりなるコア半体（52a）（52
b）同士が直接ガラス接合されているので機械的強度に
優れている。更に、上述の製造方法では、第２の基板
（42b）のガラス充填溝（44）及びデプスエンド溝（4
5）に充填した第１のガラス（48）を軟化させることに
より第１の基板（42a）と第２の基板（42b）とをガラス
接合するので、第１のガラス（48）の軟化点よりも80℃
程度高く加熱するだけでよく、第１の基板（42a）と強
磁性金属薄膜（46）との界面での反応はほとんど進行せ
ず、該界面が擬似ギャップとして動作するのが抑えられ
る。
イダー（16）に取り付けられている第38図に示すコアチ
ップ（51）は、作動ギャップを有する媒体対向突部（5
4）の側方のガラス充填溝（44）形成部分でガラスとの
濡れ性がよいフェライトよりなるコア半体（52a）（52
b）同士が直接ガラス接合されているので機械的強度に
優れている。更に、上述の製造方法では、第２の基板
（42b）のガラス充填溝（44）及びデプスエンド溝（4
5）に充填した第１のガラス（48）を軟化させることに
より第１の基板（42a）と第２の基板（42b）とをガラス
接合するので、第１のガラス（48）の軟化点よりも80℃
程度高く加熱するだけでよく、第１の基板（42a）と強
磁性金属薄膜（46）との界面での反応はほとんど進行せ
ず、該界面が擬似ギャップとして動作するのが抑えられ
る。
また、第３実施例の製造方法では、第37図に示すコアチ
ップ（51）はコア半体（52a）（52b）同士がガラス充填
溝（44）に充填された第１のガラス（48）により強固に
接合されているので、媒体対向突部（54）を形成するト
ラック加工時に前記コアチップ（51）が割れるのが防止
され得、製造歩留りが向上する。
ップ（51）はコア半体（52a）（52b）同士がガラス充填
溝（44）に充填された第１のガラス（48）により強固に
接合されているので、媒体対向突部（54）を形成するト
ラック加工時に前記コアチップ（51）が割れるのが防止
され得、製造歩留りが向上する。
また、上述の第３実施例では、コアチップ（51）の衝合
部（53b）側に媒体対向突部（54）を形成したが、トラ
ック加工の位置を逆にすれば、衝合部（53a）側に媒体
対向突部を形成することも出来、このトラック加工位置
を変更することにより、ディスクに対しても上方用の磁
気ヘッドを製造するか或いは下方用の磁気ヘッドを製造
するかを自由に選択することが可能である。
部（53b）側に媒体対向突部（54）を形成したが、トラ
ック加工の位置を逆にすれば、衝合部（53a）側に媒体
対向突部を形成することも出来、このトラック加工位置
を変更することにより、ディスクに対しても上方用の磁
気ヘッドを製造するか或いは下方用の磁気ヘッドを製造
するかを自由に選択することが可能である。
第39図は巻線溝（49）を両コア半体（52a）（52b）に設
けた場合のトラック加工前のコアチップの外観を示す斜
視図であり、このコアチップにトラック加工を施すと第
40図に示す形状になる。
けた場合のトラック加工前のコアチップの外観を示す斜
視図であり、このコアチップにトラック加工を施すと第
40図に示す形状になる。
（ト） 発明の効果 本発明に依れば、ギャップ精度が高く、且つ機械的強度
に優れた浮動型磁気ヘッド及びその浮動型磁気ヘッドを
効率良く製造することが出来る製造方法を提供し得る。
に優れた浮動型磁気ヘッド及びその浮動型磁気ヘッドを
効率良く製造することが出来る製造方法を提供し得る。
また、本発明に依れば、擬似ギャップが発生するのを抑
えた浮動型磁気ヘッドの製造方法を提供し得る。
えた浮動型磁気ヘッドの製造方法を提供し得る。
第１図乃至第９図は本発明の第１実施例に係り、第１図
は浮動型磁気ヘッドの外観を示す斜視図、第２図、第３
図、第４図、第５図、第６図、第７図、第８図及び第９
図は夫々浮動型磁気ヘッドの製造方法を示す図ある。第
10図は作動ギャップ近傍を示す図、第11図、第12図、第
13図、第14図、第15図、第16図、第17図、第18図、第19
図及び第20図は夫々従来の浮動型磁気ヘッドの製造方法
を示す図である。第21図乃至第31図は本発明の第２実施
例に係り、第21図は浮動型磁気ヘッドの外観を示す斜視
図、第22図、第23図、第24図、第25図、第26図、第27
図、第28図、第29図、第30図及び第31図は夫々浮動型磁
気ヘッドの製造方法を示す図である。第32図乃至第38図
は本発明の第３実施例に係り、第32図は浮動型磁気ヘッ
ドの外観を示す斜視図、第33図、第34図、第35図、第36
図、第37図及び第38図は夫々浮動型磁気ヘッドの製造方
法を示す図である。第39図及び第40図は夫々他の実施例
のコアチップの外観を示す斜視図である。 （1a）（1b）……コア半体、（２）……強磁性金属薄
膜、（３）……キャップスペーサ、（５）……第２のガ
ラス、（6a）（6b）……第１、第２の基板、（７）……
予備加工溝、（８）……巻線溝、（10）……第１のガラ
ス、（12）……トラック幅規制溝、（16）……スライダ
ー、（19）……デプスエンド溝、（21）……ブロック、
（22）……コアブロック、（23）……媒体対向突部、
（25）……コアチップ、（26a）（26b）……第１、第２
の基板、（27）……予備トラック面、（28）……予備加
工溝、（29）……デプスエンド溝、（30）……第１のガ
ラス、（31）……強磁性金属薄膜、（33）……ブロッ
ク、（34）……コアブロック、（35）……トラック幅規
制溝、（37）……媒体対向突部、（39）……コアチッ
プ、（40a）（40b）……コア半体、（41）……ギャップ
スペーサ、（42a）（42b）……第１、第２の基板、（4
3）……予備トラック面、（44）……ガラス充填溝、（4
5）……デプスエンド溝、（46）……強磁性金属薄膜、
（47）……ギャップスペーサ、（48）……第１のガラ
ス、（50）……コアブロック、（51）……コアチップ、
（52a）（52b）……コア半体、（54）……媒体対向突
部。
は浮動型磁気ヘッドの外観を示す斜視図、第２図、第３
図、第４図、第５図、第６図、第７図、第８図及び第９
図は夫々浮動型磁気ヘッドの製造方法を示す図ある。第
10図は作動ギャップ近傍を示す図、第11図、第12図、第
13図、第14図、第15図、第16図、第17図、第18図、第19
図及び第20図は夫々従来の浮動型磁気ヘッドの製造方法
を示す図である。第21図乃至第31図は本発明の第２実施
例に係り、第21図は浮動型磁気ヘッドの外観を示す斜視
図、第22図、第23図、第24図、第25図、第26図、第27
図、第28図、第29図、第30図及び第31図は夫々浮動型磁
気ヘッドの製造方法を示す図である。第32図乃至第38図
は本発明の第３実施例に係り、第32図は浮動型磁気ヘッ
ドの外観を示す斜視図、第33図、第34図、第35図、第36
図、第37図及び第38図は夫々浮動型磁気ヘッドの製造方
法を示す図である。第39図及び第40図は夫々他の実施例
のコアチップの外観を示す斜視図である。 （1a）（1b）……コア半体、（２）……強磁性金属薄
膜、（３）……キャップスペーサ、（５）……第２のガ
ラス、（6a）（6b）……第１、第２の基板、（７）……
予備加工溝、（８）……巻線溝、（10）……第１のガラ
ス、（12）……トラック幅規制溝、（16）……スライダ
ー、（19）……デプスエンド溝、（21）……ブロック、
（22）……コアブロック、（23）……媒体対向突部、
（25）……コアチップ、（26a）（26b）……第１、第２
の基板、（27）……予備トラック面、（28）……予備加
工溝、（29）……デプスエンド溝、（30）……第１のガ
ラス、（31）……強磁性金属薄膜、（33）……ブロッ
ク、（34）……コアブロック、（35）……トラック幅規
制溝、（37）……媒体対向突部、（39）……コアチッ
プ、（40a）（40b）……コア半体、（41）……ギャップ
スペーサ、（42a）（42b）……第１、第２の基板、（4
3）……予備トラック面、（44）……ガラス充填溝、（4
5）……デプスエンド溝、（46）……強磁性金属薄膜、
（47）……ギャップスペーサ、（48）……第１のガラ
ス、（50）……コアブロック、（51）……コアチップ、
（52a）（52b）……コア半体、（54）……媒体対向突
部。
フロントページの続き (72)発明者 伊藤 清隆 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三洋 電機株式会社内 (72)発明者 上田 穣 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三洋 電機株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−209705（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−69008（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−149810（ＪＰ，Ａ)
Claims (11)
- 【請求項１】強磁性酸化物材料よりなる一対のコア半体
のギャップ形成面同士を強磁性金属薄膜及びギャップス
ペーサを介して接合してコアチップを形成し、該コアチ
ップを非磁性材料よりなるスライダーに固定してなる浮
動型磁気ヘッドにおいて、前記一対のコア半体同士を作
動ギャップが形成された媒体対向突部の側部で強磁性金
属薄膜及びギャップスペーサを介さずに直接ガラス接合
したことを特徴とする浮動型磁気ヘッド。 - 【請求項２】作動ギャップ近傍部に強磁性金属薄膜を配
置したコアチップを非磁性材料よりなるスライダーに固
定してなる浮動型磁気ヘッドの製造方法において、強磁
性酸化物よりなる第１の基板の上面に所望のトラック幅
より幅広の強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを被着
形成する第１の工程と、前記第１の基板と強磁性酸化物
よりなる第２の基板とを第１のガラスにより接合してコ
アブロックを形成する第２の工程と、前記コアブロック
の媒体対向面にトラック幅規制溝加工を施して幅が所望
のトラック幅である媒体対向突部を形成した後、前記コ
アブロックを切断する第３の工程とによりコアチップを
形成した後、該コアチップを前記第１のガラスより低軟
化点の第２のガラスによりスライダーに固定することを
特徴とする浮動型磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】前記第２の工程において、第２の基板の上
面に溝を形成し、該溝に充填した第１のガラスにより第
１の基板と第２の基板とを接合することを特徴とする請
求項（２）記載の浮動型磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】前記第１の工程において、第１の基板の上
面全域に強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを被着し
た後、ドライエッチングにより余分な部分を除去して所
望のトラック幅より幅広の強磁性金属薄膜及びギャップ
スペーサを形成することを特徴とする請求項（２）又は
（３）記載の浮動型磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項５】作動ギャップ近傍部に強磁性金属薄膜を配
置したコアチップを非磁性材料よりなるスライダーに固
定してなる浮動型磁気ヘッドの製造方法において、強磁
性酸化物よりなる第１、第２の基板を用意して、該第２
の基板の上面に所望のトラック幅より幅広のギャップス
ペーサを被着形成し、該ギャップスペーサの上面に強磁
性金属薄膜を被着形成する第１の工程と、前記第１の基
板と前記第２の基板とを第１のガラスにより前記ギャッ
プスペーサ及び強磁性金属薄膜を介して接合してコアブ
ロックを形成する第２の工程と、前記コアブロックの媒
体対向面にトラック幅規制溝加工を施して幅が所望のト
ラック幅である媒体対向部を形成した後、前記コアブロ
ックを切断する第３の工程とによりコアチップを形成し
た後、該コアチップを前記第１のガラスより低軟化点の
第２のガラスによりスライダーに固定することを特徴と
する浮動型磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項６】前記第１の工程において、第２の基板の上
面に所望のトラック幅よりも幅広の予備トラック面を規
制する溝を形成し、該溝に前記第１のガラスを充填した
後、前記予備トラック面上に前記ギャップスペーサを被
着することを特徴とする請求項（５）記載の浮動型磁気
ヘッドの製造方法。 - 【請求項７】前記第１の工程において、第２の基板の上
面全域にギャップスペーサ及び強磁性金属薄膜を被着し
た後、ドライエッチングにより余分な部分を除去して所
望のトラック幅より幅広の強磁性金属薄膜及びギャップ
スペーサを被着形成することを特徴とする請求項（６）
又は（７）記載の浮動型磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項８】作動ギャップ近傍部に強磁性金属薄膜を配
置したコアチップを非磁性材料よりなるスライダーに固
定してなる浮動型磁気ヘッドの製造方法において、強磁
性酸化物よりなる第１、第２のコア半体同士が該第１の
コア半体のガラス充填溝に充填され前記第２のコア半体
に接触する第１のガラスにより強磁性金属薄膜及びギャ
ップスペーサを介して接合されているコアチップを形成
した後、該コアチップの上面にトラック加工を施して所
望のトラック幅の作動ギャップを有する媒体対向突部を
形成し、その後、前記コアチップを前記第１のガラスよ
り低軟化点の第２のガラスによりスライダーに固定する
ことを特徴とする浮動型磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項９】強磁性酸化物よりなる第１、第２の基板同
士を前記第１のガラスを用いて所望のトラック幅より幅
広の強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを介して接合
してコアブロックを形成した後、該コアブロックを切断
して前記コアチップを形成することを特徴とする請求項
（８）記載の浮動型磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項１０】前記第１の基板に所望のトラック幅より
も幅広の強磁性金属薄膜を被着形成し、該強磁性金属薄
膜上にギャップスペーサを被着形成し、前記第２の基板
に所望のトラック幅よりも幅広の予備トラック面を規制
する溝を形成し、該溝に第１のガラスを充填した後、前
記ギャップスペーサと前記予備トラック面とを衝き合わ
せた状態で前記第１のガラスを溶融固化することにより
前記第１の基板と前記第２の基板とを接合して前記コア
ブロックを形成することを特徴とする請求項（９）記載
の浮動型磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項１１】前記第１の基板の上面全域に強磁性金属
薄膜及びギャップスペーサを被着した後、ドライエッチ
ングにより余分な部分を除去して所望のトラック幅より
も幅広の強磁性金属薄膜及びギャップスペーサを形成す
ることを特徴とする請求項（９）又は（10）記載の浮動
型磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63271274A JPH0778853B2 (ja) | 1988-05-06 | 1988-10-27 | 浮動型磁気ヘツド及びその製造方法 |
| CA000598639A CA1319427C (en) | 1988-05-06 | 1989-05-03 | Magnetic head of floating type and process for producing same |
| US07/347,372 US5016341A (en) | 1988-05-06 | 1989-05-04 | A process for producing magnetic heads of the floating type |
| KR1019890006012A KR0130488B1 (ko) | 1988-05-06 | 1989-05-04 | 부동형 자기 헤드 및 그 제조 방법 |
| DE68917507T DE68917507T2 (de) | 1988-05-06 | 1989-05-05 | Schwebender Magnetkopf und Herstellungsverfahren. |
| EP89108103A EP0340781B1 (en) | 1988-05-06 | 1989-05-05 | Magnetic head of floating type and process for producing same |
| HK63395A HK63395A (en) | 1988-05-06 | 1995-04-27 | Magnetic head of floating type and process for producing same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-111324 | 1988-05-06 | ||
| JP11132488 | 1988-05-06 | ||
| JP63271274A JPH0778853B2 (ja) | 1988-05-06 | 1988-10-27 | 浮動型磁気ヘツド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0256707A JPH0256707A (ja) | 1990-02-26 |
| JPH0778853B2 true JPH0778853B2 (ja) | 1995-08-23 |
Family
ID=26450747
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63271274A Expired - Fee Related JPH0778853B2 (ja) | 1988-05-06 | 1988-10-27 | 浮動型磁気ヘツド及びその製造方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
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