JPH02235829A - フェノールのヒドロキシル化方法 - Google Patents

フェノールのヒドロキシル化方法

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JPH02235829A
JPH02235829A JP2024574A JP2457490A JPH02235829A JP H02235829 A JPH02235829 A JP H02235829A JP 2024574 A JP2024574 A JP 2024574A JP 2457490 A JP2457490 A JP 2457490A JP H02235829 A JPH02235829 A JP H02235829A
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ミシェル・ギュベルマン
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ジャンミシェル・ポパ
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07C37/60Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by oxidation reactions introducing directly hydroxy groups on a =CH-group belonging to a six-membered aromatic ring with the aid of other oxidants than molecular oxygen or their mixtures with molecular oxygen
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    • C07C41/01Preparation of ethers
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は過酸化水素によるフェノールないしフェノール
エーテルのヒドロキシル化方法に関する。
ジフェノールを製造すべ《過酸化水素によりフェノール
ないし置換フェノールをヒドロキシル化することは既知
の反応である. 2.071.464の番号で公告された仏国特許出願6
9−45,467には、反応を例えば過塩素酸又は硫酸
の如き強酸により触媒される方法が記載されている。
独国特許第2.410.742号には、上記と類似の方
法にして、過酸化水素が事実上無水の有機溶液形状で用
いられる方法が記載されている。
これら二つの方法は大いに興味深く、また最初の方法は
工業的規模で用いられている.しかしながら、ここ数年
間、反応媒体からの分離と見込まれる再循環を簡素化す
るため且つ、溶解した酸触媒の除去時に大抵の場合形成
される副産物の塩を排除するために、媒体に溶解しない
固体によってヒドロキシル化反応を触媒する試みがなわ
れている. 斯くして、仏国特許出願81−17.023(公告番号
2,489.816)には、過酸化水素による芳香族化
合物のヒドロキシル化でチタンシリカライトを不均質触
媒として用いることが明記されている. 使用触媒の粒度が小さいと、反応媒体からの分離が非常
に困難になり、また例えコスト高な触媒を再循環しうる
ことが工業的プロセスで不可欠であるとしてもその触媒
の再循環で問題が生じる。
この触媒分離の問題を克服するのに、斯かる微細粒子の
チタンシリカライト凝集物を用いることが、2 0 0
. 2 6 0の番号で公告されたヨーロッパ特許出願
に提案されでいる. また、ヨーロッパ特許出願第299.893号には,触
媒としてブリッジクレーな用いることが提案されている
。例えこの方法で興味深い結果が得られたとしても、過
酸化水素によるフェノールないしフェノールエーテルの
ヒドロキシル化の不均質触媒に関する研究は続行されて
きた。
本発明はこの方法で完遂された, 斯《して、本発明は下記一般式(工):OR. [式中、 R,は水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基を
表わし、 R,は水素原子、炭素原子1〜4個のアルキル基、炭素
原子1〜4個のアルコキシ基又はフェニル基若しくはシ
クロヘキシル基を表わす〕のフェノールないしフェノー
ルエーテルを過酸化水素との反応によりヒドロキシル化
するに際し、該反応を有効量の二酸化チタンの存在で実
施することを特徴とする方法にある. 本発明の範囲で用いることのできる数種類の天然ないし
人造二酸化チタンがある。
斯くして、アナターゼ型二酸化チタンおよびルチル型二
酸化チタンを用いることができ、更に熱安定性範囲が例
え狭《ともプルッカイト型二酸化チタンを用いることが
できる。
天然二酸化チタンを触媒として用いることができるが、
しばしば合成して得られる二酸化チタンが用いられる。
後者は市販されている。
また、イルメナイトの如き鉱物から製造することもでき
る。
二酸化チタンはまた、触媒として本発明のヒドロキシル
化法で用いる前に処理することができる。
斯くして、約300℃〜1000℃好ましくは300℃
〜700℃の温度で1時間〜数時間焼成を行なうことが
できる。アナターゼ型T i O xと硝酸カリウムと
を高温(800℃以上)で反応させてチタン酸カリウム
を形成し、得られたチタン酸塩を熱加水分解させ、約4
00〜600℃の温度で焼成することにより異なる構造
の二酸化チタンを得ることができる。
二酸化チタンは、押出し、成形、焼成又は他の任意タイ
プの既知方法によって得られる種々の形状すなわちペレ
ット(例えば円筒状若しくは三裂状》、球体又はモノリ
ス(ハニカム形ブロック状)の形状で用いることができ
る. 実施時、ペレット、球体およびモノリスの形状は、触媒
活性部位が反応体の拡散によってより容易に到達される
ので効力に関しきわめて有利であり、且つ取扱い容易性
に関してもきわめて有利である。
本発明方法に好ましく用いられるフェノールないしフェ
ノールエーテルは、式(I)中R1が水素原子、メチル
基又はエチル基を表わし、R2が水素原子、メチル、エ
チル若しくはt−ブチル基又はメトキシ若しくはエトキ
シ基を表わす化合物である. 非制限的例としてフェノール、アニソール、オルトクレ
ゾール、メタクレゾール、パラクレゾール、4−t−プ
チルフェノール、2−メトキシフェノールおよび4−メ
トキシフェノールを挙げることができる. 本発明に従った方法は、ヒドロキノンおよびビロカテコ
ールの製造用フェノールの使用に特に適している. 注目すべきは、得られるビロカテコール/ヒドロキノン
比がきわめて頻発的に2より高いことであり、そしてこ
のことは、これら2種のジフェノールに関する販路の相
対的重要さに鑑み特に興味深い。
3より高いビロカテコール/ヒドロキノン比を得ること
が可能でさえある。
過酸化水素は、概ね20重量%より高い過酸化水素濃度
を有する水溶液形状で用いることができる。過酸化水素
はまた、有機溶剤中の溶液形状で用いることもできる。
過酸化水素を適用するのに用いることのできる有機溶剤
として、エステル特に飽和脂肪族カルボン酸のアルキル
ないしシクロアルキルエステルを用いることができる。
好ましくは、炭素原子総数4〜8個を有するアルキル酢
酸塩ないしプロビオン酸塩又は斯かるエステルの混合物
が用いられる。例えば、ジオキサン、ジイソブ口ビルエ
ーテル又はメチルt−プチルエーテルの如きエーテル中
の過酸化水素の溶液を用いることができる. 式Iの化合物/過酸化水素モル比は概ね25/1〜3/
1好ましべは20/1〜4/1である. 本発明方法に用いることのできる、上に定義した二酸化
チタンの量は非常に広い範囲で変動しつる. もし本方法を断続的に実施するなら、触媒は、用いられ
る式(I)の化合物に関して0. 1〜20重量%を占
めることができる。好ましくは、この重量比は0.5〜
10%である.もし本方法を連続的に、しかしながら例
えば化合物(I)の混合物と過酸化水素溶液を触媒の固
定床若しくはモノリス上で反応させることにより実施す
るなら、斯かる触媒/化合物(I)比はもはやいかなる
意味も持たず、或る場合化合物(I)に対して重量過剰
の触媒が存在することもありうる.化合物(I)の溶剤
中で該化合物(I)のヒドロキシル化反応を実施するこ
ともでき,そしてその溶剤は好ましくは水と混和性ない
し部分混和性である. 斯かる溶剤の非制限的例として水、アルコール例えばメ
タノール、t−ブタノール、イソブロバノール若しくは
エタノール、ケトン例えばアセトン若しくはメチルイソ
ブチルケトン、ニトリル例えばアセトニトリル、カルボ
ン酸例えば酢酸、エステル例えば酢酸プロビル、エーテ
ル例えばメチルt−プチルエーテル、中性極性溶剤例え
ばテトラヒド口チオフエンジオキシド(スルフオラン)
、エチレングリコールカーボネート、ブロビレングリコ
ールカーボネートおよびN−メチルビロリドンを挙げる
ことができる. 反応の実施温度は、大気圧下で概ね45℃〜160℃で
ある.また、より高い温度で且つ大気圧より高い圧力で
実施することもできる.後記例は本発明を例示する. ′    の      の I−BET =6m”  のTiOz (I)Q硝酸カ
リウムとアナターゼ型二酸化チタンとをi ooo℃で
反応させて四チタン酸カリウムKxTiaO@を調製す
る. 次いで、この四チタン酸カリウムを熱時加水分解させ、
引続き500℃で焼成して、6m8/gの比表面積BE
Tを有するTie. (1)Bを得る.U−BET=6
2m”  のTlO(II)旦硝酸カリウムとアナター
ゼ型二酸化チタンとを1000℃で反応させて四チタン
酸カリウムK*Ti40。を調製する. 次いで、この四チタン酸カリウムを熱時加水分解させ、
500℃で焼成し、引続き粉砕して、62m″/gの比
表面積BETを有する110g (II)Bを得る. III−BE丁=23m”   のノレチノレ TLO
 (III)Bオキシ塩化チタンを加水分解する.得ら
れた溶液はデカンテーションとが過により洗浄し、次い
で24時間120℃で炉内乾燥する.rV − BET
= 4 m ”   のアナターゼ TiO (■)■
で調製したTLOt (I)Bを650℃で焼成する.
それによって+ 4 m ” / gの比表コ積BET
を有するアナターゼ型TiO*(IV)を得る.V −
 BFT−=208 m”  のアナ ーゼ TiO(
V)イルメナイトを常法により硫酸で砕解する.?水分
解と炉過後に得た、硫酸塩アニオンをS0./TLOx
の重量比が0.OSに等しいような量で含有する酸化チ
タン懸濁物に、水酸化カルシウムを、硫酸塩90%が反
応するように加える. 次いで、懸濁物な噴霧乾燥する. それによって、zogm”/gの比表面積BETを有す
るアナターゼ型TiOt(V)を得る.Vl − BE
T = 212 m ”  のアナ ーゼ TiO(V
)イルメナイトを常法により硫酸で砕解する。
加水分解と炉過後に得た、硫酸塩アニオンをS04/T
iO■の重量比が0.08に等しいような量で含有する
酸化チタン懸濁物に、水酸化カルシウムを、硫酸塩12
0%が反応しうろように加える.次いで、懸濁物を噴霧
乾燥する. それによって、212 m”/gの比表面積BETを有
するアナターゼ型TiO■(Vt)を得る.■一BET
= 286 m ”  のア  ーゼ Tilt(■)
イルメナイトを常法により硫酸で砕解する.加水分解と
t戸過後に得た酸化チタン懸濁物を,SO4/TiOx
の重量比が0.06に等しいように2Nアンモニア溶液
で洗浄する, 次いで、懸濁物を噴霧乾燥する. それによって、286m”/gの比表面積BETを有す
るアナターゼ型TiO*(■)を得る.■−BET= 
105 m ”  のアナターゼ Ti(h (■)イ
ルメナイトを常法により硫酸で砕解する.加水分解と冫
戸過後に得た酸化チタン懸濁物を、SO4/TiOaの
重量比が0. 0001に等しいように2Nアンモニア
溶液で洗浄する. 次いで、懸濁物を噴霧乾燥する. 生成物を400℃で3時間焼成する. それによって、105m”/gの比表面積BETおよび
表面中0.01%の硫酸塩イオン含量を有するアナター
ゼ型TiO言■》を得る. IX − BET =237 m”  のアナ ーゼ 
TiO (IX)イルメナイトを常法により硫酸で砕解
する.加水分解と炉過後に得た酸化チタン懸濁物を、S
04/TiO*の重量比が0.01に等しいように2N
アンモニア溶液で洗浄する. 次いで、懸濁物を噴霧乾燥する. それによって、237m”/gの比表面積BETを有す
るアナターゼ型Tilt([X)を得る.X−アナ ー
ゼ TlO(X) イルメナイトを常法により硫酸で砕解する。
加水分解と炉過後に得た、硫酸塩アニオンをS04/T
iO*の重量比が0.08に等しいような量で含有する
酸化チタン懸濁物に、水酸化カルシウムを、硫酸塩90
%が反応しつるように加える。
次いで、懸濁物な噴霧乾燥し、引続き400℃で3時間
焼成する. それによって、表面中7〜8%の硫酸塩イオン含量およ
び190 m”/gの比表面積を有するアナターゼ型T
iO言■)を得る. 涯上二エユ 中心棒磁石撹拌機、ガス溜めに接続する凝縮器、制御加
熱系および注入系を備えた30c+a”バイレックスガ
ラス製反応器を予め窒素で掃気した後、この反応器にフ
ェノール9.4g(0.10モル)と二酸化チタン0.
25gを装入する.この混合物を撹拌しながら80℃に
加熱し、次いで7 0 w/w%の010鵞水溶液(H
,0, 0.00050モル)を注入する. 次いで、混合物を2時間30分反応させる。
触媒を冫戸去後、未転化H.08をよう素滴定法で分析
し、ジフェノールは高性能リキッドクロマトグラフィー
( HPLC)によって分析する.このようにして、各
実験で下記事項を測定する: HオO,の転化率(CR). 転化したH20.に対するビロカテコールの収率(Y/
PC)、 転化したH*Dxに対するヒドロキノンの収率(Y/I
Q)、 ジフェノールの総収率(総Y冫, 各実験における使用触媒および得られた結果を下記表1
に要約する: 医」一先二二Lヱ 中心棒磁石撹拌機、ガス溜めに接続する凝縮器、制御加
熱系および注入系を備えた30cm”バイレックスガラ
ス製反応器を予め窒素で掃気した後、この反応器にフェ
ノール4−7g(0.05モル)と、400℃で3時間
焼成したBET 105 rs”/gノアナターゼ型T
ilt (VIII) 0. 2 5 gと溶剤(下記
表2参照のこと)4.7gを装入する.この混合物を撹
拌しながら100℃に加熱し、次いで7 0 w/w%
のH,0,水溶液( HtOi0. 0025モル)を
注入する. 次いで、混合物を2時間30分反応させる。
触媒を冫戸去後、未転化H!島をよう素滴定法で分析し
、ジフェノールは高性能リキッドクロマトグラフィー(
}IPLC)によって分析する.得られた結果を下記表
2に要約する: 表一」. l4  酢酸   90.0  31.5  10.0
15   7セトニトリル   91.5    37
.0    5.516  メチルエチルケトン 52
.5    27.0    4.5l7  スル本ラ
ン     96.0    33.5    8.5
4l.5 42.5 31.5 42.0 ?10を反復するが、但しl−ヒドロキシエタン四水素
ジホスフエート0.412g( 0.2ミリモル)を加
える. H.08の添加後、実験物を80℃で20時間放置する
. 下記結果を得る: H.O■のCR       :85.5%ビロカテコ
ールのY:40.5% ヒドロキノンのY   :25.0% ジフェノールの総Y:65.5% PC/HQ比    :1.6 ?」一旦 中心棒磁石撹拌機、ガス溜めに接続する凝縮器、制御加
熱系および注入系を備えた100c+w”バイレックス
ガラス製反応器を予め窒素で掃気した後、この反応器に
フェノール50.1g(0.53モル)と、400℃で
1時間30分焼成し次いで550℃で2時間焼成したア
ナターゼ型Ties (IX)0.499gを装入する
. この混合物を撹拌しながら80℃に加熱し、次いで69
.5w/w%のH,0,水溶液0. 3 3 5 g(
H20■6.85ミリモル)を注入する.次いで、混合
物を45分間80℃で反応させる。
?媒を消去後,未転化H.O■をよう素滴定法で分析し
、ジフェノールは高性能リキッドクロマトグラフィー(
HPLC)によって分析する。
下記結果を得る: H20■のCR       :99.5%ビロカテコ
ールのY:58.O% ヒドロキノンのY   :13.5% ?フェノールの総Y:71.5% PC/HQ比    :4.3 鯉呈ユ 中心棒磁石撹拌機、ガス溜めに接続する凝縮器、制御加
熱系および注入系を備えた100cm”バイレックスガ
ラス製反応器を予め窒素で掃気した後、この反応器にフ
ェノール47.og(0.5モル)と、400℃で1時
間30分焼成し次いで550℃で2時間焼成したアナタ
ーゼ型TiOx(IX)0.5gを装入する. この混合物を撹拌しながら80℃に加熱し、次いで70
W/買%のH,0■水溶液1. 2 8 7 g(8.
0. 2 6. 5ミリモル)を注入する.次いで、混
合物を80℃で10分間反応させる. 触媒をi戸去後、未転化H,0.をよう素滴定法で分析
し、ジフェノールは高性能リキッドクロマトグラフィー
( HPLC)によって分析する.下記結果を得る: H20,のCR       : 93、5%ピロカテ
コールのY:40.0% ヒドロキノンのY:7.0% ジフェノールの総Y:47.O% PC/HQ比    :5.9 匠呈ユ 中心棒磁石撹拌機、ガス溜めに接続する凝縮器、制御加
熱系および注入系を備えた100cm+”バイレックス
ガラス製反応器を予め室素で掃気した後、この反応器に
フェノール47.0g(0.5モル)と、400℃で1
時間30分焼成し次いで550℃で2時間焼成したアナ
ターゼ型Ties (IX)0.5gを装入する. この混合物を撹拌しながら110℃に加熱し、次いで7
 0 w/w%のH80,水溶液1.287g(H.0
. 2 6. 5ミリモル)を注入する.次いで、混合
物を110℃で5分間反応させる。
触媒を炉去後、未転化H10,をよう素滴定法で分析し
、ジフェノールは高性能リキッドクロマトグラフィ−(
 HPLC)によって分析する.下記結果を得る: H冨0冨のCR       :98.O%ビロカテコ
ールのY:34.O% ヒドロキノンのY:9.Q% ジフェノールの総Y:43.O% PC/HQ比    :3,8 匠呈ユ 例2lを反復するが、反応を150℃で実施する. 下記結果を得る: H,03のCR       :100%ビロカテコー
ルのY:22.0% ヒドロキノンのY:8.5% ジフェノールの総Y:30.5% PC/HQ比    =2.6 え1lニュ1 中心棒磁石撹拌機、ガス溜めに接続する凝縮器、制御加
熱系および注入系を備えた30cm”パイレックスガラ
ス製反応器を予め窒素で掃気した後、この反応器にフェ
ノール4.7g(0.05モル)と、400℃で1時間
30分焼成し次いで550℃で2時間焼成したアナター
ゼ型Ties (IX)0.1gと、溶剤(下記表3を
参照)4.7gを装入する. この混合物を撹拌しながら80℃に加熱し、次いで70
w/w%のH*Ox水溶液(HJs 0.0025モル
)を注入する. 次いで、潰合物を2時間30分反応させる,触媒を炉去
後、未転化H,08をよう素滴定法で分析し、ジフェノ
ールは高性能リキッドクロマトグラフィ−(HPLC)
によって分析する.得られた結果を下記表3に要約する
: 23  ア七トニトリル   97.5    40.
0   11.5   51.5    3.424 
 エタノール     97.5    2g、5  
 14.5   43.0    1.925  メチ
ルt−ブチル  95。5    42.5   11
.5   54.0    3.7エーテル 阿26廷1ユF2ユ 中心棒磁石撹拌機、ガス溜めに接続する凝縮器、制御加
熱系および注入系を備えた30cm”バイレックスガラ
ス製反応器を予め窒素で掃気した後、この反応器にフェ
ノール9.4g(0.10モル)と,別異の温度で3時
間焼成したアナターゼ型二酸化チタン(IX) 0. 
1 gを装入する。
この混合物を撹拌しながら80℃に加熱し、次いで7 
0 w/w%のH*Os水溶液(HJx 0.0050
モル)を注入する. 次いで、混合物を80℃で10分間反応させる. 触媒な炉去後,未転化H.0,をよう素滴定法で分析し
、ジフェノールは高性能リキッドクロマトグラフィ−(
HPLC)によって分析する.得られた結果を下配表4
に要約する: 人一一丘 触媒な炉去後、未転化H,0.をよう素滴定法で分析し
、ジフェノールは高性能リキッドクロマトグラフィ−(
 }IPLc)によって分析する。
得られた結果を下記表5に要約する: BET=比表面積BET 九l旦ニュユ 中心棒磁石撹拌機、ガス溜めに接続する凝縮器,制御加
熱系および注入系を備えた30cm″バイレックスガラ
ス製反応器を予め窒素で掃気した後、この反応器にフェ
ノール9.4g(0.10モル)と、別異の温度で3時
間焼成したアナターゼ型二酸化チタン(IX1 0. 
1 g若しくは0.25gを装入する. この混合物を撹拌しながら80℃に加熱し、次いで70
w/w%のH101水溶液(Hoot 0.0050モ
ル)を注入する. 次いで、混合物を80℃で2時間30分反応させる。
中心撹拌機、ガス溜めに接続する凝縮器,制御加熱系お
よび注入系を備えたloOcm″バイレックスガラス製
反応器を予め窒素で掃気した後、この反応器にフェノー
ル47g(0.50モル)と、400℃で3時間焼成し
た二酸化チタン(THANN ET MOL}!OUS
E CoのGEL G5 NG 079 1  1 g
と溶剤(表6)47gを装入する。
この混合物を撹拌しながら80℃に加熱し、次いで7 
0 w/w%のHJ*水溶液(Hs(h 0.025モ
ル)を2分で注入する. 次いで、混合物を80”Cで2時間反応させる. 触媒を炉去後、未転化H,0,をよう素滴定法で分析し
、ジフェノールは高性能リキッドクロマトグラフィ−(
 HPLC)によって分析する.得られた結果を下記表
6に要約する: 31   r七トニトリル 94.6 46.3   11.3   57.64.1 32   t−1タノール 98.5 46,8   14.8   61.63.2 34   r士トン 95.3 43.2   18.5   61.72.3

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、 R_1は水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基
    を表わし、 R_2は水素原子、炭素原子1〜4個のアルキル基、炭
    素原子1〜4個のアルコキシ基又はフェニル基若しくは
    シクロヘキシル基を表わす]のフェノールないしフェノ
    ールエーテルを過酸化水素との反応によりヒドロキシル
    化するに際し、前記反応を有効量の二酸化チタンの存在
    で実施することを特徴とする方法。 2、R_1が水素原子、メチル基又はエチル基を表わし
    、R_2が水素原子、メチル、エチル若しくはt−ブチ
    ル基又はメトキシ若しくはエトキシ基を表わす式( I
    )のフェノールないしフェノールエーテルに適用される
    ことを特徴とする、特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、フェノール、アニソール、オルトカテコール、メタ
    クレゾール、パラクレゾール、4−t−ブチルフェノー
    ル、2−メトキシフェノールおよび4−メトキシフェノ
    ールより選ばれるフェノールないしフェノールエーテル
    に適用されることを特徴とする、特許請求の範囲第1項
    又は2項記載の方法。 4、二酸化チタンが式( I )の化合物の重量に対して
    0.1〜20重量%好ましくは0.5〜10重量%を占
    めることを特徴とする、断続的に実施される、特許請求
    の範囲第1項〜3項のいずれか一項記載の方法。 5、二酸化チタンの固定床上で連続的に実施されること
    を特徴とする、特許請求の範囲第1項〜3項のいずれか
    一項記載の方法。 6、アナターゼ型二酸化チタン、ルチル型二酸化チタン
    およびプルッカイト型二酸化チタンが用いられることを
    特徴とする、特許請求の範囲第1項〜5項のいずれか一
    項記載の方法。 7、二酸化チタンの焼成が約300℃〜1000℃好ま
    しくは300℃〜700℃の温度で1時間〜数時間実施
    されることを特徴とする、特許請求の範囲第1項〜6項
    のいずれか一項記載の方法。 8、式( I )の化合物/過酸化水素モル比が25/1
    〜3/1好ましくは20/1〜4/1であることを特徴
    とする、特許請求の範囲第1項〜7項のいずれか一項記
    載の方法。 9、過酸化水素が水溶液の形状で用いられることを特徴
    とする、特許請求の範囲第1項〜8項のいずれか一項記
    載の方法。 10、過酸化水素が有機溶液の形状で用いられることを
    特徴とする、特許請求の範囲第1項〜8項のいずれか一
    項記載の方法。 11、ヒドロキシル化反応が、式( I )の化合物の溶
    剤にして好ましくは水と混和性ないし部分混和性である
    、水、アルコール、ケトン、ニトリル、カルボン酸、エ
    ステル、エーテル又は極性溶剤の如き溶剤中で実施され
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第1項〜10項の
    いずれか一項記載の方法。 12、ヒドロキシル化反応が45℃〜160℃の温度で
    実施されることを特徴とする、特許請求の範囲第1項〜
    11項のいずれか一項記載の方法。 13、二酸化チタンが、ペレット、球体又はモノリスの
    形で用いられることを特徴とする、特許請求の範囲第1
    項〜11項のいずれか一項記載の方法。
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