JPH0223859B2 - - Google Patents
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- JPH0223859B2 JPH0223859B2 JP57029143A JP2914382A JPH0223859B2 JP H0223859 B2 JPH0223859 B2 JP H0223859B2 JP 57029143 A JP57029143 A JP 57029143A JP 2914382 A JP2914382 A JP 2914382A JP H0223859 B2 JPH0223859 B2 JP H0223859B2
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- photosensitive
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/004—Photosensitive materials
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- G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
- G03F7/0236—Condensation products of carbonyl compounds and phenolic compounds, e.g. novolak resins
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、露光の際に水性アルカリ性溶液中で
溶解度が変化する感光性化合物又は感光性の化合
物組合せ物とノボラツクとより成る感光性混合
物、並びに支持体と前記の混合物より成る感光層
とを包含する感光性複写材料に関する。
溶解度が変化する感光性化合物又は感光性の化合
物組合せ物とノボラツクとより成る感光性混合
物、並びに支持体と前記の混合物より成る感光層
とを包含する感光性複写材料に関する。
感光性化合物としてポジチブに作用するo−キ
ノン−ジアジドを含有しかつ殊に印刷版の製造に
使用される前記種類の混合物は公知である、例え
ば西ドイツ国特許第1195166号明細書(米国特許
第3201239号明細書)。これらの公知の混合物はフ
エノール/ホルムアルデヒド−又はクレゾール/
ホルムアルデヒド−ノボラツクを含有する。
ノン−ジアジドを含有しかつ殊に印刷版の製造に
使用される前記種類の混合物は公知である、例え
ば西ドイツ国特許第1195166号明細書(米国特許
第3201239号明細書)。これらの公知の混合物はフ
エノール/ホルムアルデヒド−又はクレゾール/
ホルムアルデヒド−ノボラツクを含有する。
西ドイツ国特許公開第2512933号明細書から類
似の混合物が公知であるが、ただし炭素原子3〜
15個を有するアルキル基を含むアルキルフエノー
ル、又はシクロアルキルフエノールから得られる
ノボラツク樹脂を含有する。更に、アルキルフエ
ノールはハロゲン原子により置換されていてよい
が、ハロゲン置換されたアルキルフエノールの詳
細な例は挙げられていない。置換フエノールから
得られたノボラツクは平版印刷版の画像区域の改
良された親油性をもたらし、従つて高い刷数をも
たらす。しかしこのノボラツクを使つて製造した
感光層が有機溶剤、例えばベンジルアルコールを
含有する現像液でしか現像し得ないという欠点を
有する。このため、一般にこの樹脂は常用のフエ
ノール/ホルムアルデヒド−又はクレゾール/ホ
ルムアルデヒド−ノボラツクと組合せてかつ有利
に全混合物に対して1〜20重量%の量で使用され
るに過ぎない。露光の際に配を脱離する化合物と
酸分解可能な化合物、例えばアセタールとオルト
−カルボン酸エステルとのポジチブに作用する混
合物もまた公知であり、この混合物は高い量的割
合でノボラツクを含有している。この種の混合物
は例えば米国特許第4101323号明細書及び同第
4247611号明細書並びに西ドイツ国特許公開第
2928636号明細書に記載されている。
似の混合物が公知であるが、ただし炭素原子3〜
15個を有するアルキル基を含むアルキルフエノー
ル、又はシクロアルキルフエノールから得られる
ノボラツク樹脂を含有する。更に、アルキルフエ
ノールはハロゲン原子により置換されていてよい
が、ハロゲン置換されたアルキルフエノールの詳
細な例は挙げられていない。置換フエノールから
得られたノボラツクは平版印刷版の画像区域の改
良された親油性をもたらし、従つて高い刷数をも
たらす。しかしこのノボラツクを使つて製造した
感光層が有機溶剤、例えばベンジルアルコールを
含有する現像液でしか現像し得ないという欠点を
有する。このため、一般にこの樹脂は常用のフエ
ノール/ホルムアルデヒド−又はクレゾール/ホ
ルムアルデヒド−ノボラツクと組合せてかつ有利
に全混合物に対して1〜20重量%の量で使用され
るに過ぎない。露光の際に配を脱離する化合物と
酸分解可能な化合物、例えばアセタールとオルト
−カルボン酸エステルとのポジチブに作用する混
合物もまた公知であり、この混合物は高い量的割
合でノボラツクを含有している。この種の混合物
は例えば米国特許第4101323号明細書及び同第
4247611号明細書並びに西ドイツ国特許公開第
2928636号明細書に記載されている。
更に、例えば米国特許第3867147号明細書、例
54及び61からジアゾニウム塩縮合生成物とノボラ
ツクとの混合物が公知である。
54及び61からジアゾニウム塩縮合生成物とノボラ
ツクとの混合物が公知である。
ノボラツクを含有するそのような混合物をベー
スとする感光性平版印刷板から製造した平版印刷
版は高い印数により優れている。しかし、そのよ
うな印刷版の印刷ステンシルは今日度々使用され
るようなアルコールを含有する湿し液に対して一
定の感受性を示す。印刷ステンシルは侵食されか
つ刷数は低下する。水性アルカリ性現像液及びガ
ソリン溶剤、例えば複写操作で又は印刷機上で使
われるものに対する抵抗性はいくつかの場合に十
分ではない。
スとする感光性平版印刷板から製造した平版印刷
版は高い印数により優れている。しかし、そのよ
うな印刷版の印刷ステンシルは今日度々使用され
るようなアルコールを含有する湿し液に対して一
定の感受性を示す。印刷ステンシルは侵食されか
つ刷数は低下する。水性アルカリ性現像液及びガ
ソリン溶剤、例えば複写操作で又は印刷機上で使
われるものに対する抵抗性はいくつかの場合に十
分ではない。
そのような印刷ステンシルの抵抗性を180℃を
上回る温度でベーキングすることにより高めるこ
とはできるが、この付加的な操作工程にはすべて
の場合に印刷版の前処理又は後処理が、それ故或
る一定の操作ロスが必要となる。
上回る温度でベーキングすることにより高めるこ
とはできるが、この付加的な操作工程にはすべて
の場合に印刷版の前処理又は後処理が、それ故或
る一定の操作ロスが必要となる。
本発明の目的は、公知混合物の利点と更にガソ
リン溶剤、アルカリ性現像液及びアルコール含有
湿り液に対する高い抵抗性を有する、殊に平版印
刷版を製造するための感光性混合物を開示するこ
とである。
リン溶剤、アルカリ性現像液及びアルコール含有
湿り液に対する高い抵抗性を有する、殊に平版印
刷版を製造するための感光性混合物を開示するこ
とである。
本発明により、感光性化合物又は感光性の化合
物組合せ物とノボラツクとから成りかつ水性アル
カリ性溶液中の溶解度が露光の際に変化する感光
性混合物が提案され、これはノボラツクが臭素化
されたフエノール単位又はクレゾール単位を含有
することを特徴とする。
物組合せ物とノボラツクとから成りかつ水性アル
カリ性溶液中の溶解度が露光の際に変化する感光
性混合物が提案され、これはノボラツクが臭素化
されたフエノール単位又はクレゾール単位を含有
することを特徴とする。
一般に、ノボラツクの臭素含量は約15〜50重量
%であつてよい。殊に臭素原子はOH基に対して
m−位又はp−位に存在する。クレゾール単位の
メチル基も同様にm−位又はp−位であると有利
である。樹脂の平均分子量は約800〜5000である。
%であつてよい。殊に臭素原子はOH基に対して
m−位又はp−位に存在する。クレゾール単位の
メチル基も同様にm−位又はp−位であると有利
である。樹脂の平均分子量は約800〜5000である。
この新規ノボラツクは公知のノボラツクと同様
にしてブロモフエノール又は−クレゾールと同様
にしてハロゲンフエノールとホルムアルデヒドと
の縮合反応により生成することができる。縮合反
応をエタノール、メトキシ−又はエトキシ−エチ
ルアセテート、ジオキサン、又はクロロベンゼン
のような有機溶剤中、塩化水素酸又はシユウ酸の
ような酸縮合剤の存在において温度範囲80〜130
℃で実施すると有利である。温度に応じて反応時
間は約1/2〜4時間であつてよい。
にしてブロモフエノール又は−クレゾールと同様
にしてハロゲンフエノールとホルムアルデヒドと
の縮合反応により生成することができる。縮合反
応をエタノール、メトキシ−又はエトキシ−エチ
ルアセテート、ジオキサン、又はクロロベンゼン
のような有機溶剤中、塩化水素酸又はシユウ酸の
ような酸縮合剤の存在において温度範囲80〜130
℃で実施すると有利である。温度に応じて反応時
間は約1/2〜4時間であつてよい。
ブロモフエノール又は−クレゾールを臭素不含
のフエノール又はアルキルフエノールとの混合物
として縮合反応に使用することもできる。
のフエノール又はアルキルフエノールとの混合物
として縮合反応に使用することもできる。
有利に、臭素化ノボラツクはハロゲン不含のノ
ボラツク、例えば市販のフエノールノボラツク又
はクレゾールノボラツクを後から臭素化して生成
することもできる。臭素化を氷酢酸中室温で又は
高められた温度、例えば60〜100℃で実施すると
好適である。
ボラツク、例えば市販のフエノールノボラツク又
はクレゾールノボラツクを後から臭素化して生成
することもできる。臭素化を氷酢酸中室温で又は
高められた温度、例えば60〜100℃で実施すると
好適である。
感光性混合物中の臭素化ノボラツクの濃度は、
感光性系の特性に応じて広範囲に変動させること
ができる。一般に、その割合は感光性混合物の不
揮発性成分の重量に対して10〜95重量%、殊に約
20〜80重量%である。
感光性系の特性に応じて広範囲に変動させること
ができる。一般に、その割合は感光性混合物の不
揮発性成分の重量に対して10〜95重量%、殊に約
20〜80重量%である。
他の主成分として本発明による混合物は感光性
化合物又は感光性の化合物組合せ物を含有し、水
性アルカリ性現像液中のその溶解度が露光の際に
変化する。好適なネガチブに作用する化合物はジ
アゾニウム塩縮重合生成物及びp−キノン−ジア
ジドである。ポジチブに作用する系は優れてお
り、即ち溶解度が露光により高まるものである。
就中、この系はo−キノン−ジアジド、及び光分
解酸供与体と酸により分解可能な化合物との組合
せ物を包含する。
化合物又は感光性の化合物組合せ物を含有し、水
性アルカリ性現像液中のその溶解度が露光の際に
変化する。好適なネガチブに作用する化合物はジ
アゾニウム塩縮重合生成物及びp−キノン−ジア
ジドである。ポジチブに作用する系は優れてお
り、即ち溶解度が露光により高まるものである。
就中、この系はo−キノン−ジアジド、及び光分
解酸供与体と酸により分解可能な化合物との組合
せ物を包含する。
優れているo−キノン−ジアジドは1,2−ナ
フトキノン−2−ジアジド−4又は5−スルホン
酸エステル又は−アミドである。これらのうちエ
ステル、特に5−スルホン酸のエステルが殊に優
れている。好適なこの型の化合物は公知であり、
例えば西ドイツ国特許第938233号明細書及び西ド
イツ国特許公開第2331377号明細書、同第2547905
号明細書及び同第2828037号明細書に記載されて
いる。一般に、o−キノン−ジアジド−化合物の
量は混合物の不揮発性成分に対して3〜50重量
%、殊に7〜35重量%である。
フトキノン−2−ジアジド−4又は5−スルホン
酸エステル又は−アミドである。これらのうちエ
ステル、特に5−スルホン酸のエステルが殊に優
れている。好適なこの型の化合物は公知であり、
例えば西ドイツ国特許第938233号明細書及び西ド
イツ国特許公開第2331377号明細書、同第2547905
号明細書及び同第2828037号明細書に記載されて
いる。一般に、o−キノン−ジアジド−化合物の
量は混合物の不揮発性成分に対して3〜50重量
%、殊に7〜35重量%である。
酸により分解可能な化合物をベースとする物質
もまた本発明による混合物中で非常に効果的に使
用することができる。この型の複写材料は公知で
あり、例えば米国特許第3779778号明細書及び同
第4101323号明細書、西ドイツ国特許第2718254号
明細書、西ドイツ国特許公開第2829512号明細書、
同第2829511号明細書及び同第2928636号明細書に
記載されている。該材料は酸により分解され得る
化合物としてオルトカルボン酸誘導体、単量体又
は重合体のアセタール、エノールエーテルもしく
はアシルイミノカーボネートを含有する。酸を脱
離する放射線に敏感な化合物として有機ハロゲン
化合物、殊にハロゲノメチル基により置換されて
いるs−トリアジンを含有すると有利である。
もまた本発明による混合物中で非常に効果的に使
用することができる。この型の複写材料は公知で
あり、例えば米国特許第3779778号明細書及び同
第4101323号明細書、西ドイツ国特許第2718254号
明細書、西ドイツ国特許公開第2829512号明細書、
同第2829511号明細書及び同第2928636号明細書に
記載されている。該材料は酸により分解され得る
化合物としてオルトカルボン酸誘導体、単量体又
は重合体のアセタール、エノールエーテルもしく
はアシルイミノカーボネートを含有する。酸を脱
離する放射線に敏感な化合物として有機ハロゲン
化合物、殊にハロゲノメチル基により置換されて
いるs−トリアジンを含有すると有利である。
米国特許第4101323号明細書に記載されている
オルトカルボン酸誘導体のうち殊に脂肪族又は芳
香族ヒドロキシ化合物のジフエノキシ−メチルエ
ーテル、ラクタムのN−ジフエノキシメチル誘導
体、特に脂肪族ジオールのビス−1,3−ジオキ
サン−2−イルエーテルを使用する。
オルトカルボン酸誘導体のうち殊に脂肪族又は芳
香族ヒドロキシ化合物のジフエノキシ−メチルエ
ーテル、ラクタムのN−ジフエノキシメチル誘導
体、特に脂肪族ジオールのビス−1,3−ジオキ
サン−2−イルエーテルを使用する。
西ドイツ国特許第2718254号明細書に記載され
ているポリアセタールのうち脂肪族のアルデヒド
単位及びジオール単位を有するものが優れてい
る。
ているポリアセタールのうち脂肪族のアルデヒド
単位及びジオール単位を有するものが優れてい
る。
西ドイツ国特許公開第2928636号明細書に記載
されている重合体のオルトエステルのうち、アル
キルエーテル基がエーテル酸素原子により遮断さ
れていてよくかつ有利に隣接環の5−位に結合し
ている1,3−ジオキサン−シクロヘキシ−2−
イルアルキルエーテル繰返し単位を有する重合体
が殊に優れている。
されている重合体のオルトエステルのうち、アル
キルエーテル基がエーテル酸素原子により遮断さ
れていてよくかつ有利に隣接環の5−位に結合し
ている1,3−ジオキサン−シクロヘキシ−2−
イルアルキルエーテル繰返し単位を有する重合体
が殊に優れている。
一般に、感光性混合物中の酸により分解可能な
化合物の量的割合は混合物の不揮発性成分に対し
て8〜65重量%、殊に14〜44重量%である。酸を
脱離する化合物の量は0.1〜10重量%、殊に0.2〜
5重量%である。
化合物の量的割合は混合物の不揮発性成分に対し
て8〜65重量%、殊に14〜44重量%である。酸を
脱離する化合物の量は0.1〜10重量%、殊に0.2〜
5重量%である。
好適なp−キノンジアジドは例えば西ドイツ国
特許第1104824号明細書(=米国特許第3180732号
明細書)に記載されている。使用するジアゾニウ
ム塩縮重合生成物は芳香族ジアゾニウム塩とカル
ボニル化合物、殊にホルムアルデヒドとの縮合生
成物である。好適な縮合生成物は西ドイツ国特許
第1214086号明細書(=米国特許第3235384号明細
書)に記載されている。ジアゾニウム塩単位と共
に西ドイツ国特許公開第2024244号明細書(=米
国特許第3867147号明細書)に記載されているよ
うにホルムアルデヒドと縮合可能な、ジアゾニウ
ム基を含まない他の化合物の単位、例えば芳香族
アミン、フエノール、フエノールエーテル、芳香
族チオエーテル、芳香族炭化水素、芳香族ヘテロ
環式化合物及び有機酸アミドの単位を含有しても
よい。
特許第1104824号明細書(=米国特許第3180732号
明細書)に記載されている。使用するジアゾニウ
ム塩縮重合生成物は芳香族ジアゾニウム塩とカル
ボニル化合物、殊にホルムアルデヒドとの縮合生
成物である。好適な縮合生成物は西ドイツ国特許
第1214086号明細書(=米国特許第3235384号明細
書)に記載されている。ジアゾニウム塩単位と共
に西ドイツ国特許公開第2024244号明細書(=米
国特許第3867147号明細書)に記載されているよ
うにホルムアルデヒドと縮合可能な、ジアゾニウ
ム基を含まない他の化合物の単位、例えば芳香族
アミン、フエノール、フエノールエーテル、芳香
族チオエーテル、芳香族炭化水素、芳香族ヘテロ
環式化合物及び有機酸アミドの単位を含有しても
よい。
本発明による混合物は臭素化ノボラツクと共に
更に水に不溶でありかつ水性アルカリ性溶液中に
可溶である結合剤、殊に公知でありかつこの目的
に常用であるハロゲン不含のノボラツクを含有し
ていてもよい。この場合、臭素化ノボラツクの量
の0〜80重量%、殊に0〜70重量%を非ハロゲン
化ノボラツクに代えてよく、その際にアルカリ及
び溶剤に対する改良された層の抵抗性は損われな
い。ノボラツクの全量は臭素化ノボラツクに関し
て記載した制限範囲内にすべきである。
更に水に不溶でありかつ水性アルカリ性溶液中に
可溶である結合剤、殊に公知でありかつこの目的
に常用であるハロゲン不含のノボラツクを含有し
ていてもよい。この場合、臭素化ノボラツクの量
の0〜80重量%、殊に0〜70重量%を非ハロゲン
化ノボラツクに代えてよく、その際にアルカリ及
び溶剤に対する改良された層の抵抗性は損われな
い。ノボラツクの全量は臭素化ノボラツクに関し
て記載した制限範囲内にすべきである。
更に、多数の他の樹脂、例えばポリ酢酸ビニ
ル、ポリアクリレート、ポリビニルエーテル、ポ
リビニルピロリドンのようなビニル重合体及びこ
れらのベースとなる単量体の共重合体を使用する
こともできる。これらの樹脂の最も有利な割合は
工業技術的要求並びに現像条件への影響に相応
し、一般的にはアルカリ可溶性樹脂の20重量%よ
り多くはない。可撓性、接着性、光沢性、着色性
及び色換え等のような特別な要件に関しては付加
的に感光性混合物はポリグリコール、エチルセル
ロースのようなセルロース誘導体、湿潤剤、染
料、接着促進剤及び微分散性顔料並びに必要な場
合にはUV−吸収剤のような少量の物質を含有し
ていてもよい。
ル、ポリアクリレート、ポリビニルエーテル、ポ
リビニルピロリドンのようなビニル重合体及びこ
れらのベースとなる単量体の共重合体を使用する
こともできる。これらの樹脂の最も有利な割合は
工業技術的要求並びに現像条件への影響に相応
し、一般的にはアルカリ可溶性樹脂の20重量%よ
り多くはない。可撓性、接着性、光沢性、着色性
及び色換え等のような特別な要件に関しては付加
的に感光性混合物はポリグリコール、エチルセル
ロースのようなセルロース誘導体、湿潤剤、染
料、接着促進剤及び微分散性顔料並びに必要な場
合にはUV−吸収剤のような少量の物質を含有し
ていてもよい。
西ドイツ国特許公開第3039926号明細書に記載
されているような特別な熱硬化性ヒドロキシメチ
ルフエノール誘導体の添加は特に有利であること
が明らかになつた。結合剤としてハロゲン化ノボ
ラツクが存在することによりこの型の複写層は相
応する非ハロゲン化ノボラツクによる接着性及び
抵抗性に比べて実際に基材に対する改良された接
着性並びにアルコール及び現像液に対する改良さ
れた抵抗性を有する。
されているような特別な熱硬化性ヒドロキシメチ
ルフエノール誘導体の添加は特に有利であること
が明らかになつた。結合剤としてハロゲン化ノボ
ラツクが存在することによりこの型の複写層は相
応する非ハロゲン化ノボラツクによる接着性及び
抵抗性に比べて実際に基材に対する改良された接
着性並びにアルコール及び現像液に対する改良さ
れた抵抗性を有する。
例えば、ヒドロキシメチルフエノールは一般式
及び: 〔式中Rは水素原子、低級アルキル基又は低級ア
シル基、殊に水素原子であり、R′はアルキル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、アリール基、
アリールオキシ基、アシル基又はアルアルキル基
又はハロゲン原子であり、Xは単結合か又は基
S、O、CO又はCR1R2の1つ、殊にプロプ−2,
2−イレン基であり、Yは水素原子又は有利に
CH2OH基であり、R1及びR2は同じか又は異なつ
ていて、水素原子を表わすか又は相互に結合して
環形成し得る置換又は末置換のアルキル基であ
り、置換基Yの2つより多くのものが水素原子で
はない〕の1つに相当してよい。
及び: 〔式中Rは水素原子、低級アルキル基又は低級ア
シル基、殊に水素原子であり、R′はアルキル基、
アルコキシ基、シクロアルキル基、アリール基、
アリールオキシ基、アシル基又はアルアルキル基
又はハロゲン原子であり、Xは単結合か又は基
S、O、CO又はCR1R2の1つ、殊にプロプ−2,
2−イレン基であり、Yは水素原子又は有利に
CH2OH基であり、R1及びR2は同じか又は異なつ
ていて、水素原子を表わすか又は相互に結合して
環形成し得る置換又は末置換のアルキル基であ
り、置換基Yの2つより多くのものが水素原子で
はない〕の1つに相当してよい。
一般に、好適な支持体をコーチングする際に混
合物を溶剤中に溶解する。溶剤の選択は適用する
コーチング法、層厚及び乾燥条件に適合させるべ
きである。本発明による混合物に好適な溶剤はメ
チルエチルケトンのようなケトン、トリクロルエ
チレン及び1,1,1−トリクロルエタンのよう
な塩素化炭化水素、n−プロパノールのようなア
ルコール、テトラヒドロフランのようなエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテルのよ
うなアルコールエーテル及び酢酸ブチルのような
エステルである。付加的に、特別な用途にはアセ
トニトリル、ジオキサン又はジメチルホルムアミ
ドのような溶剤を含有してよい混合物を使用する
こともできる。基本的には、層成分と不可逆的に
反応しないすべての溶剤を使用することができ
る。
合物を溶剤中に溶解する。溶剤の選択は適用する
コーチング法、層厚及び乾燥条件に適合させるべ
きである。本発明による混合物に好適な溶剤はメ
チルエチルケトンのようなケトン、トリクロルエ
チレン及び1,1,1−トリクロルエタンのよう
な塩素化炭化水素、n−プロパノールのようなア
ルコール、テトラヒドロフランのようなエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテルのよ
うなアルコールエーテル及び酢酸ブチルのような
エステルである。付加的に、特別な用途にはアセ
トニトリル、ジオキサン又はジメチルホルムアミ
ドのような溶剤を含有してよい混合物を使用する
こともできる。基本的には、層成分と不可逆的に
反応しないすべての溶剤を使用することができ
る。
たいていの場合、約10μmより低い層厚の支持
体として金属を使用する。ローラ光沢仕上げし、
機械的又は電気化学的に粗面化しかつ場合により
陽極酸化し、更に化学的に例えばポリビニルホス
ホン酸、シリケート、ヘキサフルオルジルコネー
ト、加水分解テトラエチルオルトシリケート又は
ホスフエートで前処理されていてもよいアルミニ
ウムをオフセツト印刷版に使用することができ
る。
体として金属を使用する。ローラ光沢仕上げし、
機械的又は電気化学的に粗面化しかつ場合により
陽極酸化し、更に化学的に例えばポリビニルホス
ホン酸、シリケート、ヘキサフルオルジルコネー
ト、加水分解テトラエチルオルトシリケート又は
ホスフエートで前処理されていてもよいアルミニ
ウムをオフセツト印刷版に使用することができ
る。
支持体のコーチングは公知方法でスロツトダ
イ、ドクタブレード又はコータを用いて回転コー
チング、吹付け、浸漬、ロール掛けにより行な
う。
イ、ドクタブレード又はコータを用いて回転コー
チング、吹付け、浸漬、ロール掛けにより行な
う。
工業的に常用の光源を露光に使用する。電子照
射又はレーザーも像形成するための他の可能性で
ある。
射又はレーザーも像形成するための他の可能性で
ある。
ポジチブに作用する混合物の場合、現像するた
めに使われかつ段階アルカリ性度、つまり殊にPH
10〜14を有し、かつ少量の有機溶剤又は湿潤剤を
含有してよい水性アルカリ性溶液は複写層の光の
当る個所を除去し、従つてオリジナルのポジチブ
な画像を生成する。ネガチブに作用する混合物の
場合、同じ種類の現像液又は中性範囲のPH値を有
するものにより未露光区域が除去される。
めに使われかつ段階アルカリ性度、つまり殊にPH
10〜14を有し、かつ少量の有機溶剤又は湿潤剤を
含有してよい水性アルカリ性溶液は複写層の光の
当る個所を除去し、従つてオリジナルのポジチブ
な画像を生成する。ネガチブに作用する混合物の
場合、同じ種類の現像液又は中性範囲のPH値を有
するものにより未露光区域が除去される。
本発明による感光性混合物の優れた用途は支持
体が金属、殊にアルミニウムである印刷版、殊に
オフセツト印刷版の製造である。
体が金属、殊にアルミニウムである印刷版、殊に
オフセツト印刷版の製造である。
現像後、印刷版を公知方法で加熱することがで
きる。前記のヒドロキシメチルフエノールを添加
した場合、比較的低い温度で又は比較的短い時間
で望ましい刷数の増加を達成することができる。
ベーキング温度は約150〜240℃、殊に160〜210℃
の範囲で選択することができ、その際に1〜20分
間、殊に5〜15分間が一般に必要とされる。支持
体材料が高温に対して抵抗性である場合、ベーキ
ングを240℃を上回る高い温度で実施しかつ相応
して短い加熱時間を選択することができることも
明らかである。
きる。前記のヒドロキシメチルフエノールを添加
した場合、比較的低い温度で又は比較的短い時間
で望ましい刷数の増加を達成することができる。
ベーキング温度は約150〜240℃、殊に160〜210℃
の範囲で選択することができ、その際に1〜20分
間、殊に5〜15分間が一般に必要とされる。支持
体材料が高温に対して抵抗性である場合、ベーキ
ングを240℃を上回る高い温度で実施しかつ相応
して短い加熱時間を選択することができることも
明らかである。
ハロゲン化ノボラツクを用いて製造した複写材
料は現像液及び化学薬品、殊に複写操作又は印刷
機上の印刷工程で通常使われるようなアルコール
及びガソリンを含有する溶剤に対して改良された
抵抗性を有する。それは複写層の残留成分と良好
な認容性をも有する。
料は現像液及び化学薬品、殊に複写操作又は印刷
機上の印刷工程で通常使われるようなアルコール
及びガソリンを含有する溶剤に対して改良された
抵抗性を有する。それは複写層の残留成分と良好
な認容性をも有する。
本発明を次に実施例により詳説する。その際重
量部及び容量部は「g」と「cm3」と同じ関係にあ
る。特に記載のない限り「%」は重量%である。
量部及び容量部は「g」と「cm3」と同じ関係にあ
る。特に記載のない限り「%」は重量%である。
例 1
電解により粗面化しかつ陽極酸化した酸化物重
量3.0g/m2のアルミニウム板を次の溶液でコー
チングした: エチレングリコールモノメチルエーテル
40.00重量部 及び テトラヒドロフラン 50.00重量部 中の 2,3,4−トリヒドロキシ−ベンゾフエノン1
モルと1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホン酸クロリド2モルから得られたエステ
ル化生成物 1.00重量部 1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル
ホン酸クロリド 0.14重量部 軟化点95〜110℃及び臭素含量39.0重量%の臭素
化クレゾール/ホルムアルデヒド−ノボラツク
2.50重量部 軟化点105〜120℃の非ハロゲン化クレゾール/ホ
ルムアルデヒド−ノボラツク 3.50重量部 及び クリスタルバイオレツト 0.06重量部。
量3.0g/m2のアルミニウム板を次の溶液でコー
チングした: エチレングリコールモノメチルエーテル
40.00重量部 及び テトラヒドロフラン 50.00重量部 中の 2,3,4−トリヒドロキシ−ベンゾフエノン1
モルと1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホン酸クロリド2モルから得られたエステ
ル化生成物 1.00重量部 1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル
ホン酸クロリド 0.14重量部 軟化点95〜110℃及び臭素含量39.0重量%の臭素
化クレゾール/ホルムアルデヒド−ノボラツク
2.50重量部 軟化点105〜120℃の非ハロゲン化クレゾール/ホ
ルムアルデヒド−ノボラツク 3.50重量部 及び クリスタルバイオレツト 0.06重量部。
感光性複写層を施す前に、陽極酸化アルミニウ
ム支持体を西ドイツ国特許第1621478号明細書に
記載されているようにポリビニルホスホン酸の水
溶液で処理した。
ム支持体を西ドイツ国特許第1621478号明細書に
記載されているようにポリビニルホスホン酸の水
溶液で処理した。
このように製造しかつ感光層の層重量2.00g/
m2を有するプレセンシタイズ材を画像に相応して
透明なポジチブなオリジナル下に露光し、その後
次に溶液で現像した: 水 91.0重量部 中の メタ珪酸ナトリウム×9H2O 5.3重量部 リン酸三ナトリウム×12H2O 3.4重量部 リン酸二水素ナトリウム(無水) 0.3重量部。
m2を有するプレセンシタイズ材を画像に相応して
透明なポジチブなオリジナル下に露光し、その後
次に溶液で現像した: 水 91.0重量部 中の メタ珪酸ナトリウム×9H2O 5.3重量部 リン酸三ナトリウム×12H2O 3.4重量部 リン酸二水素ナトリウム(無水) 0.3重量部。
現像の結果として、複写層の露光部分を除去し
かつ未露光の画像区域は支持体上に残留した。こ
のように製造した印刷版からオフセツト印刷機で
約200000個の完全な印刷物を製造した。
かつ未露光の画像区域は支持体上に残留した。こ
のように製造した印刷版からオフセツト印刷機で
約200000個の完全な印刷物を製造した。
この印刷ステンシルは現像液に対する優れた抵
抗性及び支持体に対する良好な接着剤により優れ
ている。
抗性及び支持体に対する良好な接着剤により優れ
ている。
通常、印刷機上の印刷工程で使われるような化
学薬品、例えばアルコールを含有する酸性湿し液
及びガソリンを含有する洗浄液に対する複写層の
抵抗性もまた著しく良好であつた。
学薬品、例えばアルコールを含有する酸性湿し液
及びガソリンを含有する洗浄液に対する複写層の
抵抗性もまた著しく良好であつた。
この改良された複写層の性質は層中の臭素化ノ
ボラツクに帰因する。例1に記載した臭化ノボラ
ツクを同量の相応する非ハロゲン化ノボラツクに
代え、他は同じ組成である場合、露光及び現像後
に得られた印刷ステンシルは現像液による2分間
の作用後に既に強く侵食されておりかつ5分間の
作用後には支持体から殆んど完全に剥離した。こ
れとは反対に、例1により生成した印刷ステンシ
ルは現像液により5分間作用された後でも侵食さ
れなかつた。
ボラツクに帰因する。例1に記載した臭化ノボラ
ツクを同量の相応する非ハロゲン化ノボラツクに
代え、他は同じ組成である場合、露光及び現像後
に得られた印刷ステンシルは現像液による2分間
の作用後に既に強く侵食されておりかつ5分間の
作用後には支持体から殆んど完全に剥離した。こ
れとは反対に、例1により生成した印刷ステンシ
ルは現像液により5分間作用された後でも侵食さ
れなかつた。
例1により製造しかつ臭素化ノボラツク樹脂を
含有する複写層を例えばイソプロパノール50重量
%、リン酸1重量%及び水49重量%から成る酸性
の水性アルコール性溶液で処理する場合に同じ結
果が得られた。この溶液を含浸させたタンポンで
機械的に摩擦する際に、例1による複写層は1分
後でも変化しなかつたが、非ハロゲン化ノボラツ
クを含有する相応する複写層は30秒後に既に損な
われた。相応する複写層では同じ実験条件下にガ
ソリン(沸騰範囲80〜110℃)で処理する場合に
も同様に別々の結果が得られた。
含有する複写層を例えばイソプロパノール50重量
%、リン酸1重量%及び水49重量%から成る酸性
の水性アルコール性溶液で処理する場合に同じ結
果が得られた。この溶液を含浸させたタンポンで
機械的に摩擦する際に、例1による複写層は1分
後でも変化しなかつたが、非ハロゲン化ノボラツ
クを含有する相応する複写層は30秒後に既に損な
われた。相応する複写層では同じ実験条件下にガ
ソリン(沸騰範囲80〜110℃)で処理する場合に
も同様に別々の結果が得られた。
次に実施例では他のコーチング溶液を記載する
が、同じ結果が得られた。特に記載のない限り印
刷版の製造及びその加工処理は例1に記載した条
件に相応する。
が、同じ結果が得られた。特に記載のない限り印
刷版の製造及びその加工処理は例1に記載した条
件に相応する。
例 2
例1と同様に処理したアルミニウム板を次の溶
液でコーチングした: エチレングリコールモノメチルエーテル
40.00重量部 及び テトラヒドロフラン 50.00重量部 中の 2,3,4−トリヒドロキシ−ベンゾフエノン1
モルと1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホン酸クロリド2モルから得られたエステ
ル化された生成物 1.50重量部 溶融範囲110〜125℃を有しかつ臭素含量39.1重量
%である臭化フエノール/ホルムアルデヒド−ノ
ボラツク 2.50重量部 溶融範囲90〜110℃を有しかつ臭素含量38.9重量
%の臭化クレゾール/ホルムアルデヒド−ノボラ
ツク 4.00重量部 1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル
ホン酸クロリド 0.14重量部 及び クリスタルバイオレツト 0.06重量部。
液でコーチングした: エチレングリコールモノメチルエーテル
40.00重量部 及び テトラヒドロフラン 50.00重量部 中の 2,3,4−トリヒドロキシ−ベンゾフエノン1
モルと1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホン酸クロリド2モルから得られたエステ
ル化された生成物 1.50重量部 溶融範囲110〜125℃を有しかつ臭素含量39.1重量
%である臭化フエノール/ホルムアルデヒド−ノ
ボラツク 2.50重量部 溶融範囲90〜110℃を有しかつ臭素含量38.9重量
%の臭化クレゾール/ホルムアルデヒド−ノボラ
ツク 4.00重量部 1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル
ホン酸クロリド 0.14重量部 及び クリスタルバイオレツト 0.06重量部。
このように製造した感光性印刷版を画像に応じ
て透明なポジチブのオリジナル下に露光しかつ例
1に挙げた溶液で現像した。
て透明なポジチブのオリジナル下に露光しかつ例
1に挙げた溶液で現像した。
例 3(参考例)
例1と同様に処理したアルミニウム板を次の溶
液でコーチングした: エチレングリコールモノメチルエーテル
30.00重量部 及び テトラヒドロフラン 40.00重量部 中の 2,4−ジヒドロキシ−ベンゾフエノン1モルと
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スル
ホン酸クロリド2モルから得られたエステル化生
成物 1.00重量部 p−クロロフエノールを縮合剤として塩化水素酸
を存在させてホルムアルデヒド(37%−水溶液の
形で)と4時間沸騰させることにより得られた塩
素化フエノール/ホルムアルデヒド−ノボラツク
3.00重量部 1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル
ホン酸クロリド 0.14重量部 クリスタルバイオレツト 0.06重量部。
液でコーチングした: エチレングリコールモノメチルエーテル
30.00重量部 及び テトラヒドロフラン 40.00重量部 中の 2,4−ジヒドロキシ−ベンゾフエノン1モルと
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スル
ホン酸クロリド2モルから得られたエステル化生
成物 1.00重量部 p−クロロフエノールを縮合剤として塩化水素酸
を存在させてホルムアルデヒド(37%−水溶液の
形で)と4時間沸騰させることにより得られた塩
素化フエノール/ホルムアルデヒド−ノボラツク
3.00重量部 1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スル
ホン酸クロリド 0.14重量部 クリスタルバイオレツト 0.06重量部。
このようにして製造した感光性印刷版を透明の
ポジチブなオリジナル下に画像に応じて露光しか
つ例1に挙げた溶液で現像した。
ポジチブなオリジナル下に画像に応じて露光しか
つ例1に挙げた溶液で現像した。
例 4
例1と同様に前処理したアルミニウム板を次の
溶液でコーチングした: エチレングリコールモノメチルエーテル
40.00重量部 及び テトラヒドロフラン 50.00重量部 中の 2,3,4−トリヒドロキシ−ベンゾフエノン1
モルと1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホン酸クロリド3モルから得られたエステ
ル化生成物 1.00重量部 軟化点90〜110℃を有しかつ臭素含量38.9重量%
の臭素化クレゾール/ホルムアルデヒド−ノボラ
ツク 2.00重量部 4−(p−トリルメルカプト)−2,5−ジエトキ
シベンゼン−ジアゾニウムヘキサフルオルホスフ
エート 0.12重量部 2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−
ヒドロキシメチル−フエニル)−プロパン
1.30重量部 軟化点105〜120℃有するクレゾール/ホルムアル
デヒド−ノボラツク 3.00重量部 クリスタルバイオレツト 0.06重量部。
溶液でコーチングした: エチレングリコールモノメチルエーテル
40.00重量部 及び テトラヒドロフラン 50.00重量部 中の 2,3,4−トリヒドロキシ−ベンゾフエノン1
モルと1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホン酸クロリド3モルから得られたエステ
ル化生成物 1.00重量部 軟化点90〜110℃を有しかつ臭素含量38.9重量%
の臭素化クレゾール/ホルムアルデヒド−ノボラ
ツク 2.00重量部 4−(p−トリルメルカプト)−2,5−ジエトキ
シベンゼン−ジアゾニウムヘキサフルオルホスフ
エート 0.12重量部 2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−
ヒドロキシメチル−フエニル)−プロパン
1.30重量部 軟化点105〜120℃有するクレゾール/ホルムアル
デヒド−ノボラツク 3.00重量部 クリスタルバイオレツト 0.06重量部。
このように製造した感光性印刷版を透明のポジ
チブなオリジナル下に画像に応じて露光しかつ例
1に記載した溶液で現像した。
チブなオリジナル下に画像に応じて露光しかつ例
1に記載した溶液で現像した。
例 5
例1と同様にして前処理したアルミニウム板を
次の溶液でコーチングした: エチレングリコールモノメチルエーテル
45.00重量部 中の 3−メトキシ−ジフエニルアミン−ジアゾニウム
サルフエート1モルと4,4′−ビス−メトキシメ
チル−ジフエニルエーテル1モルから得られた縮
合生成物 1.00重量部 軟化点110〜125℃を有しかつ臭素含量39重量%の
臭素化フエノール/ホルムアルデヒド−ノボラツ
ク 1.00重量部 軟化点83〜88℃を有する非ハロゲン化フエール/
ホルムアルデヒド−ノボラツク 2.50重量部 メタニルエロ−(C.I.13065) 0.05重量部 ビクトリアピユアブルーFGA(C.I.ベーシツクブ
ルー81) 0.05重量部 及び リン酸(85%) 0.01重量部。
次の溶液でコーチングした: エチレングリコールモノメチルエーテル
45.00重量部 中の 3−メトキシ−ジフエニルアミン−ジアゾニウム
サルフエート1モルと4,4′−ビス−メトキシメ
チル−ジフエニルエーテル1モルから得られた縮
合生成物 1.00重量部 軟化点110〜125℃を有しかつ臭素含量39重量%の
臭素化フエノール/ホルムアルデヒド−ノボラツ
ク 1.00重量部 軟化点83〜88℃を有する非ハロゲン化フエール/
ホルムアルデヒド−ノボラツク 2.50重量部 メタニルエロ−(C.I.13065) 0.05重量部 ビクトリアピユアブルーFGA(C.I.ベーシツクブ
ルー81) 0.05重量部 及び リン酸(85%) 0.01重量部。
このようにして製造した感光性印刷版を透明で
ネガチブなオリジナル下に画像に応じて露光しか
つ例1に記載した溶液で現像した。
ネガチブなオリジナル下に画像に応じて露光しか
つ例1に記載した溶液で現像した。
例 6
例1と同様に前処理したアルミニウム板を次の
溶液でコーチングした: メチルエチルケトン 80.00重量部 中の 7,7−ビス−ヒドロキシメチル−5−オキサ−
ノナン−1−オールとトリメチルオルトホルメー
トから製造したトルエン中のポリ−オルトエステ
ルの50%−溶液 2.80重量部 2,4−ビス−(トリクロルメチル)−6−(4−
エトキシ−ナフト−1−イル)−s−トリアジン
0.24重量部 軟化点110〜125℃を有しかつ臭素含量46重量%の
臭素化フエノール/ホルムアルデヒド−ノボラツ
ク 1.30重量部 軟化点95〜110℃を有しかつ臭素含量46.3重量%
の臭素化クレゾール/ホルムアルデヒド−ノボラ
ツク 3.30重量部 クリスタルバイオレツト 0.05重量部。
溶液でコーチングした: メチルエチルケトン 80.00重量部 中の 7,7−ビス−ヒドロキシメチル−5−オキサ−
ノナン−1−オールとトリメチルオルトホルメー
トから製造したトルエン中のポリ−オルトエステ
ルの50%−溶液 2.80重量部 2,4−ビス−(トリクロルメチル)−6−(4−
エトキシ−ナフト−1−イル)−s−トリアジン
0.24重量部 軟化点110〜125℃を有しかつ臭素含量46重量%の
臭素化フエノール/ホルムアルデヒド−ノボラツ
ク 1.30重量部 軟化点95〜110℃を有しかつ臭素含量46.3重量%
の臭素化クレゾール/ホルムアルデヒド−ノボラ
ツク 3.30重量部 クリスタルバイオレツト 0.05重量部。
このように製造した印刷版をハロゲン化金属灯
5kw下距離110cmで10秒間画像に応じて露光し、
その後例1と同様に現像した。
5kw下距離110cmで10秒間画像に応じて露光し、
その後例1と同様に現像した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 感光性化合物又は感光性の化合物組合せ物及
びノボラツクとより成り、かつ水性アルカリ性溶
液中の溶解度が露光の際に変化する感光性混合物
において、ノボラツクが臭素化されたフエノール
−又はクレゾール単位を含有することを特徴とす
る感光性混合物。 2 臭素化ノボラツクが臭素15〜50重量%を含有
する特許請求の範囲第1項記載の混合物。 3 付加的に、水に不溶で、水性アルカリ性溶液
に可溶であり、かつ臭素化ノボラツクではない樹
脂を含有する特許請求の範囲第1項記載の混合
物。 4 臭素化ノボラツク10〜95重量%を含有する特
許請求の範囲第1項記載の混合物。 5 付加的に、熱硬化性ヒドロキシメチルフエノ
ール誘導体を含有する特許請求の範囲第1項記載
の混合物。 6 感光性化合物としてo−キノン−ジアジドを
含有する特許請求の範囲第1項記載の混合物。 7 感光性組合せ物として、 (a) 露光の際に酸を脱離する化合物及び (b) 酸により分解され得るC−O−C基少なくと
も1個を含有する化合物 とからの混合物を含有する特許請求の範囲第1項
記載の混合物。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19813107109 DE3107109A1 (de) | 1981-02-26 | 1981-02-26 | Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes kopiermaterial |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57157238A JPS57157238A (en) | 1982-09-28 |
| JPH0223859B2 true JPH0223859B2 (ja) | 1990-05-25 |
Family
ID=6125745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57029143A Granted JPS57157238A (en) | 1981-02-26 | 1982-02-26 | Photosensitive mixture and copying material containing it |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4404272A (ja) |
| EP (1) | EP0059250B1 (ja) |
| JP (1) | JPS57157238A (ja) |
| AT (1) | ATE15412T1 (ja) |
| AU (1) | AU8057982A (ja) |
| BR (1) | BR8200994A (ja) |
| CA (1) | CA1183379A (ja) |
| DE (2) | DE3107109A1 (ja) |
| ES (1) | ES8404523A1 (ja) |
| FI (1) | FI820632L (ja) |
| ZA (1) | ZA82959B (ja) |
Cited By (1)
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