JPH02246018A - 磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はコンタクト・スタート−ストップ（ｃｏｎｔ
ａｃｔ−ｓｔａｒｔ−ｓｔｏｐ　；　Ｃ３５）方式の磁
気記録媒体に組み込まれて使用される磁気ディスクに関
するものである。

〔従来の技術〕

磁気記録技術分野では記録密度の上昇に伴って磁気ヘッ
ドと磁気記録媒体の間の間隙（スペーシング）をより小
さくする必要がある。従って、磁気ディスクの表面も超
平滑化が望まれていた。例えば、磁気ディスクの基板と
して用いられるアルミ合金板にニッケル・リンメツキを
施した基板はＮＩＰメツキ後ポリッシングにより表面粗
さが−Ｘ＜　２０ＯＡに仕上げられている。また、磁気
ヘッドのスライダ面の表面粗さも同様にして超平滑に仕
上げられている。ところが、このように媒体表面とへラ
ドスライダ表面が超平滑に仕上げられていると、ＣＣＳ
方式の磁気ディスク装置に記録媒体を組込んだ場合、停
止中にヘッドと磁気ディスクが吸着を起こしてしまい、
回転とともにヘッドや磁気ディスクに重大な損傷を与え
てしまうという問題点があった。

そこで、磁気ディスク表面金粗くするために、基板の表
面にテクスチャ加工が行なわれるようになった。テクス
チャ加工は一般的には、回転させた基板表面に研磨テー
プを押付けることにより細かなキズを生じせしめるもの
であ）、このようにして粗面化された基板表面の粗さ曲
線の例を第２図に示す。図において、横軸は表面の位置
、縦軸は表面の高さである。このテクスチャ加工された
基板の例は、例えば雑誌（ＩＥＥＥ　ＴＲＡＮＳＡＣＴ
ＩＯＮＳ　ＯＮＭＡＧＮＥＴＩＣ３＊　Ｖｏｌ、Ｍａｇ
−２：Ｌ　Ｎｏ−５ｅ　Ｓｅｐｔａｍｂｅｒ　１９８７
Ｐ、３４０５〜３４０７）で示されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来の磁気ディスクでは基板表面が第２図に示したよう
な不規則な凹凸を有しているがために、磁気へラドスラ
イダとの実際での真実接触面積が磁気ディスク表面の位
置により一定とならず、磁気記録層にかかるスライダか
らの応力が不均一で、時には記録した情報が消えてしま
う（減磁）という問題点や、真実接触面積の大きい位置
で磁気ディスクの回転が停止した場合に大きな吸着力が
働きスピンドルモータが回転できないといった問題点か
あつ九。

この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、減磁や吸着を回避できる磁気記録媒体を得る
ことを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

この発明に係る磁気ディスクは、基板表面のうち、少な
くともｃｓｓ　１行なう領域に、均一なピッチで粗面化
加工を行なうと共に、均一なピッチで表われる突起の高
さを揃えたものである。

〔作用〕

この発明における磁気ディスクでは、その基板を例えば
ダイヤモンドもしくはそれに近い硬度を有する材料から
なる切削工具により、表面を均一ピッチで、かつ突起の
高さを揃えて粗面化しているため、磁気へラドスライダ
と接触する面積を磁気ディスク表面のどの位置でも一定
にすることができるので、位置によるヘッド吸着力のバ
ラツキや局所的な応力集中による減磁の危険性を回避で
きる。

〔実施例〕

以下、この発明の詳細な説明する。

サンプル１　ｐ　Ａｊ−４％Ｍｇ合金円板上にＮＩＰメ
ツキを施したのち、ポリッシングにより１　＊９０５＋
ｎｍｔ　＊１３０ｍｍψに仕上げた基板を用い、この基
板上にＣｒｔＣｏＮｌ、Ｃをこの順にスパッタリングに
より成膜した。膜厚はそれぞれ２００ＯＡ、　５００Ａ
、　５００Ａである。

このようにして作製した磁気ディスク。

サンプル２；サンプルｌで用いたポリッシュ基板を研磨
テープ（ｗＡ＃２０００）でテクスチャ加工した基板上
にサンプルｌと同様にＣｒ＊　ＣｏＮｉ５　Ｃを成膜す
ることにより作製した磁気ディスク。

サンプル３（この発明の一実施例）；サンプルｌで用い
たポリッシュ基板を毎分６００回転で回転させ、その表
面にダイヤモンド切削工具（切刃先端曲率半径５声ｍ）
を簡し付けながら基板の半径方向に毎分＆ｍｍの速度で
移動させることにより、はぼ同心円に近いキズを形成し
た。このようにして作製した基板上にサンプルｌと同様
にＣｒ　ｅ　ＣｏＮｉ　＋Ｃを成膜することにより作製
した磁気ディスク。

なお、第１図はこのようにして作製した、この発明の一
実施例による磁気ディスクの表面粗さを示す曲線図であ
る。第２図の従来のものと比べると第１図のものでは凹
凸のピッチは均一であり、かつ、均一なピッチで表われ
る突起の高さはよく揃つている。

以上のサンプル１．２．３の表面粗さ（Ｒｚ）、及び４
０’Ｃ７５Ｓ　ＲＨにおいて２４時間経湿温後ヘッド吸
着力（ｇ）　’に各々−面当り２４ケ所測定し、またＣ
８８２万回後の減磁（ＣＳＳ前の記録レベルからの出力
低下）（％）ｔそれぞれ６面ずつ測定した。その結果を
表１に示す。

表　　１ これから、サンプル２とサンプル３とでは表面粗さの平
均値はほぼ等しいにもかかわらず、２４ケ所でのバラツ
キはサンプル３の方がはるかに少ない。また吸着力もサ
ンプル２はかなりパラツいているが、サンプル３ではバ
ラツキがかなり小さくなっている。なお、サンプルｌで
は吸着力がサンプル２．サンプル３とくらべ、はるかに
大きくなっている。さらに減磁をみるとサンプル１では
減磁の非常に小さいものから非常に大きいものまであり
、サンプル２でも減磁の大きさにバラツキがみられる。

サンプル３では減磁のバラツキは±１％程度となってお
り、吸着力、減磁の点でサンプル３は他とくらべ格段に
優れていることがわかる０ なお、切削工具による粗面化加工として、切りくずを排
出する除去加工の他に、非除去加工による粗面化つまり
切刃の圧入による刃先左右への盛り上りによる凹凸でも
同様の効果が現われる。即ち、凹凸が均一ピッチでかつ
突起部の高さが揃うような加工手段であればよい。

また、基板表面の材′質はＮｉＰの他Ｎ１ＣｕＰメツキ
。

アルマイト、アルミ、　ＺｒＯ２，Ａｊｚ０３などのセ
ラミックス、ガラス、プラスチックでも良い。

また、磁気記碌層としてＣｏＮｉ薄膜の他、ＣｏＮｌＣ
ｒ。

７’−ＰＩ！２０３＊　ＣｏＣｒなどの薄膜ｅ　ｒ−Ｆ
ｅ２０３１　Ｆｍなどの微粉末を混入した有機質塗膜で
もかまわないし、切削工具による粗面化ハ磁気ディスク
の表面のうち少なくともＣＳＳを行なう領域に施されて
いれば良いのは言うまでもない。

また、この発明による粗面化を施した基板に、遊離砥粒
によるポリッシングを行なって、突起高さをさらに揃え
ることも可能である。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明によれば、磁気ディスクの基板
表面のうち、少なくともｃｓｓ　６行なう領域に、均一
なピッチで粗面化加工を行なうと共に均一なピッチで表
われる突起の高さを揃えたので磁気ディスク表面の位置
による吸着力のバラツキを小さく抑えると共に、局所的
な応力集中による減磁を防止することが可能となる効果
がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による磁気ディスクの表面
粗さを示す曲線図、第２図は従来の磁気ディスクの表面
粗さを示す曲線図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板上に強磁性体を含む膜からなる記録層を有し、コン
   タクト・スタート・ストップ方式の磁気記録装置に組み
   込まれて使用される磁気ディスクにおいて、上記基板表
   面のうち、少なくともコンタクト・スタート・ストップ
   を行う領域に、均一なピッチで粗面化加工を行うと共に
   、均一なピッチで表われる突起の高さを揃えたことを特
   徴とする磁気ディスク。