JPH077508B2 - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法Info
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- JPH077508B2 JPH077508B2 JP28956088A JP28956088A JPH077508B2 JP H077508 B2 JPH077508 B2 JP H077508B2 JP 28956088 A JP28956088 A JP 28956088A JP 28956088 A JP28956088 A JP 28956088A JP H077508 B2 JPH077508 B2 JP H077508B2
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- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/82—Disk carriers
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は磁気ディスク装置に用いられる磁気ディスクの
製造方法に関する。
製造方法に関する。
（従来の技術） 磁気ディスク装置に用いられるスパッタリングディスク
は従来は第７図に示すように構成されていた。図におい
てアルミニウムなどの金属基板１の表面にはニッケルメ
ッキ層または陽極酸化処理層などの硬化層２が形成され
て、基材（以下サブストレートと称する）３を構成して
いる。このサブストレート３の表面は鏡面に研磨されて
おり、この研磨された表面は研磨テープまたは研磨砥粒
で磁気ディスク４の周方向にさらに研磨され、浅い溝が
形成されて表面粗さを大きくするいわゆるテクスチャ加
工が施されている。そしてこのテクスチャ加工された面
にCrなどの下地層５を介してCo Ni、Co Ni Crなどから
なり記録媒体を形成する強磁性層６と、Ｃなどからなる
保護層７とが順次積層されている。第８図及び第９図に
前記テクスチャ加工されたサブストレート３の表面状態
を示す。このテクスチャ加工を行なう理由は２つある。
第１の理由は前記強磁性層６を成膜するときに、材料の
結晶異方性及び磁気異方性を利用して、テクスチャ加工
により形成された周状の溝により磁性体膜の磁気異方性
が磁気ディスクの記録特性を向上させる方向に向くよう
に調整するためである。また第２の理由は下記の通りで
ある。一般に磁気ディスク装置はコンタクト・スタート
・ストップ（CSS）方式を採用しており、装置動作時に
は磁気ディスクの回転に伴う空気流と磁気ヘッドの動圧
効果とにより磁気ヘッドは磁気ディスクから浮上してお
り、装置起動時及び停止時には磁気ヘッドと磁気ディス
クとは摺動を繰り返すようになっている。このCSSの繰
返しにより磁気ディスクまたは磁気ヘッドが摩耗して装
置に異常が発生することを防止するために、磁気ディス
クの表面に潤滑剤を塗布する場合が多い。しかし、磁気
ヘッドが接触する磁気ディスクの表面は鏡面状に仕上げ
られており、装置の停止中は磁気ヘッドは磁気ディスク
に押し付けられている。このため磁気ディスクの表面が
滑らかすぎると接着面に吸着現象が生じ易くなる。そこ
で前述したようなCSSを繰り返しても摩耗が生じない程
度に潤滑剤を塗布しても、この吸着現象が生じないよう
に磁気ディスクの表面粗さを粗くする必要がある。また
潤滑剤を塗布していない場合でも、周囲の空気中の水分
を凝縮する可能性があるので、やはり表面粗さを粗くす
る必要がある。以上がテクスチャ加工を行なう第２の理
由である。
は従来は第７図に示すように構成されていた。図におい
てアルミニウムなどの金属基板１の表面にはニッケルメ
ッキ層または陽極酸化処理層などの硬化層２が形成され
て、基材（以下サブストレートと称する）３を構成して
いる。このサブストレート３の表面は鏡面に研磨されて
おり、この研磨された表面は研磨テープまたは研磨砥粒
で磁気ディスク４の周方向にさらに研磨され、浅い溝が
形成されて表面粗さを大きくするいわゆるテクスチャ加
工が施されている。そしてこのテクスチャ加工された面
にCrなどの下地層５を介してCo Ni、Co Ni Crなどから
なり記録媒体を形成する強磁性層６と、Ｃなどからなる
保護層７とが順次積層されている。第８図及び第９図に
前記テクスチャ加工されたサブストレート３の表面状態
を示す。このテクスチャ加工を行なう理由は２つある。
第１の理由は前記強磁性層６を成膜するときに、材料の
結晶異方性及び磁気異方性を利用して、テクスチャ加工
により形成された周状の溝により磁性体膜の磁気異方性
が磁気ディスクの記録特性を向上させる方向に向くよう
に調整するためである。また第２の理由は下記の通りで
ある。一般に磁気ディスク装置はコンタクト・スタート
・ストップ（CSS）方式を採用しており、装置動作時に
は磁気ディスクの回転に伴う空気流と磁気ヘッドの動圧
効果とにより磁気ヘッドは磁気ディスクから浮上してお
り、装置起動時及び停止時には磁気ヘッドと磁気ディス
クとは摺動を繰り返すようになっている。このCSSの繰
返しにより磁気ディスクまたは磁気ヘッドが摩耗して装
置に異常が発生することを防止するために、磁気ディス
クの表面に潤滑剤を塗布する場合が多い。しかし、磁気
ヘッドが接触する磁気ディスクの表面は鏡面状に仕上げ
られており、装置の停止中は磁気ヘッドは磁気ディスク
に押し付けられている。このため磁気ディスクの表面が
滑らかすぎると接着面に吸着現象が生じ易くなる。そこ
で前述したようなCSSを繰り返しても摩耗が生じない程
度に潤滑剤を塗布しても、この吸着現象が生じないよう
に磁気ディスクの表面粗さを粗くする必要がある。また
潤滑剤を塗布していない場合でも、周囲の空気中の水分
を凝縮する可能性があるので、やはり表面粗さを粗くす
る必要がある。以上がテクスチャ加工を行なう第２の理
由である。
第10図に上述したようなテクスチャ加工が施されたサブ
ストレート３に、下地層５としてCrを、強磁性層６とし
てCo Ni合金をスパッタしたときの、強磁性層６の磁気
特性（Ｍ−Ｈ曲線）の測定結果の一例を示す。図中曲線
（ａ）は円周方向、（ｂ）は半径方向の磁気特性を示
す。図において、曲線（ａ）で示す円周方向の磁気特性
を見ると、曲線（ｂ）で示す半径方向の磁気特性に比べ
て抗磁力Hcが高く、角形性が良いことが判る。これはス
パッタする材料の結晶異方性及び磁気異方性を利用し、
テクスチャ加工することにより磁気ディスクの円周方向
と半径方向の磁気特性を調整するためである。このよう
に円周方向に抗磁力Hcが高く角形性も良くなれば、磁気
ヘッドの再生出力も大きくなるとともに、記録密度の向
上も可能となり、磁気ディスクの記録特性を向上させる
ことができる。しかしながら、従来のテクスチャ加工に
おいては、溝の方向については配慮されておらず、磁気
ディスクの内周から外周まで一様にほぼ磁気ディスクの
円周方向に一致しており、溝とこの円周方向とのなす角
度は０度乃至５度程度であった。このため特に円周方向
の抗磁力Hcが高くなり過ぎると、磁気ヘッドの再生出力
は大きくなり記録密度の向上は可能となるが、特に磁気
ディスクの外周部においてオーバライトモジュレーショ
ン特性（以下OWMと称する）を悪化させ、全体的に見る
と記録特性を必ずしも向上させず、むしろ悪化させてし
まうという問題があった。
ストレート３に、下地層５としてCrを、強磁性層６とし
てCo Ni合金をスパッタしたときの、強磁性層６の磁気
特性（Ｍ−Ｈ曲線）の測定結果の一例を示す。図中曲線
（ａ）は円周方向、（ｂ）は半径方向の磁気特性を示
す。図において、曲線（ａ）で示す円周方向の磁気特性
を見ると、曲線（ｂ）で示す半径方向の磁気特性に比べ
て抗磁力Hcが高く、角形性が良いことが判る。これはス
パッタする材料の結晶異方性及び磁気異方性を利用し、
テクスチャ加工することにより磁気ディスクの円周方向
と半径方向の磁気特性を調整するためである。このよう
に円周方向に抗磁力Hcが高く角形性も良くなれば、磁気
ヘッドの再生出力も大きくなるとともに、記録密度の向
上も可能となり、磁気ディスクの記録特性を向上させる
ことができる。しかしながら、従来のテクスチャ加工に
おいては、溝の方向については配慮されておらず、磁気
ディスクの内周から外周まで一様にほぼ磁気ディスクの
円周方向に一致しており、溝とこの円周方向とのなす角
度は０度乃至５度程度であった。このため特に円周方向
の抗磁力Hcが高くなり過ぎると、磁気ヘッドの再生出力
は大きくなり記録密度の向上は可能となるが、特に磁気
ディスクの外周部においてオーバライトモジュレーショ
ン特性（以下OWMと称する）を悪化させ、全体的に見る
と記録特性を必ずしも向上させず、むしろ悪化させてし
まうという問題があった。
一方、従来のテクスチャ加工は研磨テープまたは研磨砥
粒を用い研磨加工で行なわれたため、微視的に見るとそ
の表面の凹凸形状はかなり鋭く、また表面にバリが生じ
やすい。このような鋭い凸部やバリはその上に薄膜を成
膜しても表面に残ってしまう場合が多く、実際に装置内
でCSS時に磁気ディスクと磁気ヘッドとが摺動するとき
に両者に傷が発生するという問題があった。この問題を
解決するために従来は、テクスチャ加工後テープクリー
ニングまたはバーニッシングにより突起やバリを除去し
ていたが、この方法によると加工工程が複雑となりコス
ト高になり、しかも全ての突起及びバリを除去できず、
前述したような損傷が発生する可能性があるという欠点
があった。
粒を用い研磨加工で行なわれたため、微視的に見るとそ
の表面の凹凸形状はかなり鋭く、また表面にバリが生じ
やすい。このような鋭い凸部やバリはその上に薄膜を成
膜しても表面に残ってしまう場合が多く、実際に装置内
でCSS時に磁気ディスクと磁気ヘッドとが摺動するとき
に両者に傷が発生するという問題があった。この問題を
解決するために従来は、テクスチャ加工後テープクリー
ニングまたはバーニッシングにより突起やバリを除去し
ていたが、この方法によると加工工程が複雑となりコス
ト高になり、しかも全ての突起及びバリを除去できず、
前述したような損傷が発生する可能性があるという欠点
があった。
（発明が解決しようとする課題） 上述したように従来の磁気ディスクの製造方法による
と、サブストレート表面にテクスチャ加工を行なうとき
に、磁気ディスクの内周から外周まで一様に溝を形成し
ていたため、特に円周方向の抗磁力Hcが高くなりすぎ、
磁気ディスクの外周部においてOWM特性が悪化し、記録
特性が悪化するという問題があった。一方、従来のテク
スチャ加工は研磨テープや研磨砥粒を用い研磨加工によ
り行なっていたため、表面に鋭い凸部やバリが発生しや
すく、薄膜成膜後も表面にこれらの凸部やバリが残るた
め、CSS時に磁気ヘッドと磁気ディスクとに傷が発生し
やすいという問題があった。
と、サブストレート表面にテクスチャ加工を行なうとき
に、磁気ディスクの内周から外周まで一様に溝を形成し
ていたため、特に円周方向の抗磁力Hcが高くなりすぎ、
磁気ディスクの外周部においてOWM特性が悪化し、記録
特性が悪化するという問題があった。一方、従来のテク
スチャ加工は研磨テープや研磨砥粒を用い研磨加工によ
り行なっていたため、表面に鋭い凸部やバリが発生しや
すく、薄膜成膜後も表面にこれらの凸部やバリが残るた
め、CSS時に磁気ヘッドと磁気ディスクとに傷が発生し
やすいという問題があった。
そこで本発明は上記事情を考慮してなされたもので、再
生出力及び記録密度を向上するとともに、特に磁気ディ
スクの外周部におけるOWM特性の低下を防ぐことのでき
る磁気ディスクの製造方法と、薄膜成膜前のメッキ及び
研磨されたサブストレートの表面に、磁気記録特性及び
磁気ディスク・磁気ヘッド間の摩擦特性を向上させるこ
とのできる粗面を形成する磁気ディスクの製造方法とを
提供することを目的とする。
生出力及び記録密度を向上するとともに、特に磁気ディ
スクの外周部におけるOWM特性の低下を防ぐことのでき
る磁気ディスクの製造方法と、薄膜成膜前のメッキ及び
研磨されたサブストレートの表面に、磁気記録特性及び
磁気ディスク・磁気ヘッド間の摩擦特性を向上させるこ
とのできる粗面を形成する磁気ディスクの製造方法とを
提供することを目的とする。
［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 本発明の第１の発明は上記第１の目的を達成するため
に、金属基板の表面に硬化層を形成した後さらに鏡面に
研磨し、この研磨面に円周方向に溝加工を施した後記録
媒体となる連続薄膜を形成する磁気ディスクの製造方法
であって、前記溝の走行方向を前記磁気ディスクの内周
側ではこの磁気ディスクの円周方向とのなす角度をほぼ
０度乃至30度とし、前記磁気ディスクの外周に向うに従
ってこの角度を順次大きくなるように加工することを特
徴としている。
に、金属基板の表面に硬化層を形成した後さらに鏡面に
研磨し、この研磨面に円周方向に溝加工を施した後記録
媒体となる連続薄膜を形成する磁気ディスクの製造方法
であって、前記溝の走行方向を前記磁気ディスクの内周
側ではこの磁気ディスクの円周方向とのなす角度をほぼ
０度乃至30度とし、前記磁気ディスクの外周に向うに従
ってこの角度を順次大きくなるように加工することを特
徴としている。
また本発明の第２の発明は上記第２の目的を達成するた
めに、前記溝加工を前記鏡面に研磨された金属基板を回
転しつつ、この金属基板の表面に研磨砥粒を吹き付けて
行なうことを特徴としている。
めに、前記溝加工を前記鏡面に研磨された金属基板を回
転しつつ、この金属基板の表面に研磨砥粒を吹き付けて
行なうことを特徴としている。
（作用） 上記第１の手段によると、磁気ディスクの内周側ではテ
クスチャ加工された溝の走行方向が磁気ディスクの円周
方向とほぼ一致し、強磁性層の磁気異方性がその方向に
向くため、抗磁力Hcが高く角形性も良好となる。また外
周側では溝の走行方向と磁気ディスクの円周方向とのな
すクロス角度が大きくなるため、抗磁力Hc及び角形性が
若干小さい磁気特性を有し、OWM特性を向上させること
ができる。
クスチャ加工された溝の走行方向が磁気ディスクの円周
方向とほぼ一致し、強磁性層の磁気異方性がその方向に
向くため、抗磁力Hcが高く角形性も良好となる。また外
周側では溝の走行方向と磁気ディスクの円周方向とのな
すクロス角度が大きくなるため、抗磁力Hc及び角形性が
若干小さい磁気特性を有し、OWM特性を向上させること
ができる。
一方、上記第２の手段によると、研磨砥粒の吹付け条件
を適正にすることにより、容易にサブストレート表面の
表面粗さ及びその表面形状を磁気ディスクの記録特性及
び磁気ディスクと磁気ヘッドとのCSSに対する研磨特性
に対して最適となるように加工することができる。
を適正にすることにより、容易にサブストレート表面の
表面粗さ及びその表面形状を磁気ディスクの記録特性及
び磁気ディスクと磁気ヘッドとのCSSに対する研磨特性
に対して最適となるように加工することができる。
（実施例） 以下、本発明の第１の発明の一実施例を図面を参照して
説明する。
説明する。
第１図乃至第５図に第１の発明の一実施例を示す。本実
施例の特徴は第７図に示す磁気ディスク４のサブストレ
ート３の表面テクスチャ加工方法にあり、他の工程は従
来例と同様であるので説明を省略する。金属基板１にニ
ッケルメッキされ、さらに鏡面研磨されたサブストレー
ト３の表面に、第１図に示すような円周方向の溝形状を
有するようにテクスチャ加工を行なう。このとき、磁気
ディスク４の円周方法とテクスチャ加工により形成され
た溝８の走行方向とのなすクロス角度を内周側では第２
図に示すように０度乃至５度と小さくし、外周側では第
３図に示すように５度乃至30度と大きくし、中間のクロ
ス角度は第４図に示すように内周側から外周側にいくに
従って徐々に大きくなるように調整する。このようなテ
クスチャ加工の具体的な方法としては、例えばテクスチ
ャ装置が研磨テープを用いた装置である場合には、回転
しているサブストレート３上に研磨テープを押し付けて
研磨させながら、磁気ディスク４の半径方向の研磨テー
プを移動させ、この移動速度を変える方法がある。すな
わち、この移動速度を研磨テープが内周側にあるときに
は小さく、外周側にあるときは大きくすればよく、クロ
ス角度は磁気ディスク４の回転数と研磨テープの半径方
向への移動速度とによって決まる。そして、このように
テクスチャ加工されたサブストレート３に従来通り下地
層５、強磁性層６及び保護層７を順次スパッタリングし
て磁気ディスク４を作製する。
施例の特徴は第７図に示す磁気ディスク４のサブストレ
ート３の表面テクスチャ加工方法にあり、他の工程は従
来例と同様であるので説明を省略する。金属基板１にニ
ッケルメッキされ、さらに鏡面研磨されたサブストレー
ト３の表面に、第１図に示すような円周方向の溝形状を
有するようにテクスチャ加工を行なう。このとき、磁気
ディスク４の円周方法とテクスチャ加工により形成され
た溝８の走行方向とのなすクロス角度を内周側では第２
図に示すように０度乃至５度と小さくし、外周側では第
３図に示すように５度乃至30度と大きくし、中間のクロ
ス角度は第４図に示すように内周側から外周側にいくに
従って徐々に大きくなるように調整する。このようなテ
クスチャ加工の具体的な方法としては、例えばテクスチ
ャ装置が研磨テープを用いた装置である場合には、回転
しているサブストレート３上に研磨テープを押し付けて
研磨させながら、磁気ディスク４の半径方向の研磨テー
プを移動させ、この移動速度を変える方法がある。すな
わち、この移動速度を研磨テープが内周側にあるときに
は小さく、外周側にあるときは大きくすればよく、クロ
ス角度は磁気ディスク４の回転数と研磨テープの半径方
向への移動速度とによって決まる。そして、このように
テクスチャ加工されたサブストレート３に従来通り下地
層５、強磁性層６及び保護層７を順次スパッタリングし
て磁気ディスク４を作製する。
次に本実施例の作用を説明する。磁気ディスク装置は一
般に一定の回転数で磁気ディスクを回転させ、内周部で
も外周部でも同じ記録周波数で情報の記録、再生を行な
う。この再生出力は磁気ディスクの周速に比例するこ
と、及び内周部では磁化反転幅が小さくなることから、
磁気ディスクの記録特性のうち最低の再生出力の大きさ
及び最大の記録密度とは、内周部の磁気特性、特に抗磁
力Hcと角形性とによって大きく左右され、両者が大きい
ことが望ましい。一方、OWM特性は磁気ディスクの外周
部における抗磁力Hc及び飽和磁化Msに依存し、両者が小
さい方が望ましい。本実施例によって作製された磁気デ
ィスク４の磁気特性のうち円周方向の抗磁力Hcの半径方
向の分布の一例を第５図に示す。図に示すように、強磁
性層６の磁気異方性がテクスチャ加工により形成された
溝８の走行方向に向くことにより、内周側ではそれが磁
気ディスク４の円周方向とほぼ一致しているため抗磁力
Hcは高く、外周側ではクロス角度が大きくなるため抗磁
力Hcは小さくなる。このようにして磁気ディスクの内周
側では抗磁力Hcが高く角形性の良い、また外周側では抗
磁力Hc及び飽和磁化Msが若干小さい磁気特性を得ること
ができる。
般に一定の回転数で磁気ディスクを回転させ、内周部で
も外周部でも同じ記録周波数で情報の記録、再生を行な
う。この再生出力は磁気ディスクの周速に比例するこ
と、及び内周部では磁化反転幅が小さくなることから、
磁気ディスクの記録特性のうち最低の再生出力の大きさ
及び最大の記録密度とは、内周部の磁気特性、特に抗磁
力Hcと角形性とによって大きく左右され、両者が大きい
ことが望ましい。一方、OWM特性は磁気ディスクの外周
部における抗磁力Hc及び飽和磁化Msに依存し、両者が小
さい方が望ましい。本実施例によって作製された磁気デ
ィスク４の磁気特性のうち円周方向の抗磁力Hcの半径方
向の分布の一例を第５図に示す。図に示すように、強磁
性層６の磁気異方性がテクスチャ加工により形成された
溝８の走行方向に向くことにより、内周側ではそれが磁
気ディスク４の円周方向とほぼ一致しているため抗磁力
Hcは高く、外周側ではクロス角度が大きくなるため抗磁
力Hcは小さくなる。このようにして磁気ディスクの内周
側では抗磁力Hcが高く角形性の良い、また外周側では抗
磁力Hc及び飽和磁化Msが若干小さい磁気特性を得ること
ができる。
本実施例によれば、磁気ディスク４の再生出力及び磁気
密度の向上と、外周部におけるOWM特性の向上とを達成
することができ、磁気ディスク全体の記録特性を向上さ
せることができる。
密度の向上と、外周部におけるOWM特性の向上とを達成
することができ、磁気ディスク全体の記録特性を向上さ
せることができる。
次に本発明の第２の発明の一実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
第６図に第２の発明の一実施例を示す。本実施例の特徴
は第７図に示す磁気ディスク４のサブストレート３の表
面のテクスチャ加工方法にあり、他の工程は従来例と同
様であるので説明を省略する。金属基板１にニッケルメ
ッキされ、さらに鏡面研磨されたサブストレート３をス
ピンドル９にチャックして回転する。この回転している
サブストレート３の表面に粒体吹付器10からダイヤモン
ドまたは酸化アルミナなどの微小の粒体11を高速で吹き
付ける。この粒体吹付器10はドラム内で粒体11を回転さ
せ、その遠心力で加速させて吹き付けてもよいし、また
は他の純水やエアなどの流体とともにポンプなどにより
サブストレート３に吹き付けてもよい。また粒体11はダ
イヤモンドなどの硬くまた割れなどの生じないようにも
ろさが少ない材料が望ましいが、特に材料を限定するも
のではなく、目的となる表面の形状やサブストレート表
面の硬さなどから適当に選択することが望ましい。
は第７図に示す磁気ディスク４のサブストレート３の表
面のテクスチャ加工方法にあり、他の工程は従来例と同
様であるので説明を省略する。金属基板１にニッケルメ
ッキされ、さらに鏡面研磨されたサブストレート３をス
ピンドル９にチャックして回転する。この回転している
サブストレート３の表面に粒体吹付器10からダイヤモン
ドまたは酸化アルミナなどの微小の粒体11を高速で吹き
付ける。この粒体吹付器10はドラム内で粒体11を回転さ
せ、その遠心力で加速させて吹き付けてもよいし、また
は他の純水やエアなどの流体とともにポンプなどにより
サブストレート３に吹き付けてもよい。また粒体11はダ
イヤモンドなどの硬くまた割れなどの生じないようにも
ろさが少ない材料が望ましいが、特に材料を限定するも
のではなく、目的となる表面の形状やサブストレート表
面の硬さなどから適当に選択することが望ましい。
このような粒体11がサブストレート３に衝突すると、粒
体11との衝突時のエネルギによりサブストレート３の表
面は塑性変形を起こしてくぼむ。このとき粒体11の材
質、粒径、形状、吹付け速度、吹付け方向及びテクスチ
ャ３の回転速度などを適正に選定することにより、前記
くぼみの形状を適切にコントロールすることができ、前
述したように磁気ディスクと磁気ヘッドとの間の摩擦特
性や磁気記録特性を向上させることができる。なお、磁
気記録のためにはこのくぼみの形状は周状に細くなって
いる方が好ましく、このための粒体11の大きさは直径約
50μｍ以下であり、サブストレート３を回転させながら
粒体11をサブストレート３の周方向に吹きつけることが
望ましい。
体11との衝突時のエネルギによりサブストレート３の表
面は塑性変形を起こしてくぼむ。このとき粒体11の材
質、粒径、形状、吹付け速度、吹付け方向及びテクスチ
ャ３の回転速度などを適正に選定することにより、前記
くぼみの形状を適切にコントロールすることができ、前
述したように磁気ディスクと磁気ヘッドとの間の摩擦特
性や磁気記録特性を向上させることができる。なお、磁
気記録のためにはこのくぼみの形状は周状に細くなって
いる方が好ましく、このための粒体11の大きさは直径約
50μｍ以下であり、サブストレート３を回転させながら
粒体11をサブストレート３の周方向に吹きつけることが
望ましい。
本実施例によれば、磁気記録特性を向上させるととも
に、磁気ディスク・磁気ヘッド間の摩擦特性を向上させ
ることができ、これらの間の吸着現象を回避することが
できる。またサブストレート３の表面にバリなどの鋭い
突起を生じさせる可能性がほとんどなく、後処理をしな
くてCSS時の磁気ヘッドと磁気ディスクとの摺動時に両
者に損傷を与えることはほとんどない。
に、磁気ディスク・磁気ヘッド間の摩擦特性を向上させ
ることができ、これらの間の吸着現象を回避することが
できる。またサブストレート３の表面にバリなどの鋭い
突起を生じさせる可能性がほとんどなく、後処理をしな
くてCSS時の磁気ヘッドと磁気ディスクとの摺動時に両
者に損傷を与えることはほとんどない。
上記実施例において金属基板１がアルミニウム合金であ
る場合は、表面硬化処理としてニッケルメッキの代りに
陽極酸化処理（アルマイト処理）を行なう。
る場合は、表面硬化処理としてニッケルメッキの代りに
陽極酸化処理（アルマイト処理）を行なう。
［発明の効果］ 以上詳細に説明したように、本発明に係る磁気ディスク
の製造方法によれば、サブストレートのテクスチャ加工
により形成された溝と磁気ディスクの円周方向とのなす
角度を、磁気ディスクの内周側で小さく外周側で大きく
したので、再生出力及び記録密度を向上させ、外周部に
おけるOWM特性の低下を防ぐことができる。また前記溝
加工をテクスチャを回転しつつ表面に研磨砥粒を吹き付
けて行なうようにしたので、磁気ディスクと磁気ヘッド
間の摩擦特性を向上させることのでき、磁気記録特性を
向上させることができる。
の製造方法によれば、サブストレートのテクスチャ加工
により形成された溝と磁気ディスクの円周方向とのなす
角度を、磁気ディスクの内周側で小さく外周側で大きく
したので、再生出力及び記録密度を向上させ、外周部に
おけるOWM特性の低下を防ぐことができる。また前記溝
加工をテクスチャを回転しつつ表面に研磨砥粒を吹き付
けて行なうようにしたので、磁気ディスクと磁気ヘッド
間の摩擦特性を向上させることのでき、磁気記録特性を
向上させることができる。
第１図は本発明の第１の発明の一実施例により製造され
たサブストレートを示す斜視図、第２図及び第３図はそ
れぞれ第１図のＡ部及びＢ部を示す拡大平面図、第４図
は本実施例のクロス角度を示すグラフ、第５図は本実施
例の抗磁力を示すグラフ、第６図は本発明の第２の発明
の一実施例を示す斜視図、第７図は磁気ディスクの積層
構造を示す縦断面図、第８図は第７図のサブストレート
を示す斜視図、第９図は第８図のＣ部を示す拡大斜視
図、第10図は強磁性層の磁気特性を示すグラフである。 １……金属基板 ２……硬化層 ３……サブストレート ４……磁気ディスク ６……強磁性層（連続薄膜） ８……溝 11……粒体（研磨砥粒）
たサブストレートを示す斜視図、第２図及び第３図はそ
れぞれ第１図のＡ部及びＢ部を示す拡大平面図、第４図
は本実施例のクロス角度を示すグラフ、第５図は本実施
例の抗磁力を示すグラフ、第６図は本発明の第２の発明
の一実施例を示す斜視図、第７図は磁気ディスクの積層
構造を示す縦断面図、第８図は第７図のサブストレート
を示す斜視図、第９図は第８図のＣ部を示す拡大斜視
図、第10図は強磁性層の磁気特性を示すグラフである。 １……金属基板 ２……硬化層 ３……サブストレート ４……磁気ディスク ６……強磁性層（連続薄膜） ８……溝 11……粒体（研磨砥粒）
Claims (2)
- 【請求項１】金属基板の表面に硬化層を形成した後さら
に鏡面に研磨し、この研磨面に円周方向に溝加工を施し
た後記録媒体となる連続薄膜を形成する磁気ディスクの
製造方法であって、前記溝の走行方向を前記磁気ディス
クの内周側ではこの磁気ディスクの円周方向とのなす角
度をほぼ０度乃至30度とし、前記磁気ディスクの外周に
向うに従ってこの角度を順次大きくなるように加工する
ことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項２】金属基板の表面に硬化層を形成した後さら
に鏡面に研磨し、この研磨面に円周方向に溝加工を施し
た後記録媒体となる連続薄膜を形成する磁気ディスクの
製造方法であって、前記溝加工を前記鏡面に研磨された
金属基板を回転しつつ、この金属基板の表面に研磨砥粒
を吹き付けて行なうことを特徴とする磁気ディスクの製
造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28956088A JPH077508B2 (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 磁気ディスクの製造方法 |
| EP19890311873 EP0369784A3 (en) | 1988-11-16 | 1989-11-16 | Magnetic disk and production method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28956088A JPH077508B2 (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02134727A JPH02134727A (ja) | 1990-05-23 |
| JPH077508B2 true JPH077508B2 (ja) | 1995-01-30 |
Family
ID=17744813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28956088A Expired - Lifetime JPH077508B2 (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0369784A3 (ja) |
| JP (1) | JPH077508B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2543265B2 (ja) * | 1991-05-16 | 1996-10-16 | 松下電器産業株式会社 | 磁気ディスク |
| WO1993021629A1 (en) * | 1992-04-15 | 1993-10-28 | Tulip Memory Systems, Inc. | Precision-etched textured stop/start zone for magnetic-recording disks |
| US5981902A (en) * | 1994-12-15 | 1999-11-09 | Mitsubishi Chemical Corporation | Texturing apparatus for magnetic recording medium and magnetic recording medium process thereby |
| MY113928A (en) * | 1995-10-25 | 2002-06-29 | Showa Denko Kk | Magnetic disc and data writing/reading-out method |
| US6057984A (en) * | 1995-10-25 | 2000-05-02 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for data writing/read-out using a contact start and stop system |
| SE9902267D0 (sv) * | 1999-06-16 | 1999-06-16 | Astra Ab | New compounds |
| US6482505B1 (en) * | 2000-05-11 | 2002-11-19 | Komag, Inc. | Multi-layer texture layer |
| KR100782298B1 (ko) * | 2006-03-20 | 2007-12-06 | 삼성전자주식회사 | 하드디스크 드라이브용 디스크 및 그를 구비한 하드디스크드라이브 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4698251A (en) * | 1985-01-22 | 1987-10-06 | Victor Company Of Japan, Limited | Magnetic recording medium and method of producing the same |
| US4735840A (en) * | 1985-11-12 | 1988-04-05 | Cyberdisk, Inc. | Magnetic recording disk and sputtering process and apparatus for producing same |
| KR870011582A (ko) * | 1986-05-27 | 1987-12-24 | 시노하라 아끼라 | 자기 기록 매체 |
-
1988
- 1988-11-16 JP JP28956088A patent/JPH077508B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-11-16 EP EP19890311873 patent/EP0369784A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0369784A2 (en) | 1990-05-23 |
| EP0369784A3 (en) | 1991-05-02 |
| JPH02134727A (ja) | 1990-05-23 |
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