JPH02246104A - 半導体磁器の粒界層形成方法 - Google Patents

半導体磁器の粒界層形成方法

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JPH02246104A
JPH02246104A JP1066926A JP6692689A JPH02246104A JP H02246104 A JPH02246104 A JP H02246104A JP 1066926 A JP1066926 A JP 1066926A JP 6692689 A JP6692689 A JP 6692689A JP H02246104 A JPH02246104 A JP H02246104A
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JP
Japan
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grain boundary
semiconductor porcelain
insulating agent
semiconductor
porcelain
Prior art date
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Pending
Application number
JP1066926A
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English (en)
Inventor
Osamu Kanda
修 神田
Satoru Takao
高尾 哲
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 り鼠上Ω■里ユ1 本発明は、電気・電子機器内で発生したり機器内に侵入
する異常高電圧、ノイズ、静電気から半導体を保護する
ため、コンデンサ特性(誘電特性)および電圧依存性非
直線性抵抗特性(バリスタ特性)を有する半導体磁器の
製造方法に関し、そのうちとくに、半導体磁器の粒界層
に粒界絶縁化剤を熱拡散させて、電気絶縁性のよい粒界
層を形成する方法に関するものである。
鷹米公肢止 従来、5rTiOs系半導体磁器は、その粒界を絶縁化
することにより、粒界層型半導体磁器コンデンサあるい
はバリスタが得られることが知られている。
■電気絶縁性のよい粒界層を形成する一般的な方法に、
つぎのような方法がある。すなわち、この5rTiOi
系半導体磁器は、Nb等の5価の金属酸化物を5rTi
Osに微量添加した後、加圧成形し、還元雰囲気中で1
400〜1500℃の高温で焼成することにより得られ
る。つぎに、粒界を絶縁化するには、半導体磁器を大気
中で熱処理し、粒界を再酸化する方法もある。しかしな
がら、絶縁抵抗や耐圧が低いなどの理由から、Blz0
3.MriO□、CuOなどの金属酸化物を粒界絶縁化
剤として用い、これをテルピネオールなどの有機ビヒク
ル剤と混練してペースト(絶縁化ペースト)とし、この
絶縁化ペーストを半導体磁器表面に印刷した後大気中で
焼成し、粒界絶縁化剤を半導体磁器の表面層ならびに粒
界層に拡散させる方法が一般に用いられている。
そして、粒界絶縁化剤の熱拡散の方法は、拡散種、付着
量および熱処理温度により粒界層の形成を規定するもの
であり、第2図(a)〜(C)に示すように、サヤ上に
一定の並べ方で一定の温度により大気中で熱処理した場
合に限って、同じ電気特性の磁器が得られる。このよう
な熱処理方法をサヤ詰めという、ここで、11は拡散種
を付着させた半導体磁器、12は絶縁化ペースト、13
は高純度アルミナ製の板材、14はアルミナ質レンガ、
15は白金線である。この場合、サヤは高純度アルミナ
製の板材13、アルミナ質レンガ14、白金線15であ
る。
しかしながら、この方法は、ペースト塗布量にバラツキ
が多いため拡散種の拡散量に差が生じ、同様にサヤの種
類や半導体磁器の並べ方が異なっても拡散量に差が生じ
ることから、製品の電気的特性が不均一でそのバラツキ
が大きいという問題があった。
■このような問題点を解決する方法として、半導体磁器
に熱可塑性バインダをコーティングし、この半導体磁器
を粒界絶縁化剤とともに混合しつつ加熱する方法(特開
昭57−871.11) 、半導体磁器に粒界絶縁化剤
を塗着した後、半密閉容器中にこの半導体磁器をサヤ詰
めして熱処理する方法(特開昭56−94718)があ
る、後者(第2図(d))では、拡散種の付着量と拡散
量をほぼ一致させることができるため、バラ詰めしても
一様の拡散効果が得られる。ここで、16は高純度アル
ミナ製のルツボであり、このルツボ16がサヤである。
■また、Bi*Osなどを熱処理により蒸発させ、半導
体磁器の粒界層に拡散させる気相拡散法もある。
日が ゛しよ と る しかしながら、上記した■■の方法はいずれも一つ一つ
の半導体磁器に粒界絶縁化剤を塗布あるいは熱可塑性バ
インダをコーティングしなければならず、量産性に劣っ
ていた。また、■の方法は、絶縁抵抗や耐圧が低いなど
の欠点があり、実用性に乏しかった。
本発明は上記のような欠点に鑑み発明されたものであっ
て、電気的特性の均一な半導体磁器を得ることができ、
しかも量産性に優れた、半導体磁器の粒界層形成方法を
提供することを目的としている。
課 を ゛ るための 「1 上記した目的を達成するため本発明は、5rTiOs系
半導体磁器とベレット状の粒界絶縁化剤を半密閉容器中
゛にサヤ詰めして熱処理し、前記半導体磁器の聞に粒界
絶縁化剤を拡散させることを特徴としている。
また、上記粒界絶縁化剤が、Al2O3を骨材として、
BiJs、 NatCO3Rb、CO,を含むことを特
徴している。
止 ■本発明にかかる粒界形成法および粒界絶縁化剤を用い
て作成された半導体磁器は、後記した第1表に示すよう
に、誘電特性(静電容量C1誘電損失tanδ)、バリ
スタ特性(バリスタ電圧v4あ、非直線係数α)などの
電気的特性の標準偏差0が、従来(第2表)に比べて小
さい値を示すことがわかる。すなわち、 静電容量Cを1/6〜l/2程度、 誘電損失tanδをl/9〜1/4程度、バリスタ電圧
VlsaAを1/2〜2/3程度、非直線係数αを17
3〜172程度 低く抑えることができた。したがって、各電気的特性の
バラツキは小さい。
なお、第2表の試料は、第1表で用いた試料と同じ半導
体磁器に粒界絶縁化剤をスクリーン印刷し、第2図(a
)のサヤ(板材13)に並べて熱処理したものである。
第1表および第2表の試料はいずれも、粒界絶縁化剤が
、A11enを骨材とし、ロットNo、1がBLiOs
、No、2がBitOn/NatCOs (9/1モル
比)、No、3がBi*Os/Na1COs/Rb1C
Os (4,5/1/4.5モル比)を骨材に対して1
79重量比添加したものを用いた。
■また、準密閉容器中に半導体磁器とペレット状の粒界
絶縁化剤をサヤ詰めして熱処理するだけで、準密閉容器
中の粒界絶縁化剤の存在量と粒界層への拡散量を制御す
ることができる。
!施胴 以下、本発明にかかる、半導体磁器の粒界層形成方法の
実施例について説明する。
まず、5rTiOs系半導体磁器について説明する。
5rTiOz 100 molに対して、Nb、O,を
0.1〜ノ 2 mot、MnOtを0.1〜2moLの範囲で添加
し、混合、乾燥した後、バインダー(例えばポリビニル
アルコール)を添加して造粒した。これを、直径10m
m、厚さ1.0mmの円板形状に加圧成形した。この円
板状の素体を還元雰囲気(H,1〜15体積%、N29
9〜85体積%)中で1400〜1560℃程度の温度
で4.0〜10.0時間焼成した。
つぎに、粒界絶縁化剤は、A1.0.を骨材とし、ロッ
トNo、1がBizOsを、ロットNo、 2がBig
Os/NaaCOa (9/1モル比)を、ロットNo
、3がBizOs/NazCO3/RbzCOs (4
,5/1/4.5モル比)を添加した。骨材と添加材の
組成比は971重量比とし、混合後、直径15+nm、
厚さ0.5mmの円板形状に加圧成形した。
このようにして得られた半導体磁器17とペレット状の
粒界絶縁化剤18を、第1図(a)(b)に示すように
、高純度アルミナ製のルツボ16に入れ、バラ詰めした
状態で高純度アルミナ製の板材13で蓋をし、準密閉状
態とする(サヤ詰め)、このとき、半導体磁器17に対
する粒界絶縁化剤18の混在重量は15wt%程度とし
た。
この準密閉状態のまま、大気中で1070〜1250℃
で1.0〜2.0時間焼成し、焼成後、絶縁性の粒界が
形成された焼結体を取り出し、この焼結体の両面に銀ペ
ーストなどを焼き付けて電極を形成した。
一方、比較例として、上記3種類の試料と同一組成の粒
界絶縁化剤をそれぞれペースト状にし、これらのペース
トを半導体磁器17表面にスクリーン印刷し、第2図(
a)に示した方法により熱処理(大気中、1070〜1
250℃、1.0〜2.0時間焼成)し、3種類の試料
を作成した。
これらの試料について電気的特性を測定した。
その結果を、本発明の範囲の試料は第1表に、比較例を
第2表に示す。
表中、静電容量C1誘電損失tanδは誘電特性を示し
、バリスタ電圧VIQIA、非直線係数αはバリスタ特
性を示し、0はこれらの電気的特性の標準偏差を示して
いる。
バリスタの電流・電圧特性は通常、 I = [V/C] ct で表わされる。
ただし、ここで ■:バリスタ内を流れる電流 V:バリスタ両端にかかる電圧 C:バリスタ固有定数 α:非直線係数 をそれぞれ表わしている。
バリスタの評価は、非直線係数αの大小によって示され
、αが大きいほどバリスタ効果が大きい、また、バリス
タ電圧は試料に1mAの電流を流したときの端子間電圧
■l□で表わしている。非直線係数αは次式により求め
た。
ま ただしV、。、、A =試料に10mAの電流を流した
ときの端子間電圧 各電気的特性の値は試料30個の平均値であり、標準偏
差Cは試料30個から求めた値である。
(以下余白) 第1表 第2表 第1表から明らかなように、本発明の範囲内の試料は、
いずれの標準偏差aも従来(第2表)に比べて小さい値
を示すことがわかる。したがって、各電気的特性のバラ
ツキは小さい。
このように、本実施例によれば、誘電特性(C、tan
δ)とバリスタ特性(vlえ、α)の双方について均一
な値を得ることができるので、1個の素子でコンデンサ
とバリスタ双方の機能を併せ持たせることができた。
しかも、上記のような好結果を得たことより、本実施例
にかかる粒界形成法が有効であることは明らかである。
したがって、準密閉容器中に半導体磁器とペレット状の
粒界絶縁化剤をバラ詰め状態で熱処理するだけで、準密
閉容器中の粒界絶縁化剤の存在量と粒界層への拡散量を
制御することができる。この結果、従来のようなサヤ詰
め条件を考慮したり、個々の半導体磁器に粒界絶縁化剤
を塗布する必要がなくなり、また実用性に乏しい気相拡
散法を用いる必要がなくなるので、半導体磁器の量産性
が向上し、ロット変動にも容易に対応することができる
及肌五立呈 以上の説明により明らかな如く、本発明にかかる半導体
磁器の粒界層形成方法にあっては、5rTiOs系半導
体磁器とペレット状の粒界絶縁化剤ンを準密閉容器中に
サヤ詰めして熱処理し、前記半導体磁器の粒界に粒界絶
縁化剤を拡散させることを特徴としている。
また、上記粒界絶縁化剤が、Al2O.を骨材として、
BiJa、Nance3Rb*COsを含むことを特徴
している。
上記の粒界形成法を用いることにより、誘電特性および
バリスタ特性の双方について均一な半導体磁器を得るこ
とができる。
しかも、準密閉容器中に半導体磁器とペレット状の粒界
絶縁化剤をバラ詰め状態で熱処理するだけで、準密閉容
器中の粒界絶縁化剤の存在量と粒界層への拡散量を制御
することができ、量産性を格段に向上させることができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)(b)は本発明にかかる半導体磁器の粒界
層形成方法の一実施例を示す説明図であって、(a)は
準密閉容器の斜視図、(b)は粒界絶縁化剤のサヤ詰め
方法を示す断面図、第2図(a)〜(d)は従来のサヤ
詰め方法を示す斜視図である。 13・・・高純度アルミナ製の板材(準密閉容器)16
・・・高純度アルミナ製のルツボ(準密閉容器) 17・・・半導体磁器(粒界形成前) 18・・・粒界絶縁化剤

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) SrTiO_3系半導体磁器とペレット状の粒
    界絶縁化剤を準密閉容器中にサヤ詰めして熱処理し、前
    記半導体磁器の粒界に粒界絶縁化剤を拡散させることを
    特徴とする半導体磁器の粒界層形成方法。
  2. (2) 粒界絶縁化剤が、Al_2O_3を骨材として
    、Bi_2O_3、Na_2CO_3Rb_2CO_3
    を含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半
    導体磁器の粒界層形成方法。
JP1066926A 1989-03-17 1989-03-17 半導体磁器の粒界層形成方法 Pending JPH02246104A (ja)

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