JPH02246116A - キャリア乾燥装置 - Google Patents
キャリア乾燥装置Info
- Publication number
- JPH02246116A JPH02246116A JP6710289A JP6710289A JPH02246116A JP H02246116 A JPH02246116 A JP H02246116A JP 6710289 A JP6710289 A JP 6710289A JP 6710289 A JP6710289 A JP 6710289A JP H02246116 A JPH02246116 A JP H02246116A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- nozzle
- water droplets
- drying
- nozzles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(概要〕
洗浄したキャリヤを乾燥させる装置に関し、清浄度の向
上及び乾燥効率の向上を可能とすることを目的とし、 洗浄済であり水滴が付着しているキャリヤが搬送されて
きて所定位置にセットされたときに上記キャリヤの底面
開口を通って上記製ヤリャの内部に進入するように配設
された内側ノズルと、上記所定位置にセットされた上記
キャリヤの外側面に対向するように配設された外側ノズ
ルと、上記内側ノズル及び外側ノズルを水平方向に繰り
返し往復移動させると共に垂直方向に移動させるノズル
移動機構とよりなり、上記各ノズルより噴射された気体
流が上記キャリヤの内側面及び外側面を走査し上記キャ
リヤに付着している水滴を吹き飛ばして除去するよう構
成する。
上及び乾燥効率の向上を可能とすることを目的とし、 洗浄済であり水滴が付着しているキャリヤが搬送されて
きて所定位置にセットされたときに上記キャリヤの底面
開口を通って上記製ヤリャの内部に進入するように配設
された内側ノズルと、上記所定位置にセットされた上記
キャリヤの外側面に対向するように配設された外側ノズ
ルと、上記内側ノズル及び外側ノズルを水平方向に繰り
返し往復移動させると共に垂直方向に移動させるノズル
移動機構とよりなり、上記各ノズルより噴射された気体
流が上記キャリヤの内側面及び外側面を走査し上記キャ
リヤに付着している水滴を吹き飛ばして除去するよう構
成する。
(産業上の利用分野〕
本発明は洗浄したキャリヤを乾燥させる装置に関する。
つIハ処理においては、ウェハの各工程間の搬送を行う
ために、複数枚のつIハを面対向させて収納する容器で
あるキャリヤが使用される。
ために、複数枚のつIハを面対向させて収納する容器で
あるキャリヤが使用される。
つIへ表面を汚染しないように、キャリヤは使用時には
清浄であることが必要ある。従って使用後、キャリヤは
水洗されて清浄な状態とされ、その後乾燥した後、スト
ッカに収容されて次の使用に供される。
清浄であることが必要ある。従って使用後、キャリヤは
水洗されて清浄な状態とされ、その後乾燥した後、スト
ッカに収容されて次の使用に供される。
ここで、水滴が・一部付着していつまでも残るとこれが
汚れの原因となるため、まず水滴の除去が完全である必
要がある。
汚れの原因となるため、まず水滴の除去が完全である必
要がある。
また、使用済キャリヤの数は多く、これらについて一つ
ずつ洗浄と乾燥を順次行うため、作業能率上乾燥は短時
間で完了することが望ましい。
ずつ洗浄と乾燥を順次行うため、作業能率上乾燥は短時
間で完了することが望ましい。
(従来の技術〕
第4図は従来例を示す。
従来はプロワ−1,2からの温風を矢印で示すように洗
浄済のキャリヤ3に当てて乾燥させていた。キャリヤ3
は合成樹脂製であり、水分が浸透する。
浄済のキャリヤ3に当てて乾燥させていた。キャリヤ3
は合成樹脂製であり、水分が浸透する。
キャリヤ3のウェハを二点!l1ilで示すように支持
するための満4は、幅Wが2〜3mと狭く、深さdが5
mと深いものであり、水切れが良くなく、満4の奥に水
滴が残り易い。
するための満4は、幅Wが2〜3mと狭く、深さdが5
mと深いものであり、水切れが良くなく、満4の奥に水
滴が残り易い。
(発明が解決しようとする課題〕
プロワ−1,2からの温風を当てるだけでは上記満4内
の水滴を吹き飛ばすことは困難であり、結果として乾燥
ムラが生じてしまい、洗浄度が低下してしまう。
の水滴を吹き飛ばすことは困難であり、結果として乾燥
ムラが生じてしまい、洗浄度が低下してしまう。
また乾燥に時開もかかつてしまう。
本発明は洗浄度の向上及び乾燥効率の向上を可能とする
洗浄済キャリヤ乾燥V装置を提供することを目的とする
。
洗浄済キャリヤ乾燥V装置を提供することを目的とする
。
(:!題を解決するための手段)
本発明は、洗浄流であり水滴が付着しているキャリヤが
搬送されてきて所定位置にセットされたときに上記キャ
リヤの底面開口を通って上記キャリヤの内部に進入する
ように配設された内側ノズルと、上記所定位置にセット
された上記キャリヤの外側面に対向するように配設され
た外側ノズルと、上記内側ノズル及び外側ノズルを水平
方向に繰り返し往復移動させると共に垂直方向に移動さ
せるノズル移動機構とよりなり、上記各ノズルより噴射
された気体流が上記キャリヤの内側面及び外側向を走査
し上記キャリヤに付着している水滴を吹き飛ばして除去
する構成としたものである。
搬送されてきて所定位置にセットされたときに上記キャ
リヤの底面開口を通って上記キャリヤの内部に進入する
ように配設された内側ノズルと、上記所定位置にセット
された上記キャリヤの外側面に対向するように配設され
た外側ノズルと、上記内側ノズル及び外側ノズルを水平
方向に繰り返し往復移動させると共に垂直方向に移動さ
せるノズル移動機構とよりなり、上記各ノズルより噴射
された気体流が上記キャリヤの内側面及び外側向を走査
し上記キャリヤに付着している水滴を吹き飛ばして除去
する構成としたものである。
(作用)
ノズル移動I構により、各ノズルよりの気体流がキャリ
ヤの内側面及び外側面を満遍なく走査する。
ヤの内側面及び外側面を満遍なく走査する。
これにより、全部の溝に付着している水滴が吹き飛ばさ
れて除去され、水滴除去が完全となる。
れて除去され、水滴除去が完全となる。
この結果、ムラを生ずることなく乾燥される。
第1図は本発明の一実施例になる洗浄済1ヤリヤ乾燥V
&置を示す。
&置を示す。
10はテーブルであり、四隅を2方向移動用エアシリン
ダ11−1〜11−4により支持されており、Z方向(
高さ方向)に昇降する。
ダ11−1〜11−4により支持されており、Z方向(
高さ方向)に昇降する。
12は内側ノズルであり、パイプ13の上端に固定して
あり、キャリヤ3が上方より降下して所定位置にセット
されたときに、底面の開口5を通ってキャリヤ3の内部
に進入するように配設しである。
あり、キャリヤ3が上方より降下して所定位置にセット
されたときに、底面の開口5を通ってキャリヤ3の内部
に進入するように配設しである。
この内側ノズル12は、平面状六角形状をなし、キャリ
ヤ3のうち一方の内側の満面(X−Z面)3aに対向し
て山形をなす各面に夫々−のノズル孔12−+、12−
2を有し、他方の内側の満面(X−Z面)3bに対向し
て山形をなす各面に夫々−のノズル孔12−s、12−
4を有する。
ヤ3のうち一方の内側の満面(X−Z面)3aに対向し
て山形をなす各面に夫々−のノズル孔12−+、12−
2を有し、他方の内側の満面(X−Z面)3bに対向し
て山形をなす各面に夫々−のノズル孔12−s、12−
4を有する。
14.15は夫々長手方向外側ノズルであり、パイプ1
6.17の上端に固定してあり、キャリヤ3の長手方向
外側面3C及び3dに対向する。
6.17の上端に固定してあり、キャリヤ3の長手方向
外側面3C及び3dに対向する。
このノズル14.15は夫々キャリヤ3の長子方向外側
面3c、3dに対向する側を山形とされ、各面にノズル
孔14−r 、 14−2.15−t 。
面3c、3dに対向する側を山形とされ、各面にノズル
孔14−r 、 14−2.15−t 。
15−2を有する。
18.19は夫々端面側外側ノズルであり、パイプ20
.21の上端に固定してあり、4;ヤリャ3の端面(Y
−2面)3e、3fに対向する。
.21の上端に固定してあり、4;ヤリャ3の端面(Y
−2面)3e、3fに対向する。
このノズル18.19も上記のノズル14゜15と同じ
く、端面3e、3fに対向する側を山形とされ、各面に
ノズル孔18−+ 、 18−2 。
く、端面3e、3fに対向する側を山形とされ、各面に
ノズル孔18−+ 、 18−2 。
19−言、19−2を有する、1
各ノズル12.14.15.18.19は同じ高さの位
置にある。
置にある。
また各ノズル12,14.15.18.19は平面図的
にはキャリヤ3に対して第2図に示すように配設しであ
る。
にはキャリヤ3に対して第2図に示すように配設しであ
る。
パイプ13.16.17は、同じベース25に立設しで
ある。
ある。
パイプ20はベース26に立設してあり、パイプ21は
ベース27に立設しである。
ベース27に立設しである。
テーブル10上には、その中央にX方向移動用エアシリ
ンダ28、左右側にY方向移動用エアシリンダ29.3
0が設けである。
ンダ28、左右側にY方向移動用エアシリンダ29.3
0が設けである。
上記のベース25はエアシリンダ28により移動される
ように、ベース26.27は夫々エアシリンダ29.3
0により移動されるように設けである。
ように、ベース26.27は夫々エアシリンダ29.3
0により移動されるように設けである。
31は圧縮空気源、32.33.34は制御弁、35は
制御弁32〜34 e11i1tル111t!lI’a
lt’Mる。
制御弁32〜34 e11i1tル111t!lI’a
lt’Mる。
vJw装欝35はエアシリンダ28を反復往復移動させ
、エアシリンダ29.30を同期して反復往復移動させ
、且つエアシリンダ11−1〜11−4をステップ的に
移動させるように制御弁32〜34をt、IJ−する。
、エアシリンダ29.30を同期して反復往復移動させ
、且つエアシリンダ11−1〜11−4をステップ的に
移動させるように制御弁32〜34をt、IJ−する。
36は遠赤外線ヒータであり、キャリヤ3の下側に設け
である。
である。
37は圧縮窒素ガス源、38はフィルタである。
また上記の各ノズル孔12−1等の径は0.5履である
。
。
またテーブル10を底面とする四方側面は壁(図示せず
)により囲まれており、槽を構成している。
)により囲まれており、槽を構成している。
次に上記乾燥装置の動作について説明する。
洗浄済の水滴が付着したキャリヤ3は搬送機構(図示せ
ず)により搬送されて、ノズル12゜14.15.18
.19に対して第1図及び第2図に示すようにセットさ
れる。
ず)により搬送されて、ノズル12゜14.15.18
.19に対して第1図及び第2図に示すようにセットさ
れる。
即ち、ノズル12はキャリヤ3の底面開口5を通って1
ヤリヤ3の内側に入り、内側溝面3a。
ヤリヤ3の内側に入り、内側溝面3a。
3bに対向し、ノズル14.15はキャリヤ3の長手方
向外側面3C,3dに対向し、ノズル18゜19はキャ
リヤ3の端面3e、3fに対向する。
向外側面3C,3dに対向し、ノズル18゜19はキャ
リヤ3の端面3e、3fに対向する。
この状態で、第1には、弁39が開き、各ノズル12.
14.15.18.19の各ノズル孔12−1等より窒
素ガスを噴射(パージ)させる。
14.15.18.19の各ノズル孔12−1等より窒
素ガスを噴射(パージ)させる。
窒素ガス流は第2図中矢印41を付した矢印で示す如く
、キャリヤ3の内側面及び外側面に斜めに噴き付けられ
る。窒素ガス流のガス圧は約2幻/dである。
、キャリヤ3の内側面及び外側面に斜めに噴き付けられ
る。窒素ガス流のガス圧は約2幻/dである。
第2には、tlIJIl装[35により!制御弁32゜
33.34が制御される。
33.34が制御される。
llll9弁32の動作によって、エアシリンダ28が
往復反復駆動され、制御弁33の動作によってエアシリ
ンダ29.30が同期して往復反復駆動され、更にはl
l1111弁34の動作によってエアシリンダ11−1
〜11−4が下方向にステップ的に駆動される。
往復反復駆動され、制御弁33の動作によってエアシリ
ンダ29.30が同期して往復反復駆動され、更にはl
l1111弁34の動作によってエアシリンダ11−1
〜11−4が下方向にステップ的に駆動される。
第3には、遠赤外線ヒータ36が動作される6゜エアシ
リンダ28とエアシリンダ11−1〜11−4の駆動に
より、内側ノズル12は、第3図中矢印で示すように(
第2図中矢印41で示す)、a→b−+c・・・Q−→
i −+ jと、水平方向上−方向にキャリヤの略全幅
に亘って移動すると2方向に一段下がり、その侵水平方
向上逆方向に移動し、更に一段下がるようにジグザグ状
にX−2面を移動する。
リンダ28とエアシリンダ11−1〜11−4の駆動に
より、内側ノズル12は、第3図中矢印で示すように(
第2図中矢印41で示す)、a→b−+c・・・Q−→
i −+ jと、水平方向上−方向にキャリヤの略全幅
に亘って移動すると2方向に一段下がり、その侵水平方
向上逆方向に移動し、更に一段下がるようにジグザグ状
にX−2面を移動する。
これにより、ノズル孔12−1,122よりの窒素ガス
噴射流40がキャリヤ3の−の内側溝。
噴射流40がキャリヤ3の−の内側溝。
1ffi3aを走査し、ノズル孔12−s 、 12−
4よりの窒素ガス噴射流40がキャリヤ3の反対側の内
側溝面3bを走査する。
4よりの窒素ガス噴射流40がキャリヤ3の反対側の内
側溝面3bを走査する。
従って、窒素ガス噴射流40が全部の溝4に吹き付けら
れ、且つ溝4の奥部まで吹き付けられ、8満4の奥部に
付着している水滴までもが吹き飛ばされて除去される。
れ、且つ溝4の奥部まで吹き付けられ、8満4の奥部に
付着している水滴までもが吹き飛ばされて除去される。
即ち、水滴の除去は完全となる。
これにより遠赤外線ヒータ36による加熱と相俟って、
キャリヤ3の全部の満4はムラなく且つ迅速に乾燥され
る。
キャリヤ3の全部の満4はムラなく且つ迅速に乾燥され
る。
また、ノズル14.15は上記のノズル12と同様に移
動してキャリヤ3の長手方向外側面3c。
動してキャリヤ3の長手方向外側面3c。
3dをその全面に亘って第2図中矢印42.43で示す
ように走査する。
ように走査する。
これにより、キャリヤ3の長手方向外側面3C。
3dに付着している水滴が完全に吹き飛ばされて除去さ
れる。
れる。
またノズル18.19はY−2m内でジグザグに移動す
る。第2図中、矢印44.45は夫々移動軌跡を示す。
る。第2図中、矢印44.45は夫々移動軌跡を示す。
これにより、キャリヤ3の端面3e、3fに付着してい
る水滴が完全に吹き飛ばされて除去される。
る水滴が完全に吹き飛ばされて除去される。
この結果、洗浄されたキャリヤ3は、完全に水滴を除去
され、乾燥ムラを生ずることなく乾燥され、乾燥された
キャリヤ3は高い清浄度を有する。
され、乾燥ムラを生ずることなく乾燥され、乾燥された
キャリヤ3は高い清浄度を有する。
また、圧縮窒素ガス1127の窒素ガスは圧縮空高純度
のものがよく、更にエアフィルタ38を通しており、キ
ャリヤ乾燥時にパーティクルの増加は無い。尚、この圧
縮窒素ガス源27は、清浄空気や清浄な別の不活性ガス
に代えてもよい。
のものがよく、更にエアフィルタ38を通しており、キ
ャリヤ乾燥時にパーティクルの増加は無い。尚、この圧
縮窒素ガス源27は、清浄空気や清浄な別の不活性ガス
に代えてもよい。
また遠赤外線ヒータ36を使用しているため、赤外線ヒ
ータを使用した場合に比べて、キャリヤ内に浸透した水
分を除去することが出来、乾燥の効率が向上する。
ータを使用した場合に比べて、キャリヤ内に浸透した水
分を除去することが出来、乾燥の効率が向上する。
また乾燥されたキャリヤはストッカ(図示せず)に保管
され、ヘパフィルタを通過したダウンフ〇−φで清浄度
を維持して更に完全に乾燥される。
され、ヘパフィルタを通過したダウンフ〇−φで清浄度
を維持して更に完全に乾燥される。
またキャリヤの内側及び外側の各面に対向させて所定の
間隔で複数のノズルを設けることにより上記と同様の効
果が得られるが、この場合には必要なノズルの数が増え
てしまい好ましくない。
間隔で複数のノズルを設けることにより上記と同様の効
果が得られるが、この場合には必要なノズルの数が増え
てしまい好ましくない。
(発明の効果)
以上説明した様に、請求項1の発明によれば、ノズルに
より噴射された気体流が溝の全部に対して吹き付けるた
め、全部の溝に付着している水滴を完全に吹き飛ばすこ
とが出来、水滴除去が完全とやり、ムラなく乾燥させる
ことが出来、キャリヤを清浄度良(乾燥させることが出
来る。
より噴射された気体流が溝の全部に対して吹き付けるた
め、全部の溝に付着している水滴を完全に吹き飛ばすこ
とが出来、水滴除去が完全とやり、ムラなく乾燥させる
ことが出来、キャリヤを清浄度良(乾燥させることが出
来る。
請求項2の発明によれば、請求項1の発明により水滴除
去が完全となることと相俟って、乾燥を迅速に完了する
ことが出来る。
去が完全となることと相俟って、乾燥を迅速に完了する
ことが出来る。
第1図は本発明の一実施例になる清浄済キャリヤ乾燥*
Mの概略斜視図、 第2図は乾燥動作時の各ノズルのキャリヤに対する動き
を説明する平面図、 第3図は乾燥動作時の内側ノズルのキャリヤに対する動
きを説明する立面図、 第4図は従来例を示す図である。 図において、 3はキャリヤ、 3a、abは内側満面、 3c、3dは長手方向外側面、 3e、3fは端面、 4はつIハ支持用満、 5は底面開口、 10はテーブル、 11−1〜11−4はエアシリンダ、 12は内側ノズル、 14.15は外側ノズル。 18.19は端面側外側ノズル、 28はX方向移動用エアシリンダ、 29.30はY方向移動用エアシリンダ、31は圧縮空
気源、 32〜34は制御弁、 35はIJJIII装置、 36は遠赤外線ヒータ、 37は圧縮窒素ガス源、 38はフィルタ、 40は窒素ガス噴射流、 41〜45はノズルの移動軌跡 を示す。
Mの概略斜視図、 第2図は乾燥動作時の各ノズルのキャリヤに対する動き
を説明する平面図、 第3図は乾燥動作時の内側ノズルのキャリヤに対する動
きを説明する立面図、 第4図は従来例を示す図である。 図において、 3はキャリヤ、 3a、abは内側満面、 3c、3dは長手方向外側面、 3e、3fは端面、 4はつIハ支持用満、 5は底面開口、 10はテーブル、 11−1〜11−4はエアシリンダ、 12は内側ノズル、 14.15は外側ノズル。 18.19は端面側外側ノズル、 28はX方向移動用エアシリンダ、 29.30はY方向移動用エアシリンダ、31は圧縮空
気源、 32〜34は制御弁、 35はIJJIII装置、 36は遠赤外線ヒータ、 37は圧縮窒素ガス源、 38はフィルタ、 40は窒素ガス噴射流、 41〜45はノズルの移動軌跡 を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 洗浄済であり水滴が付着しているキャリヤ(3)が搬
送されてきて所定位置にセットされたときに上記キャリ
ヤの底面開口(5)を通って上記キャリヤの内部に進入
するように配設された内側ノズル(12)と、 上記所定位置にセットされた上記キャリヤの外側面に対
向するように配設された外側ノズル(14、15、18
、19)と、 上記内側ノズル及び外側ノズルを水平方向に繰り返し往
復移動させると共に垂直方向に移動させるノズル移動機
構(28、30、11−_1〜11−_4)とよりなり
、 上記各ノズルより噴射された気体流(40)が上記キャ
リヤ(3)の内側面(3a、3b)及び外側面(3c、
3d、3e、3f)を走査し上記キャリヤに付着してい
る水滴を吹き飛ばして除去する構成の洗浄済キャリヤ乾
燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1067102A JP2686132B2 (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | キャリア乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1067102A JP2686132B2 (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | キャリア乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02246116A true JPH02246116A (ja) | 1990-10-01 |
| JP2686132B2 JP2686132B2 (ja) | 1997-12-08 |
Family
ID=13335191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1067102A Expired - Fee Related JP2686132B2 (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | キャリア乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2686132B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04326545A (ja) * | 1991-04-09 | 1992-11-16 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 汚染除去装置及び方法 |
| US5261431A (en) * | 1991-04-02 | 1993-11-16 | Tokyo Electron Limited | Washing apparatus |
| JP2009088513A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Siltron Inc | ウェハーシッピングボックスの洗浄のためのボックスクリーナー |
| KR101367582B1 (ko) * | 2011-11-14 | 2014-02-26 | 주식회사 엘지실트론 | 박스 클리너 |
| CN113731654A (zh) * | 2021-09-27 | 2021-12-03 | 乐金显示光电科技(中国)有限公司 | 喷嘴组件及清洁干燥装置 |
| CN117568781A (zh) * | 2023-11-28 | 2024-02-20 | 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司 | 一种气体分配盘去水装置及半导体组件生产设备 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101385456B1 (ko) * | 2007-02-12 | 2014-04-21 | 엘지디스플레이 주식회사 | 카세트 세정장치 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60189921A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエ−ハ収納用カセツト乾燥装置 |
| JPS62136336A (ja) * | 1985-12-09 | 1987-06-19 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 洗浄装置 |
| JPS63181795U (ja) * | 1987-05-14 | 1988-11-24 |
-
1989
- 1989-03-17 JP JP1067102A patent/JP2686132B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60189921A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体ウエ−ハ収納用カセツト乾燥装置 |
| JPS62136336A (ja) * | 1985-12-09 | 1987-06-19 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 洗浄装置 |
| JPS63181795U (ja) * | 1987-05-14 | 1988-11-24 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5261431A (en) * | 1991-04-02 | 1993-11-16 | Tokyo Electron Limited | Washing apparatus |
| JPH04326545A (ja) * | 1991-04-09 | 1992-11-16 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 汚染除去装置及び方法 |
| JP2009088513A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Siltron Inc | ウェハーシッピングボックスの洗浄のためのボックスクリーナー |
| KR101367582B1 (ko) * | 2011-11-14 | 2014-02-26 | 주식회사 엘지실트론 | 박스 클리너 |
| CN113731654A (zh) * | 2021-09-27 | 2021-12-03 | 乐金显示光电科技(中国)有限公司 | 喷嘴组件及清洁干燥装置 |
| CN117568781A (zh) * | 2023-11-28 | 2024-02-20 | 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司 | 一种气体分配盘去水装置及半导体组件生产设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2686132B2 (ja) | 1997-12-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101061611B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 및 기판 처리 프로그램 | |
| US4694527A (en) | Mask washing apparatus for production of integrated circuit | |
| US6248177B1 (en) | Method of cleaning a wafer carrier | |
| JP3653198B2 (ja) | 乾燥用ノズルおよびこれを用いた乾燥装置ならびに洗浄装置 | |
| KR101188077B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| KR100877044B1 (ko) | 세정처리장치 | |
| US20020121289A1 (en) | Spray bar | |
| US5806544A (en) | Carbon dioxide jet spray disk cleaning system | |
| TWI823506B (zh) | 一種晶圓清洗乾燥裝置及晶圓清洗乾燥方法 | |
| WO2008013035A1 (fr) | procédé de revêtement et enducteur | |
| JPH02246116A (ja) | キャリア乾燥装置 | |
| KR102351010B1 (ko) | 풉 세정 장치 | |
| JP3837720B2 (ja) | 基板処理方法及び基板処理装置 | |
| JP4488590B2 (ja) | 被加工物の分割方法 | |
| JP4508436B2 (ja) | 塗布方法及び塗布装置 | |
| KR20230085993A (ko) | 기판 처리 장치 및 방법 | |
| KR19980080165A (ko) | 기판처리장치 및 기판반송방법 | |
| JP4855142B2 (ja) | 処理システム,搬送アームのクリーニング方法及び記録媒体 | |
| JPH04343669A (ja) | 微粉体噴射加工処理装置 | |
| KR100864262B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 세정장치 | |
| KR19980069634A (ko) | 반도체 웨이퍼 이송용 로봇 | |
| JPH0699151A (ja) | 半導体装置積載用トレー洗浄装置 | |
| JPH1022204A (ja) | 基板処理装置 | |
| KR101964656B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| JP2996579B2 (ja) | 把持装置の洗浄処理装置と洗浄処理方法及び基板の洗浄処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |