JPH02247185A - 新規安息香酸誘導体及びその製造方法 - Google Patents

新規安息香酸誘導体及びその製造方法

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JPH02247185A
JPH02247185A JP1069883A JP6988389A JPH02247185A JP H02247185 A JPH02247185 A JP H02247185A JP 1069883 A JP1069883 A JP 1069883A JP 6988389 A JP6988389 A JP 6988389A JP H02247185 A JPH02247185 A JP H02247185A
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hydrogen atom
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 童泉上例且里分訪 本発明は医薬として有用な新規な安息香酸誘導体、なら
びにその製造法に関する。
従来例技術 癌治療法は外科的療法と直接或は間接に癌細胞を死滅さ
せる科学療法とに大別することができるが、更に第3の
方法として癌細胞の分化を促し脱癌させる、という興味
深い方法が見出されている。
[(a) Proc、Natl、Acad、Sci、V
SA 772936 (1980)(b) J、Med
、Chem、25 ]−269(1982)、B]、o
od、62709 (1983)(c)細胞工学2 N
o、]−2(1,98:3)(d) THE RECI
NOIDS Vol、1−2.M、B、5porn e
t al ACADEMICPRESS 1984参照
コ これら文献は、レチノイン酸(ビタミンA酸)及びその
関連化合物が腫瘍や皮膚科領域における治療に特徴的な
効果を示すことを報告している。また、ドイツ公開公報
2854354には、P−((E)−2−(5,6,7
,8,−テiヘラヒドロ5.5,8,8−テ1−ラメチ
ルー2−ナフチル)プロペニル)安息香酸が良性又は悪
性の腫瘍の全身治療及び局所治療並びに上記疾患の予防
に使用できることか報告されている。
それら化合物はまた、にきび、乾癩、その他の肥厚する
か又は病理的に変化した角化を伴う皮膚病やアレルギー
や炎症性疾患の全身的又は局所的治療に適している。
更に特開昭61−22046.61−22047.61
−76440には一般式(V)(式中R□ lR2’ 
lR3’ lR4’ l及びR5′は水素原子、低・中
級アルキル基を示し、又それらの隣接する2つのものは
両者が一緒になって5−6員環のシクロアルキル基を形
成することができるが、全部のものが同時に水素原子で
あってならず、R6′は水酸基、低級アルコキシ基、 
N R7’ RB’基(式中R7′ とR8′とは水素
原子又は低級アルキル基を示す。)を、そしてX′は、
−C)I=CI+−、−NHCO−、−CON)I−、
−C0CH=CB−、−N=N−を意味する。)で示さ
れる安息香酸誘導体及びそれら関連化合物が同様に、極
めて強い生理活性を示すことが報告されており、また特
開昭62−215581にも、その関連化合物が報告さ
れている。そしてこれら文献には、ヒト急性前骨髄性白
血病HL−60細胞を用いるそれら化合物の活性測定法
とそれら化合物の活性が記載されている。そうして、R
2rR3′及びR4′ としては特に中程度の大きさを
有するものが有利で、殊にイソプロピル基、ブチル基及
びそれらが−緒になって、5又は6員環状アルキル基で
あるものが良(、R,’及びR8′ としては水素原子
、メチル基が特に有効であり、R6′ は水酸基及びメ
1−キシ基が良いことも説明されている。
lが tしようとするチ11 本発明の課題は、上記公知の化合物の有する万一の副作
用を軽減し、治療領域を拡大する可能性を有する別の化
合物を開発し、こうして技術を豊富化することに有る。
gpを′Lするための二 今、上記課題が、一般式(I) (式中、R1は水素原子、水酸基又は低級アルカノイル
基を表わし、R2は水素原子又は低級アルキル基を表わ
し、Xは基−CON H−、−COO−、−0CO−又
はC0CH=C(OH)−を表わし、nは1又は2を表
わす。)で示される新規な安息香酸誘導体、又はその薬
理学的に許容しうる塩により達成されることが判った。
一般式(I)で示される化合物において、R□で表わさ
れる低級アルカノイル基としては、たとえばアセチル、
プロピオニル、ブチリル基等が挙げられ、R2で表わさ
れる低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、
n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル
、5ec−ブチル、tert−ブチル基等が挙げられる
一般式(I)で示される化合物は塩基と塩を形成するこ
とができ、本発明は一般式(I)の薬理学的に許容しう
る塩、たとえばナトリウム、カリウム、カルシウム等の
金属塩、アンモニウム塩及びメチルアミン、エチルアミ
ン、1〜リメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン
ピコリン、アルギニン、リジンの様な有機塩基との塩を
含む。
本発明の一般式(I)で示される新規な安息香酸誘導体
は以下の方法によって製造される。すなわち、(a)一
般式(I)の基Xが−CONH−を示す化合物は、次の
一般式(II) (式中、R1及びnは前述と同意義を表わす。)で示さ
れる安息香酸誘導体を常法によりその反応性誘導体(酸
ハライド、混合酸無水物等)に変換した後、P−アミノ
安息香酸又はそのエステル誘導体と塩基の存在下あるい
は非存在下、不活性有機溶媒中で縮合させることにより
製造することができる。
本縮合反応において使用される塩基としては、たとえば
ピリジン、ピコリン、ルチジン、N−メチルピペリジン
、N−メチルモルホリン、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等が挙げられ
る。又、使用される不活性有機溶媒としては、反応を阻
害しない限りいかなるものでもよく、たとえは、エーテ
ル、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、クロロホルム、塩化メチレン、ジメ
チルスルホキシド、N、N−ジメチルホルムアミド等が
挙げられ、反応温度は0°Cがら使用される溶媒の還流
温度下において行われる。
(b)一般式(I)の括Xが−C○〇−を示す化合物は
、=8 前記一般式(n)で示される安息香酸誘導体を常法によ
りその反応性誘導体(酸ハライド、混合酸無水物等)に
変換した後、P−ヒ1ヘロキシ安、C1香酸又はそのエ
ステル誘導体と塩基の存在下あるいは非存在下、不活性
有機溶媒中で縮合させることにより製造することができ
る。
本縮合反応において使用される塩基、不活性有機溶媒、
及び反応温度は上ii!(a)の方法に準する。
(c)一般式(I)の基Xが一○CO−を示す化合物は
(式中、R1及びnは前述と同意義を表わす。)で示さ
れるフェノール誘導体を、テレフタル酸又はそのエステ
ル誘導体の反応性誘導体(酸ハライド、混合酸無水物等
)と塩基の存在下あるいは非存在下、不活性有機溶媒中
で縮合させることにより製造することができる。
本縮合反応において使用される塩基、不活性有機溶媒、
及び反応温度は上記(a)の方法に準する。
(d)一般式(■)の基Xが一〇0CR=C(OH)で
R1が2位水酸基である化合物は、次の一般式(IV)
(式中、R2及びnは前述と同意義を表わす。)で示さ
れるテレフタル酸誘導体をアルカリ触媒の存在下、溶媒
中で転位(ベーカー・ペン力タラマン転位)させること
により製造することができる。
本転位反応において使用されるアルカリ触媒としては、
たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリ
ウム、ナトリウムアルコラード、水素化ナトlJ’7ム
等カベ挙げられ、又、使用される溶媒としては、反応を
阻害しない限りいかなるものでもよく、たとえば、メタ
ノール。
エタノール、アセI−ン、ベンゼン、トルエン、ピリジ
ン等が挙げられ、反応温度は0℃から使用される溶媒の
還流温度下において行われる。
以下の様にして得られた化合物は、さらに所望により加
水分解してもよい。本加水分解反応はアルカリ触媒、た
とえは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸す1−
リウム、炭酸カリウムを用いて常法にて行われる。
尚、本発明の方法において出発原料となった前記一般式
(II)及び(1丁■)で示される化合物は一部を除き
新規な化合物であり、その製造法は参考例に記載した。
以上の様にして製造される前記一般式(I)で示される
活性化合物の代表例としては、以下に列記する化合物を
挙げることが出来る。
4−(3−トリメチルシリルフェニルカルボキサミド)
安息香酸 1−(3−1〜リメチルシリルフエニル力ルポキサミド
)安息香酸メチル 4− [3,5−ビス(トリメチルシリル)フェニルカ
ルボキサミ1−]安息香酸 4− [3,5−ビス(トリメチルシリル)フェニルカ
ルボキサミトコ安息香酸メチル 4−(3−1−リメチルシリルフェニル力ルボキシ)安
息香酸メチル 4− [3,5−ビス(1〜リメチルシリル)フェニル
カルボキシ]安息香酸メチル 4−(2−アセチル−4−トリメチルシリルフェノキシ
カルボニル)安息香酸メチル 4−(2−アセチル−5−トリメチルシリルフェノキシ
カルボニル)安息香酸メチル 4−[1−ヒドロキシ−3−(2−ヒ1〜ロキシー4−
ト1] リメチルシリルフェニル)−3−オキソ−1−プロペニ
ル]安息香酸 4−[1−ヒドロキシ−3−(2−ヒドロキシ−4−1
〜リメチルシリルフエニル)−3−オキソ−1−プロペ
ニル]安息香酸メチル 4−[1−ヒドロキシ−3−(2−ヒドロキシ−5−1
〜リメチルシリルフエニル)−3−オキンーエープロペ
ール]安息香酸 4−[1−ヒドロキシ−3−(2−ヒドロキシ−5−1
ヘリメチルシリルフェニル)−3−オキソ−1−プロペ
ニル]安息香酸メチル 本発明の前記一般式(I)で示される化合物は、癌細胞
、殊に白血病細胞の分化を形態的及び機能的に促進させ
ることができ、癌、白血病、T細胞悪性腫及び乾鋳など
角化や炎症を伴う増殖性、免疫性の悪性皮膚病の治療、
リウマチなどの免疫性疾患の治療や臓器移植時の免疫拒
絶反応の抑制に有用である。
本発明の化合物はT細胞白血病、急性骨髄性白血病、神
経芽細胞腫、扁平上皮癌等の癌治療には、全身投与、注
射又は経口投与により、5111g/kg1日より弱い
用量、殊に0.001−1mg/kg/日の用量で使用
され、また乾癖などの皮膚疾患に対しては、単独または
他の薬剤1例えば、アントラリン、局所用コルチコステ
ロイド、選択的UV冶療剤等と組み合わせて、局所的に
は0.1−]、Omg/g/日の軟膏クリーム剤等とし
て使用される。
以下に本発明を参考例及び実施例をもって説明するが、
本発明はこれらの特定の細部に限定されるものではない
参考例1 3.5−ビス(1ヘリメチルシリル)安息香酸高度晒粉
2.0g(14mmo1)、炭酸カリウム1.38g(
]、Ommol)、水酸化カリウム0.40g(7,1
2mmol)の水(40ml)懸濁液を65°Cで30
分間撹拌し、濾過した。濾液を3’、5’−ビス(トリ
メチルシリル)アセトフェノン0.53g(2mmol
)中に加え、撹拌下7.5時間加熱還流した。放冷後、
IN亜硫酸水素すトリウム水溶液3mlを加え、塩素を
潰した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を水、飽和食
塩水で洗浄し、芒硝で乾燥した後、溶媒留去し、残査を
シリカゲルカラム(溶離剤:n−ヘキサン/酢酸エチル
2:1〜1:1)により精製し、白色粉末0.27gを
得た(収率51z)。
m、p、300℃以上 ’IH−NMIIスペク1〜ル δ(CDC1a )p
pm:0、32(1811,s ) 、 7.138 
(ill、 t :J =l 、 1llz) 、8.
24 (211、d:J=1 、 ]、IIz)MS:
 266(M”) 実施例1 4− [3,5−ビス(1〜リメチルシリル)フェニル
カルボキサミトコ安息香酸 a)4−[3,5−ビス(1〜リメチルシリル)フェニ
ルカルボキサミ1〜]安息香酸メチル 3.5−ビス(トリメチルシリル)安息香11(1,0
6%(4nono1)、炭酸カルシウム1.05g、ド
ライベンゼン104m1の混合物に室温撹拌下、塩化チ
オニル0.64m1(8,8mmol)、N。
N−ジメチルホルムアミド0.34m1(4,4mmo
l)を加えた。室温で3時間撹拌した後、炭酸カルシウ
ムを濾別し、濾液を減圧濃縮した。残渣をドライテトラ
ヒドロフラン25m1に溶解し、1〜リエチルアミン1
.23m1(8,8nonol)、 P−アミノ安息香
酸メチル665mg(4,4nuno1.)を加え、室
温で一夜撹拌した。0.5N塩酸で弱酸性とした後、メ
チレンクロライドで抽出した。抽出液を水、飽和食塩水
で洗い、芒硝で乾燥した後、溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルカラム(溶離剤:n−ヘキサン/i!Ji酸エ
チル5:1)で精製し、淡黄色結晶1.34gを得た(
収率84〆)。
m、 p、 191−192°C MSスペクトルm/z:399(M寸)’ II−NM
Rスペクl−ル δ(CDCl2)ppm:  0.3
1(18H,s)、3.90(3H、s) 、 7.7
4 (211,d:J−8,8tlz) 、7.83(
Ill、 t :J−1、1Hz) 、7.96(2H
,d :J4 、1llz) 、 8.04 (2H,
d:J=8.8Hz) 、 8.1.4 (IH,br
−s)b)4− [3,5−ビス(トリメチルシリル)
フェニルカルボキサミトコ安息香酸 4=[3,5−ビス(トリメチルシリル)フェニルカル
ボキサミトコ安息香酸メチル22mg(0,055mm
ol)をエタノール6mlに溶解し、2N水酸化ナトリ
ウム水溶液3mlを加え、室温で一夜撹拌した。0.5
N−塩酸で弱酸性とした後、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後、溶媒を留去した。残漬を酢酸エチル−〇−ヘ
キサンから再結晶し、無色プリズムの標記化合物を14
m[得た(収率661)。
m、 p、 276−280’C(分解)MSスペクト
ルm/z:385(M”)’H−NMRスペク1−ル 
δ(CDCl2)ppm:  0.33(1811,s
)、7.78(2tl、d:J=8.8Hz) 、 7
.84 (111,brs) 、7.94 (211,
d :J=0.9Hz) 、8.14 (2H、d :
 J=8 、8Hz)実施例2 4−[3,5−ビス(1−リメチルシリル)フエニルカ
ルエ5 ボキシ]安息香酸メチル 3.5−ビス(1ヘリメチルシリル)安瘤、香酸665
+nバ(2,5mmol)、炭酸カルシウム670m(
H、ドライベンゼン62.5m]の混合物に室温撹拌下
、塩化チオニル0.4軸1(5,5m1nol)、N、
N−ジメチルホルムアミド0 、21m1(2、75m
mol)を加えた。
室温で3時間撹拌した後、戻酸カルシウムを濾別し、濾
液を減圧濃縮した。残渣をドライテトラヒ1くロフラン
(THF )17.5mlに溶かし、トリエチルアミン
0.77m1(5,5mmol) 、 P−ヒドロキシ
安息香酸メチル418mg(2,75mmol)を加え
、室温で1日撹拌した。0.5N塩酸で弱酸性とした後
、メチレンクロライドで抽出した。抽出液を水、飽和食
塩水で洗浄し、芒硝で乾燥した後、溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラム(溶離剤:n−ヘキサン/酢酸エチ
ルlo:1)で精製し、白色結晶0.93gを得た(収
率93%)。これを、水性メタノールより再結晶して無
色針状晶の標記化合物0゜79gを得た(収率79%)
m、 p、 81−82℃ MSスペクI−ルm/Z:400(8勺、385(M”
−15)”H−NMRスペク1〜ル δ(CDCl2)
ppm:  0.33(188,s)、3.93(31
+、s) 、 7.30 (2H,d :J=8.81
1z) 、 7.91(1)1. t :J=0.9t
lz) 、 8.13(211,d:J=8.811z
) 、8.30(ltl、d:J=0.9Hz)参考例
2 2′−ヒドロキシ−5′−1〜リメチルシリルアセ1〜
フエノン a)2−(5−ブロモ−2−1〜リメチルシリロキシフ
エニル)−2−メチル−1,3−ジオキソレン2−(5
−ブロモ−2−ヒ1くロキシフェニル)−2−メチル−
1,3−ジオキソレン3.11g(12mmol)をT
 HF 24m1に溶解し、水冷撹拌下、トリエチルア
ミン1.84m1(13,2mmo1)、続いて1−リ
メチルシリルクロライド1.68m1(13,2mmo
1.)を滴下した。室温で2時間撹拌した後、濾過し、
濾液を減圧濃縮して、粗成績体4.0gを得た。
b)2′−ヒドロキシ−5r   hリメチルシリルア
セトフェノン マグネシウム321mg(13,2nunol)、ヨウ
化メチル0.07m1、ドライT HF 1.321I
llの混合物を還流するまで加熱し、冷却後、1−ライ
T HF 3゜96m1で希釈した。この混合物に還流
下、上記で得られた2−(5−ブロモ−2−トリメチル
シリロキシフェニル)−2−メチル−1,3−ジオキソ
レン40gのドライT HF (9,6m1.)溶液を
滴下し、さらに2時間加熱還流した。冷却後、1−リメ
チルシリルクロライド1.68m1(13,2mmo1
.)を加え、再び3時間加熱した。放冷接、反応液に水
を加え、エーテル抽出を行なった。
抽出液を水、飽和食塩水で洗い、芒硝で乾燥した後、減
圧濃縮した。残渣にアセ1ヘン721n纏水10.8m
g(600mmoi)、P P T S O,46g(
1,8mmo’J−)を加え、3時Iff力II熱還流
した。
放冷後、減圧濃縮し、残′aをエーテルに溶解した。水
、炭酸水素す1−リウム水溶液、飽和食塩水で洗い、芒
硝て乾燥した後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
l\(溶離剤:n−ヘキサン/酉・酸エチル20:1)
により精製し淡黄色液体1.66gを得た(収率67%
)。
MSスペクトルm/z: 208(M+)、 1.93
(K”−15)’ H−NMRスペク1−ル δ(CO
Cl、、)ppm:  0.28(911,s)、2.
65(311、S) 、 6.96(III、d :J
−7,9l−1z) 、 7.59(iH,dd :J
=7.9. ]、、 81Jz) 、 7゜84(Il
l、d:J=1.8Hz) 、 12.31(IN、s
)実施例3 4−(2−アセチル−4−1〜リメチルシリルフエノキ
シカルボニル)安息香酸メチル 2′−ヒjり゛ロキシー5’−1−リメチルシリルアセ
1−ンエノン832mg(4mmoコ−)をT HF 
20m]に溶解し、水冷撹拌下、トリエチルアミン0.
61m]、(4,1nuno1.)、続いてテレフタル
酸モノメチルエステルクロライl; 874mg(4,
4111mol)を加えた。室温て」1間撹拌した後、
濾過し、濾液を減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え
、水、炭酸水素す1−リウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
した後、芒硝で乾燥した。
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム(溶離剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル5:1)により精製し、白色結晶J
25gを得た(収率85z)。
m、 p、 33.5〜90゜5℃ MSスベク1〜ルm/z: 370(鹸)”+1−NM
Rスペクトル δ(CDCl2)ppm:  0.32
(911,s)、2.55(3H,s) 、 3.97
(311,s) 、 7.22(+、H,d:Jニア、
7Hz) 、 7.73 (LH,dd:J=7゜7、
1.511z) 、7.97 (]、H,d :J=1
.5Hz) 、g、 16 (211、d :J=8.
811z) 、g、 29(2+1.d:J=8.81
1z) 実施例4 4−[1−ヒドロキシ−3−(2−ヒドロキシ−5−ト
リメチルシリルフェニル)−3−オキソ−1−プロペニ
ル]安息香酸 a)4−[1−ヒドロキシ−3−(2−ヒドロキシ−5
トリメチルシリルフエニル)−3−オキソ−1−プロペ
ニル]安息香酸メチル 4−(2−アセチル−4−1〜リメチルシリルフエノキ
シカルボニル)安息香酸メチル740mg(2mmol
) trピリジン14m1に室温撹拌下、粉砕した水酸
化カリウム280mg(5mm。1)を加えた。室温で
一夜撹拌した後、反応液を冷たい20%酢酸水溶液(5
5m1.)中に注いだ。酢酸エチルで抽出し、水、飽和
食塩水で洗浄した後、芒硝て乾燥した。減圧濃縮し、残
渣をシリカゲルカラム(溶離剤:rl−ヘキサン/酢酸
エチル5:1)で精製し、黄色結晶200mgを得た(
収率27″1)。
m、 p、 129.5−13180 MSスペクトルm/z: 370(M”)”+1−N)
IRスペクトル δ(CD’C13)PPm ’0、3
1(9)1. s) 、 3.96 (311、s) 
、 6.88(IN、 s) 、7.00(Ill 、
d:J=7.911z)、 7.61 (III、dd
:J=7.9,1.311z) 、7.85(III、
d:J=1.3+Iz) 、7.97(2H、d:、]
=8.8Hz) 、 8.17(2H,d:+4.8H
z) 、 12.04 (LH,s) 、 15.44
(LH,5) b)4=[i−ヒドロキシ−3−(2−ヒドロキシ−5
1ヘリメチルシリルフエニル)−3−オキソ−1−プロ
ペニル]安息香酸 4−[1−ヒドロキシ−3−(2−ヒドロキシ−5−1
〜リメチルシリルフエニル)−3−オキソ−1−プロベ
ール]安息香酸メチル148mg(0,4mmo1.)
をエタノール20m1に溶解し、室温撹拌下、2N水酸
す1−リウム水溶液2uclを加えた。室温で1−目間
撹拌した後、10%塩酸を加え、pH4とした。酢酸エ
チルで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。減圧濃縮し、残渣をメタノールよ
り再結晶し、黄色針状晶の標記化合物を72mg得た(
収率51z)。
m、 p、 207−209°C MSスペク1〜ル献z: 356(阿り’ II−N)
IRスペク1ヘル δ(CDCl2)ppm: 0.2
6(911,s)、6.84−8゜30(8t+、m) 参考例3 2′−ヒドロキシ−4′−1−リメチルシリルアセトフ
エノン a)2−(4−ブロモ−2−トリメチルシリロキシフェ
ニル)−2−メチル−1,3−ジオキソレン1−(4−
ブロモ−2−ヒドロキシフェニル)−2−メチル−1,
3−ジオキソレン3.11g(12mniol)をT 
HF 24m1にfW INし、水冷撹拌下、1〜リエ
チルアミン1.84m1(13,2mmo1)、続いて
1〜リメチルシリルクロライド1..68m1(13,
2n+mo1.)を滴下した。室温で3時間撹拌した後
、濾過し、濾液を減圧濃縮して、粗成績体4.0gを得
た。
b)2′〜ヒドロキシ−4′−1−リメチルシリルアセ
トフェノン マグネシウム321mH(1,3,2mmo1.)、ヨ
ウ化メチル0.07耐。
ドライT HF 1.32n+]−の混合物を還流する
まで加熱し、冷却後、ドライT FI F 3.96m
1で希釈した。この混合物に還流下、上記で得られた2
−(4−ブロモ−2−1ヘリメチルシリロキシフエニル
)−2−メチル−」、3−ジオキソレン4.0gのドラ
イTI(F (9,6m1.)j容液を滴下し、さらに
2時間加熱還流した。冷却後、1〜リメチルシリルクロ
ライド1.68m1(13,211+l11o1)を加
え、再び2時間加熱した。
冷却後、反応液に水を加え、エーテル抽出を行なった。
抽出液を水、飽和食塩水で洗い、芒硝で乾燥した後、減
圧濃縮した。残渣にアセ1〜ン72m1、水]、0.8
m1.(600mmo]、)、P P T S 0.4
6g(1,8mmol)を加え4時間加熱還流した。放
冷後10%炭酸水素すI〜ツリウム中和し、減圧濃縮し
た。
残渣をエーテルに溶解し、水、炭酸水素す[・リウム水
溶液、飽和食塩水で洗浄した後、芒硝で乾燥した。減圧
濃縮し、残渣をシリカゲルカラム(溶離剤:11−ヘキ
サン/酢酸エチル1.5:1)で精製し、淡黄色液体1
.08EXを得た(収率43z)。
MSスペク1〜ルm/z: 208(M”)、1.93
(M’−1,5)’−H−NMRスペク1−ル δ(C
DC1,)ppm:0、27 (911,s) 、 2
.63 (:llI 、 s) 、 7.03 (il
l、dd:J=7.911z、 1.311z) 、 
7゜14 (II(、d :J4.311z) 、 7
.69 (Ill、d :J=7.911z) 、 1
2.15(III、 s)実施例5 4−(2−アセチル−5−トリメチルシリルフェノキシ
カルボニル)安息香酸メチル 2′−ヒ1〜ロキシー4′−トリメチルシリルアセ1〜
フェノン832mg(4mmol)をT I−(F 2
0m1に溶解し、水冷撹拌下、1へリエチルアミン0.
61m1(4,4+nmol)、続いてテレフタル酸モ
ノメチルエステルクロライドIII74Il1g(4,
4nun○1)を加えた。室温で1日間撹拌した後、濾
過し、濾液を減圧濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え、
水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄した
後、芒硝て乾燥した。
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム(溶離剤:n−ヘ
キサン/酢酸エチル5:1)により精製し、淡黄色粘稠
液体1.40gを得た(収率95%)。
MSスペクトルm/z: 370(M”)1−11−N
MRスペクトル δ(CDCl2)ppm:  0.3
]、(曲、s)、2.54(3It、 s) 、 3.
98 (311,s)、 7.34 (Ill、d:J
=I 、 IHz) 、 7.51 (II(、dd:
J=7゜5.1 、1.1(z) 、 7.84 (]
、+l、 d :J=7.511z) 、 8.16(
2H,d:J:9.0Hz) 、 8.30(2fl、
d:J=9.01lz) 実施例6 4−[1−ヒ1くロキシー3−(2−ヒドロキシ−4−
1−リメチルシリルフェニル)−3−オキソ−1−プロ
ベール]安息香酸 a)4−[1−ヒドロキシ−3−(2−ヒI〜ロキシー
41−リメチルシリルフェニル)−3−オキソ−1−プ
ロペニルコ安、け香酸メチル 4−(2−アセチル−51〜リメチルシリルフエノキシ
カルボニル)安、け香酸メチル740mg(2mmol
)をピリジンI4m1に溶解し、水冷撹拌下、粉砕した
水酸化カリウム280mg(5mmo1.)を加えた。
水冷下1.5時間撹拌した後、反応液を冷たい20%−
酢酸水溶液(55m1.)中に注いだ。酢酸エチルで抽
出し、水、飽和食塩水で洗浄した後、芒硝で中乞燥した
。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム(溶離剤:n−
ヘキサン/酢酸エチル5:1)で精製し、黄色結晶51
0mgを得た(収率69I)。
m、p 、152(54°C MSスペクI〜ルm/z: 370(M”)Jl−NM
Rスベク[・ル δ(CDCl2)ppm:0.29(
911,s)、3.96(3)1.s)、6.89(]
−11,s)、7.06(III、dd:Jニア、9゜
0.911z)、7.17(11+、d:J=0.91
1z)、7゜73(Ill、d:J=7.911z)、
7.97(211,d:J=8.811z) 、 8.
15(211,d :、]=8.811z) 、 I 
] 、91 (Ill、s) 、 15.41(]、I
+、s) b)4−[1−ヒ1−ロキシー3−(2−ヒ1〜ロキシ
ー4トリメチルシリルフェニル)−3−オキソ−1−プ
ロペニル]安息香酸 4−[1−ヒドロキシ−3−(2−ヒ1くロギシー5−
1−リメチルシリルフェニル)−3−オキソ−1−プロ
ペニル]安息香酸370mg(Imn+o、1.)をエ
タノール60m1に溶解し、室温撹拌下、2N水酸すト
リウム水溶液5mlを加えた。
室温で1夜撹拌した後、10%塩酸を加え、PH8とす
る。
減圧濃縮し残渣に水を加え、10%塩酸でP旧とする。
析出結晶を濾取し、N、N−ジメチルホルムアミド、エ
タノールより再結晶し、黄色板状晶の標記化合物を17
5mg得た(収率49z)。
m、 p、 288−291°C(分解)MSスペクト
ルm/z: 356(M”)’ II−NMRスベク1
〜ル δ(T)MSQ−d’)ppIIG O,27(
911,s)、7.00−8.24(8tl、m) 特許出願者  首藤鉱− 代理人    弁理士  砂川五部 手続補正書(自発)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は水素原子、水酸基又は低級アルカノイ
    ル基を表わし、R_2は水素原子又は低級アルキル基を
    表わし、Xは基−CONH−、−COO−、−OCO−
    又は−COH=C(OH)−を表わし、nは1又は2を
    表わす。)で示される安息香酸誘導体、及びその薬理学
    的に許容しうる塩。
  2. (2)a)一般式( I )に於いて基Xが−CONH−
    である化合物については、次の一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1は水素原子、水酸基又は低級アルカノイ
    ル基を表わし、nは1又は2を表わす。) で示される安息香酸誘導体をその反応性誘導体(酸ハラ
    イド、混合酸無水物等)に導き、p−アミノ安息香酸又
    はそのエステル誘導体と縮合させることにより、b)X
    が−COO−である化合物については、上記一般式(I
    I)で示される安息香酸誘導体をその反性誘導体(酸ハ
    ライド、混合酸無水物等)に導き、p−ヒドロキシ安息
    香酸又はそのエステル誘導体と縮合させることにより、 c)Xが−OCO−である化合物については、次の一般
    式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_1は水素原子、水酸基又は低級アルカノイ
    ル基を表わし、nは1又は2を表わす。) で示されるフェノール誘導体を、テレフタル酸又はその
    エステル誘導体の反応性誘導体(酸ハライド、混合酸無
    水物等)と縮合させることにより、 d)Xが−COCH=C(OH)−でR_1が2位水酸
    基である化合物については、次の一般式(IV)▲数式、
    化学式、表等があります▼(IV) (式中、R_2は水素原子又は低級アルキル基を表わし
    、nは1又は2を表わす。) で示されるテレフタル酸誘導体をアルカリ触媒の存在下
    転位させることにより、製造し、その様にして得られた
    化合物を所望により加水分解することを特徴とする一般
    式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は水素原子、水酸基又は低級アルカノイ
    ル基を表わし、R_2は水素原子又は低級アルキル基を
    表わし、Xは−CONH−、−COO−、−OCO−又
    は−COCH=C(OH)−を表わし、nは1又は2を
    表わす。) で示される安息香酸誘導体の製造方法。
  3. (3)一般式( I )の安息香酸誘導体、あるいはその
    薬理学的に許容しうる塩を有効成分として含有すること
    を特徴とする癌細胞殊に白血病細胞の分化誘導剤。
  4. (4)一般式( I )の安息香酸誘導体、あるいはその
    薬理学的に許容しうる塩を有効成分として含有すること
    を特徴とする乾癬治療剤
  5. (5)一般式( I )の安息香酸誘導体、あるいはその
    薬理学的に許容しうる塩を有効成分として含有すること
    を特徴とする免疫性及び炎症性疾患の治療剤。
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