JPH02247539A - 溶融金属上のスラグ厚測定方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は溶融金属上のスラグ厚の測定に関する。

〔従来の技術〕

例えば溶鋼中成分の分析のために溶鋼中に測定用プロー
ブを浸漬する場合、スラグ下の溶鋼表面より所要深さま
でプローブを浸漬する必要があり、溶鋼表面の把握のた
めに、スラグ厚の測定又はスラグ下の溶鋼表面位置検出
が必要である。また製鉄プロセスにおいて溶融スラグを
除去する場合。

溶融スラグの量（厚み）の測定又は検出が必要である。

一方、連続鋳造においては、モールド内溶鋼上にパウダ
を供給するが、パウダの投入管理のために、溶鋼上スラ
グ（溶融パウダ）の測定又は検出が必要である。

従来のスラグ深さ測定では、下端が開口したガス噴出ノ
ズルを鉛直下方向に降下させてスラグを経て溶鋼中に浸
漬するが、ガス噴射ノズルの下端開口がスラグに入ると
きのガス噴出の背圧の上昇からスラグ上面の位置を検出
し、かつ溶鋼に入るときのガス噴出の背圧の更なる上昇
から溶鋼面の位置を検出している（例えば実公昭６３−
４７４１３号公報）。あるいは、電極対を降下させて電
極間の抵抗値を測定して、抵抗値がスラグ対応値になっ
たときにスラグ上面到達を判定しかつ抵抗値が溶鋼対応
値になったときに溶鋼上面到達を判定している。また、
測温素子を降下させて、降下中に温度変化を測定してス
ラグ下の溶鋼上面を判定する（実公昭６３−４７４１３
号公報）。

〔発明が解決しようとする課題〕

背圧による測定装置（実公昭６３−４７４１３号公報）
は、測定のためのガス噴出そのものがスラグ上面および
溶鋼面を乱して外乱の要因となるために、測定精度が低
いと共に、設定圧力でガス噴出させるための精度の良い
圧力調整機構が付帯設備として必要となり全体構造が複
雑化し、製作コストが高価となる欠点があった。又、電
極対による測定装置では、電極の溶損が激しいために電
極の交換が頻繁に必要となり、メインテナンス面で不利
であると共に交換部品の費用がかかる欠点がある。

測温素子による測定装置！（実公昭６３−４７４１３号
公報）では、測温素子までの電気リードの配線が複雑に
なり、全体構造が複雑化し、１１作コストが高価となる
とか、測温素子部の溶損が激しいとかの問題がある。

本発明は背圧によるスラグ厚測定の改良に関し。

上述のような、測定のためのガス噴出がスラグ上面など
を乱す問題を改善し、槽室精度を向上することを目的と
する。

〔課題を解決するための手段〕

本発明では、水平面に対して平行及至上向き垂直までの
角度範囲内の角度で形成されたガス噴射口を有する耐火
物製のガス吹込み管にガスを供給して該ガス噴射口より
ガスを噴射しつつ、ガス吹込み管を溶融金属の上方から
溶融金属に向けて降下させガス吹込み管のガス圧の上昇
変化率を検出し、該上昇変化率が第１設定値になってか
ら、第１設定値より大きい第２設定値になるまでの、前
記ガス吹込み管の降下量をスラグ厚として得る。

〔作用〕

ガス噴射口が、水平面に対して平行及至上向き垂直まで
の角度範囲内の角度で形成されているので、ガス噴射口
がスラグおよび溶鋼に進入するとき、噴射ガスがスラグ
又は溶鋼を下方向に押す力が小さいので、スラグ上面又
は溶鋼上面の降下が小さく、更にスラグ面あるいは溶鋼
面の乱しが小さいので、その分測定が正確になる。

本発明の好ましい実施例では、溶鋼上面より所定深さに
プローブを浸漬する用途において上述のようにスラグを
測定して溶鋼面を確定し、この溶鋼面から所定深さまで
プローブを降下させる。

本発明の他の目的および特徴は１図面を参照した以下の
実施例の説明より明らかになろう。

〔実施例〕

第１図に本発明を一態様で実施する、測定機構の主要部
を示し、第２図に、それに結合されたガス供給系および
測定電気回路の構成を示す、なおこの実施例は、特願昭
５６−２０１１５４号に提示した如き、溶鋼より溶鋼微
粒子を生成してこれを不活性ガスと共に発光分光分析装
置に送って溶鋼微粒子の成分を分光分析する溶鋼中成分
測定装置に用いられるものであり、溶鋼微粒子の生成に
用いられる。

プローブ基体１には、耐火物筒体２が固着されており、
この筒体２の内部に、不活性ガス吹込管３の下端に固着
された耐火物製の吹込み管４がある。この吹込み管４の
下端には、水平方向に延びる不活性ガス噴射口５が開け
られており、バイブ３に供給された不活性ガスがこの噴
射口５から水平方向に噴射される。なお、この噴射口５
の角度は、水平方向から上向き直重方向の範囲内の他の
角度にしてもよい。

プローブ基体１を溶鋼微粒子収集管６が貫通しており、
この収集管６は１図示しない発光分光分析装置に、耐火
物筒体２に吹込まれた不活性ガスを、筒体２内に生成さ
れた溶鋼微粒子と共に、送り込む。

プローブ基体１は、支持筒７で支持されており、この支
持筒７は昇降装置のアーム８で昇降自在に支持されてい
る。支持筒７の下端にワイヤ９の一端が固着されており
、このワイヤ９が、アーム８に軸受けを介して支持され
たプーリ１０に張架されて、ワイヤ巻取ドラム１１に巻
回されている。

ワイヤ巻取ドラム１１は、アーム８に軸受けを介して支
持されている。

ワイヤ９の下端部には、スイッチストライカ１５が固着
されており、アーム８には、このストライカ１５で開か
ら閉に切換えられる上リミットスイッチ１６が装着され
ている。

プーリ１０の回転軸はプーリ１０と一体であってプーリ
１０と共に回転する。この回転軸は、アーム８の軸受け
を貫通しており、この回転軸に、該回転軸の所定微小角
度の回転毎に１個の電気パルスを発生するロータリエン
コーダ１４が結合されている。

ワイヤ巻取ドラム１１に一体に固着された回転軸には、
減速機１２の出力軸が結合されており。

この減速機１２の入力軸に電気モータ１３の回転軸が結
合されている。

電気モータ１３が正回転付勢されると、ワイヤ巻取ドラ
ム１１が時計方向に回転してワイヤ９が巻戻され、これ
につれて支持筒７が降下する。電気モータ１３が逆回転
付勢されると、ワイヤ巻取ドラム１１が反時計方向に回
転してワイヤ９が巻取られ、これにつれて支持筒７が上
昇する。このように支持筒７が降下又は上昇していると
き、ロータリエンコーダ１４が、ワイヤ９の１璽菖の降
下又は上昇につき１パルスの電気パルスを発生する。

第２図を参照すると、支持筒７を降下させて噴射口５を
溶鋼表面から所定深さに位置決めするときには、パイプ
３には、逆止弁２２．可調整絞り弁２１．電磁流量１ｉ
１５１節弁２０．電磁切換弁１９および流量調節弁１８
を通して不活性ガスボンベ１７から１００ｍ　Ｑ　／ｗ
ｉｎ程度の流量で不活性ガスが供給され、噴射口５を溶
鋼上面から所定深さに設定した後溶鋼微粒子を生成する
ときには、逆止弁２５、フロート式の体積流量計２４．
流量調節弁２３、電磁切換弁１９および流量調節弁１８
を通して、不活性ガスボンベ１７から１５　Ｑ　／ｍｉ
ｎ程度の流量で不活性ガスが供給される。

マイクロプロセッサ（以下ＣＰＵと称する）２７には、
キーインターフェイス２８．デイスプレィコントローラ
３０．センサインターフェイス３２゜３５、デジタルデ
ータで指定された値の電流を電磁流量調節弁２０に通電
するソレノイドドライバ３３、電磁切換弁１８にオン／
オフ通電するソレノイドドライバ３４．センサインター
フェイス３５、モータドライバ３６およびランプドライ
バ４１が接続されており、ＣＰＵ２７は、キースイッチ
２９の操作に応答して所定の制御動作および信号処理動
作を行なう。

第３ａ図、第３ｂ図および第３ｃ図に、ＣＰＵ２７の制
御動作を示す、それ自身に電源が投入される（ステップ
１：以下カッコ内ではステップという語を省略する）と
ＣＰＵ２７は、出力ボートに待機時の出力信号を設定し
、内部レジスタ、フラグ、カウンタ等をクリアして、降
下量制御限値レジスタＤＳＬ、第１変化率設定値レジス
タＦＤＳ、第２変化率設定値ＳＤＳ、浸漬深さ設定値レ
ジスタＳＤＰに、予めプログラム上設定されている標準
値を書込む（２）、そしてキースイッチ２９の操作を待
ち、テンキー人力があるとキーイン入力の読込みと、レ
ジスタへの書込みを行なう。

すなわち、第１回のキー＊の押下の次にテンキー人力が
あり、第２回のキー＊の入力があるとその間のテンキー
人力データを降下量制限値レジスタＤＳＬに更新書込み
し５次にテンキー人力があって第３回のキー＊の入力が
あると該テンキー人力を第１変化率設定値レジスタＦＤ
Ｓに更新書込みし、次にテンキー人力があって第４回の
キー＊の入力があると該テンキー人力を第２変化率設定
値レジスタＳＤＳに更新書込みし１次にテンキー人力が
あって第５回のキー＊の入力があると該テンキー人力を
浸漬深さレジスタＳＤＰに更新書込みして、キー＊の入
力回数レジスタをクリアする（３〜５）。

キーイン読取（３）でスタートキーＳＴＡのオンを読取
ると（３，４，６）、上リミットスイッチ１６が閉（支
持筒７が上待避位置にある）かをチエツクして（７）。

閉でないときには、モータ１３を逆回転付勢して（８）
支持筒７を上昇駆動し、かつ割込処理を許可して（９）
、スイッチ１６が閉になるとそこでモータ１３を停止す
る（１０，１１）。なお、モータ１３を逆回転付勢して
いる間、キースイッチ２９の操作があると、モータ１３
を停止してキーイン読取（３）に戻る（１０，１２，１
３）。

スイッチ１６が閉であると、あるいは閉になってモータ
１３の逆回転付勢を停止すると、電磁切換弁１９に通電
して、切換弁１９を１８−２０接続としく１４）、圧力
設定（１５）を行なう。この圧力設定（１５）では、圧
力計２６の検出圧をデジタル変換して読込み、それが設
定範囲内にあるか否かをチエツクして、設定範囲より下
側にあるときには電磁流量調節弁２０への通電電流値を
１ステップ高くし、上側にあるときには１ステップ低く
シ。

再度圧力計２６の検出圧を読込む、検出圧が設定範囲内
になるまでこれを繰返す。

圧力計２６の検出圧が設定範囲内に入ると、モータ１３
を正回転付勢して支持筒７を下降駆動しく１６）、割込
処理を許可して（１７）、上リミットスイッチ１６が閉
から開になるのを待ち、待っている間、降下量レジスタ
ＤＳＲの内容ＤＳＲ（支持筒７の降下量）が降下量制限
値レジスタＤＳＬの内容ＤＳＬ（降下量限界値）以上に
なったかをチエツクする（１８．１９）。ＤＳＲがＤＳ
Ｌ以上になる（スイッチ１６が異常）と、ステップ８に
進む。

さて上リミットスイッチ１６が閉から開に切換わると、
これを支持筒７の降下量測定基点としているので、ここ
で降下量レジスタＤＳＲをクリア（初期化：内容データ
を零を示すものとする）。

ここでＣＰＵ２７の割込処理の概要を説明する。

ロータリエンコーダ１４が支持筒７の１ｍ１１１の移動
（降下又は上昇）毎に１パルスを発生しこれがＣＰＵ２
７の割込ボートＩＮＴに与えられ、割込みが許可されて
いるときにこのパルスが割込ポートＩＮＴに到来する毎
に、ＣＰＵ２７は第３ｃ図に示す割込処理（６０）に進
み、そこで、モータ１３が正回転付勢（支持筒７が降下
）しているときには降下量レジスタＤＳＲを１インクレ
メント（その時の内容に１を加えた値を示すものに更新
）し、モータ１３が逆回転付勢（支持筒７が上昇）して
いるときには降下量レジスタＤＳＲを１デクレメント（
その時の内容より１を減算したものに更新）する。

したがって、モータ１３を正転付勢して（１６）割込を
許可しく１７）、上リミットスイッチ１６が閉から開に
なったときに降下量レジスタＤＳＲをクリアする（１９
）と、以後、降下量レジスタＤＳＲの内容ＤＳＲは、ス
トライカ１５が上リミットスイッチ１６から離れるとき
の、ガス噴射口５の位置（上基点）からの、ガス噴射口
５の降下量（ｍｓ）を示すものとなる。

再度メインルーチン（第３ａ図）に戻って説明を続ける
と、降下量レジスタＤＳＲをクリアする（１９）とＣＰ
Ｕ２７は、ｄしの時間経過後にタイムオーバするタイマ
ｄｔをスタートして（２０）、圧力計２６の検出圧Ｐｓ
を読込み（２１）、その変化率ｄＰｓを算出する（２２
）。すなわち、前回の検出圧読込み値を今回の読込み値
より減算してこれを変化率として得て、今回の読込み値
を、前回の検出圧レジスタに更新書込みする。そして今
回の検出圧Ｐｓをデイスプレィ３１ａに表示しく２３）
、今回の変化率をデイスプレィ３１ｂに表示する（２４
）。

第３ｂ図を参照すると、ＣＰＵ２７は次に、変化率ｄＰ
ｓを、第１変化率設定値ＦＤＳおよび第２変化率ＳＤＳ
と比較する（２５．３２）。ここで第４図を参照する。

ガス噴射口５を溶鋼中に降下させるとき、ガス噴射口５
の背圧すなわち圧力計２６の検出圧は第４図に示すよう
な変化を示す。第１変化率設定値ＦＤＳは、圧力変化率
ｄＰｓが、ガス噴射口５がスラグ層又は溶鋼中にあると
きの変化率であるかを判定するためのものであり、第２
変化率設定値ＳＤＳは溶鋼中にあるときの変化率である
かを判定するためのものである。

ＣＰＵ２７は、算出した変化率ｄＰｓがＦＤＳ未満のと
きには、゛スラグ浸漬表示ランプ３８を消灯しく３０）
、スラグ浸漬フラグＳＦをクリアする（３１）。ｄＰｓ
がＦＤＳ以上になると、スラグ浸漬表示ランプ３８を点
灯しく２６）、スラグ浸漬フラグＳＦに１　（スラグ浸
漬中）を書込んで（２ｇ）、スラグ上面位置レジスタＳ
ＤＲに、その時の降下量レジスタＤＳＲの内容を書込む
（２９）。

算出した変化率ｄＰｓがＳＤＳ未満のときには、溶鋼浸
漬表示ランプ３９を消灯しく３３）、溶鋼浸漬フラグＩ
Ｆをクリアする（３１）。ｄＰｓがＳＤＳ以上になると
、溶鋼浸漬表示ランプ３９を点灯しく３８）、溶鋼浸漬
フラグＩＦに１　（溶鋼浸漬中）を書込んで（４０）、
溶鋼上面位置レジスタＳＳＲに、その時の降下量レジス
タＤＳＲの内容を書込み（４１）、　５ＳＲ−３ＤＲ（
スラグ厚）をデイスプレィ３１ｅに表示しく４２）、Ｄ
ＳＲ−３ＳＲ（溶鋼上面からのガス噴射口５の浸漬深さ
）をデイスプレィ４３に表示する（４３）。ガス噴射口
５が溶鋼中に浸漬された後は、溶鋼中の浸漬深さＤＳＲ
−ＳＳＲが設定深さＳＤＰ　（浸漬深さ設定値レジスタ
ＳＤＰの内容）に達したかをチエツクして（４４）、達
するとモータ１３を停止する（ガス噴射口５の降下停止
）なお、このようにガス噴射口５を設定深さＳＤＰに降
下させる間、タイマｄｔがタイムオーバするとステップ
２０に戻って再度タイマｄｔをスタートして圧力Ｐｓの
読込みを行ない（３５−２０）、変化率ｄＰｓを算出す
る（２２）動作を繰返すので、圧力計２６の検出圧Ｐｓ
がｄｔ同周期読込まれ、かつ圧力変化率ｄＰｇがｄｔ同
周期更新演算される。

また、このように検出圧を繰返し読込む間に、キースイ
ッチ２９により入力があると（３６）、モータ１３を停
止して（３７）、キー人力対応の処理を実行する（４−
５又は４−６−５０）。

さて、ガス噴射口５の溶鋼中浸漬深さが設定値ＳＤＰに
なってモータ１３を停止する（４４−４５）と。

ＣＰＵ２７は、レディランプ４０を点灯して（４６）　
。

電磁切換弁１９の通電を断って切換弁１９を１８−２３
接続として（４７）、キー２９の入力を待つ。

この状態では、ガス噴射口５が溶鋼上面からＳＤＰの深
さにあって、ガス噴射口５から溶鋼微粒子生成用の流量
で不活性ガスが溶鋼中に吹出されており、不活性ガスと
生成微粒子が収集管６を通って発光分光分析装置（図示
せず）に導入され、分光分析装置が溶鋼微粒子の成分を
分析する。

オペレータは、この測定を終了するときにはキースイッ
チ２９のストップキーＳＴＰを押す、ガス噴射口５の深
さを更に深くするときにはダウンキーＭｄを押し、残く
するときにはアップキーＭｕを押す。

ストップキーＳＴＰが押されるとＣＰＵ２７は、モータ
１３を逆回転付勢して（４９）、ランプ３８〜４０を消
灯しくＳＯ）　、電磁切換弁１９に通電して切換弁１９
を１８−２０接続として（５１）、キーイン読取（３）
に進む。

ダウンキーＭｄが押されるとＣＰＵ２７は、それが押さ
れている間、モータ１３を正回転付勢する（５２．５３
）、アップキーＭｕが押されるとそれが押されている間
モータ１３を逆回転付勢する（５５゜５６）。

再度第３ｃ図を参照して割込処理の内容を更に説明する
。

ロータリエンコーダ１４が１パルスを発生する毎に第３
ｃ図の割込処理に進んで、モータ１３の正回転付勢中で
は、降下量レジスタＤＳＲの内容を１インクレメントし
て、更新値をデイスプレィ３１ｄに表示しく６１〜６３
）、降下量レジスタＤＳＲの内容ＤＳＲが設定制限値Ｄ
ＳＬ以上かをチエツクして（６４）、制限値ＤＳＬ以上
であるとモータ１３を停止する（６５）、設定制限値Ｄ
ＳＬになっていないときには、フラグレジスタＩＦの内
容をチエツクして（６６）、それが０（溶鋼浸漬中でな
い）とメインルーチンに戻る。フラグレジスタＩＦの内
容が１　（溶鋼浸漬中）であるときには、降下量レジス
タＤＳＲの内容ＤＳＲから、溶鋼上面位置レジスタＳＳ
Ｒの内容を減算して、得た値を溶鋼中浸漬深さデイスプ
レィレジスタＤＩＲに書込み（６７）、浸漬深さＤＩＲ
をデイスプレィ３１ｃに表示する（６ｇ）、そして圧力
計２６の検出圧Ｐｓを読込んで（６９）、検出圧Ｐｓを
デイスプレィ３１ａに表示して（７０）、メインルーチ
ンに戻る。以上により、モータ１３が正回転付勢されて
支持筒７が降下しておりかつガス噴射口５が溶鋼中に浸
漬されているとき（ＩＦ＝１）には、ロータリエンコー
ダ１４が１パルスを発する毎に、デイスプレィ３１ｄの
降下量表示、デイスプレィ３１ｃの溶鋼中浸漬深さ表示
およびデイスプレィ３１ａの圧力表示が更新される。

モータ１３の逆回転付勢中では、降下量レジスタＤＳＲ
の内容を１デクレメントして、更新値をデイスプレィ３
１ｄに表示しく６１，７１．７２）、上リミットスイッ
チ１６が閉になったかをチエツクして（７３）、閉にな
ったときにはモータ１３を停止する（７４）、閉になっ
ていないと癒には、フラグレジスタＩＦの内容をチエツ
クして（７５）、それが１　（溶鋼浸漬中）であると、
降下量レジスタＤＳＲの内容ＤＳＲから、溶鋼上面位置
レジスタＳＳＲの内容を減算して、得た値を溶鋼中浸漬
深さデイスプレィレジスタＤＩＲに書込み（７６）、Ｄ
ＩＲがＯ以下かをチエツクして（７７）、　Ｏ以下であ
るとＤＩＲを零に書替えて、レジスタＩＦをクリアしく
７９）、表示灯３９．４０を消灯しく８０．８１）、浸
漬深さＤＩＲをデイスプレィ３１ｃに表示する（６ｇ）
、そして圧力計２６の検出圧Ｐｓを読込んで（６９）、
検出圧Ｐｓをデイスプレィ３１ａに表示して（７０）、
メインルーチンに戻る６以上により、モータ１３が逆回
転付勢されて支持筒７が上昇しておりかつガス噴射口５
が溶鋼中に浸漬されているとき（ＩＦ＝１）には、ロー
タリエンコーダ１４が１パルスを発する毎に、デイスプ
レィ３１ｄの降下量表示、デイスプレィ３１ｃの溶鋼中
浸漬深さ表示およびデイスプレィ３１ａの圧力表示が更
新され、ガス噴射口５が溶鋼表面に上がったときに１表
示灯３９゜４０が消灯されてフラグレジスタＩＦの内容
がＯとなる。

モータ１３を逆回転付勢している状態でＩＦがＯとなっ
た後は１割込処理（６０）では、ステップ６１−７１−
７２−７３−７５−８２と進んで、フラグレジスタＳＦ
の内容をチエツクして、それが１　（ガス噴射口５がス
ラグ中にある）であるときには、降下量レジスタＤＳＲ
の内容ＤＳＲが、スラグ上面位置レジスタＳＤＲの内容
ＳＤＲ未満になったかをチエツクして、未満になる（ガ
ス噴射口５がスラグ層より上に上がる）と、スラグ上面
位置レジスタＳＤＲをクリアして（８４）、フラグレジ
スタＳＦをクリアしく８６）、スラグ浸漬ランプ３８を
消灯して（８７）、レジスタＳＤＲの内容（零）をデイ
スプレィ３１ｅに表示して（８８）メインルーチンに戻
る。

その後は、降下量レジスタＤＳＲの内容を更新してデイ
スプレィ３１ｄの表示を更新しく７１−７２−７３−７
５−８２−リターン）、上リミットスイッチ１６が閉に
なると、そこでモータ１３を停止する（７３−７４）。

以上に説明したＣＰＵ２７の動作により、オペレータが
、キー＊およびテンキーで、降下量制限値ＤＳＬ、第１
変化率設定値ＦＤＳ、第２変化率設定値ＳＤＳおよび溶
鋼中浸漬深さＳＤＰを入力し、そしてスタートキーＳＴ
Ｐを押すと、上リミットスイッチ１６が開のときには支
持筒７が上駆動されてスイッチ１６が閉になったときに
そこで支持筒７の上駆動が停止する。そして、上リミッ
トスイッチ１６が閉であると、又は閉になると、電磁切
換弁１９が１８−２０接続となって、圧力計２６の検出
圧が設定範囲に入るように電磁流量調節弁２０の開度が
調節される。この調節が終わると、支持筒７が降下駆動
されて、上リミットスイッチ１６が閉から開になったと
きのガス噴射口５の位置（上基点位Ｗ）を零（降下量レ
ジスタＤＳＲ＝０）として、降下量のカウントが開始さ
れ、降下量がデイスプレィ３１ｄに表示される。またｄ
ｔ同周期圧力計２６の検出値Ｐｓが読込まれて圧力変化
率ｄＰｓが算出されて、検出値Ｐｓはデイスプレィ３１
ａに、変化率はデイスプレィ３１ｂに表示される。

この降下駆動によりガス噴射口５がスラグ上面位置に達
して圧力計２６の検出値が第１変化率設定値ＦＤＳ以上
の変化を示すと、そのときの降下量ＤＳＲがスラグ上面
位置レジスタＳＤＲに書込まれ、表示灯３８が点灯する
。その後圧力計２６の検出値が第２変化率設定値ＳＤＳ
以上の変化を示すと、そのときの降下量ＤＳＲが溶鋼上
面位置レジスタＳＳＲに書込まれ、表示灯３９が点灯す
ると共に、スラグの厚み５ＳＲ−８ＤＲがデイスプレィ
３１ｅに表示され、更にガス噴射口５の溶鋼中浸漬深さ
ＤＳＲ−３ＳＲがデイスプレィ３１ｃに表示される。

ガス噴射口５の溶鋼中浸漬深さＤＳＲ−８ＳＲが浸漬深
さ設定値ＳＤＰになると、支持筒７の降下駆動が停止し
、電磁切換弁１９が、１８−２３接続に切換わる。この
状態が溶鋼成分分析のための設定であり、ＣＰＵ２７は
、この状態で、キースイッチ２９の入力待ちとなる。オ
ペレータはガス噴射口５の深さを調整しようとするとき
には、アップキーＭｕ又はダウンキーＭｄを押す、これ
らのキーが押されている間、ガス噴射口５が上昇又は降
下し、これによってデイスプレィ３１の表示値が変化す
る（第３Ｃ図）。

溶鋼中成分の分析を終了して、オペレータがストップキ
ーＳＴＰを押すと、支持筒７が上昇し、ランプ３８〜４
０が消灯して、電磁切換弁１９は１８−２０接続に切換
わる（４８〜５１）、上リミットスイッチ１６が閉にな
ると、支持筒７が停止する（６１，７１，７２，７３．
７４）。

なお、上記実施例では、ガス噴射口５の降下量を計測し
てスラグ上面位置、スラグ厚、溶鋼上面位置および溶鋼
中浸漬深さを算出するようにしているが、圧力計２６の
検出圧に基づいてスラグ厚および溶鋼浸漬深さを算出し
てもよい、この場合には、例えば検出圧力の変化率ｄＰ
ｓが第１変化率設定値ＦＤＳになったときの検出圧Ｐｓ
ｌと第２変化率設定値ＳＤＳになったときの検出圧Ｐｓ
２の差ｐｓ２−Ｐｓ１を、スラグ比重（約３）に基づい
て深さ（厚み）値に換算し、また、溶鋼浸漬中の検出圧
Ｐｓｓ−Ｐｓ２を、溶鋼比重（７，８６）に基づいて深
さ（溶鋼浸漬深さ）値に換算する。上記測定条件でスラ
グ厚みを従来のガスを下方に噴出させる方法とを比較し
て実験した結果１本発明では５０．４８゜５０■、従来
法では４０，３２，４５閣であった。これらの結果から
も、ガスを水平に吹き出させる本発明はスラグ厚を正確
に精度よく測定できることを証明している。

〔発明の効果〕

以上の通り本発明では、ガス噴射口（５）を、水平面に
対して平行及至上向き垂直までの角度範囲内の角度で形
成されているので、ガス噴射口（５）がスラグおよび溶
鋼に進入するとき、噴射ガスがスラグ又は溶鋼を下方向
に押す力が小さいので、スラグ上面又は溶鋼上面の降下
が小さく、更にスラグ面あるいは溶鋼面の乱しが小さい
ので、その全測定が正確になる。

【図面の簡単な説明】

第１図は１本発明を一態様で実施する装置構成の機構部
を示す図面であり、耐火物筒体２の支持機構および昇降
機構の概要を示す。 第２図は、第１図に示すパイプ３に不活性ガスを供給す
るガス供給系、昇降機構の電気駆動系および昇降位置表
示系の構成概要を示すブロック図である。 第３ａ図、第３ｂ図および第３Ｃ図は、第２図に示すマ
イクロプロセッサ２７の制御動作を示すフローチャート
である。 第４図は、第２図に示す圧力計２６の検出圧の推移を示
すグラフである。 １ニブロ一ブ基体　　　　　　　２：耐火物筒体３：不
活性ガス吹込管　　　　　４：吹込み管５：ガス噴射口
　　　　　　　　６：収集管７：支持筒　　　　　　　
　　　８：アーム９：ワイヤ　　　　　　　　　　１０
：ブーリ１１：ワイヤ巻取ドラム　　　　　１２：減速
機１３：電気モータ　　　　　　　　　１４：ロータリ
エンコーダ１５ニストライカ　　　　　　　　１６：上
リミットスイッチ１７：不活性ガスボンベ　　　　　１
Ｂ＝流量流量弁１９：電磁切換弁　　　　　　　　２０
：流量調節弁２１：可変絞り弁 ２３：流量調節弁 ２５：逆止弁 ２７：マイクロプロセッサ ２２：逆止弁 ２４：フロート式体積流量計 ２６：圧力計 声４図 璃引出へスラグあ・よメ°瑣シ弾嶋老駅σ（ｍｍ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 水平面に対して平行及至上向き垂直までの（角度）範囲
   内の角度で形成されたガス噴射口を有する耐火物製のガ
   ス吹込み管にガスを供給して該ガス噴射口よりガスを噴
   射しつつ、ガス吹込み管を溶融金属の上方から溶融金属
   に向けて降下させガス吹込み管のガス圧の上昇変化率を
   検出し、該上昇変化率が第１設定値になってから、第１
   設定値より大きい第２設定値になるまでの、前記ガス吹
   込み管の降下量をスラグ厚として得る、溶融金属上のス
   ラグ厚測定方法。