JPH02250304A - 高耐食性磁石 - Google Patents
高耐食性磁石Info
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- JPH02250304A JPH02250304A JP7058289A JP7058289A JPH02250304A JP H02250304 A JPH02250304 A JP H02250304A JP 7058289 A JP7058289 A JP 7058289A JP 7058289 A JP7058289 A JP 7058289A JP H02250304 A JPH02250304 A JP H02250304A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は表面を耐食性にする表面被覆にした稀土類鉄系
磁石に関するものである。
磁石に関するものである。
(発明の概要)・
本発明はNd−Fe系磁石を始めとする稀土類鉄系磁石
の安定した品質を得ることを目的として、磁石表面にプ
ラズマ重合法を利用して、炭素と水素のみからなる被膜
を形成したもので、プラズマ重合法を利用することで、
表面にち密でピンホールの無い硬質の膜を形成し、耐食
性が良好で、長期安定性にすぐれた磁気特性を保つこと
ができるという利点を有する。
の安定した品質を得ることを目的として、磁石表面にプ
ラズマ重合法を利用して、炭素と水素のみからなる被膜
を形成したもので、プラズマ重合法を利用することで、
表面にち密でピンホールの無い硬質の膜を形成し、耐食
性が良好で、長期安定性にすぐれた磁気特性を保つこと
ができるという利点を有する。
(従来の技術)
従来高エネルギー積磁石としては、Sm−C。
系磁石が用いられてきたが、コスト、機械加工性、より
高いエネルギー積といった点で有利な稀土類鉄系磁石が
最近注目され、特に原子比で8〜30%の稀土類元素、
2〜28%のB1および残部Feおよび不可避不純物か
らなる組成が効果的であることが見出されている。
高いエネルギー積といった点で有利な稀土類鉄系磁石が
最近注目され、特に原子比で8〜30%の稀土類元素、
2〜28%のB1および残部Feおよび不可避不純物か
らなる組成が効果的であることが見出されている。
ところが、稀土類鉄系磁石はSm−Co系に比べ、耐食
性という面では劣り、種々の表面処理が検討されている
状況にある。
性という面では劣り、種々の表面処理が検討されている
状況にある。
(発明が解決しようとする問題点)
稀土類鉄系磁石は焼結法および急冷法で作製されている
。この系の磁石は酸化し易いNd。
。この系の磁石は酸化し易いNd。
Feを多く含むので、耐薬品性、特に酸、アルカリに弱
く、湿式めっき等の表面処理では、酸、アルカリ等によ
る前処理或いはめっき工程中に表面が侵されたり、たと
えめっきが出来ても、内部に侵入した薬品の影響により
、内部腐食が発生したり、結晶粒間が侵食されることで
磁気特性が低下する。 急冷法で製造された材料は、焼
結法で製造された材料と比較して、外力による歪や熱に
よる磁気特性の低下が少ない。しかし、急冷粉末はプラ
スチック等でボンドして使われることが多く、磁石表面
の磁石材料およびボンド材料の両方に対し、高い密着強
度を有する被膜材料が要求されている。
く、湿式めっき等の表面処理では、酸、アルカリ等によ
る前処理或いはめっき工程中に表面が侵されたり、たと
えめっきが出来ても、内部に侵入した薬品の影響により
、内部腐食が発生したり、結晶粒間が侵食されることで
磁気特性が低下する。 急冷法で製造された材料は、焼
結法で製造された材料と比較して、外力による歪や熱に
よる磁気特性の低下が少ない。しかし、急冷粉末はプラ
スチック等でボンドして使われることが多く、磁石表面
の磁石材料およびボンド材料の両方に対し、高い密着強
度を有する被膜材料が要求されている。
また、この系の磁石、特にこの系の焼結磁石にプラズマ
重合被膜を設けることは知られているが(特開昭63−
6811)、従来の多元素系被膜では充分な重合度が得
難かった。
重合被膜を設けることは知られているが(特開昭63−
6811)、従来の多元素系被膜では充分な重合度が得
難かった。
たとえばアクリル酸などではプラズマ重合中に活性な酸
素が存在し、プラズマ重合と同時にプラズマエツチング
が起こる。このため保護重合膜の硬度、ち密性が十分で
なく又重合度も低い。そのため十分なガスバリヤ−性が
得られない。また酸素の存在により重合膜にORなどの
親水性の基が導入され、耐食性保護膜として充分に機能
できない。
素が存在し、プラズマ重合と同時にプラズマエツチング
が起こる。このため保護重合膜の硬度、ち密性が十分で
なく又重合度も低い。そのため十分なガスバリヤ−性が
得られない。また酸素の存在により重合膜にORなどの
親水性の基が導入され、耐食性保護膜として充分に機能
できない。
また、保護被覆として稀土類焼結金属磁石の表面に高分
子樹脂膜を形成することも行なわれているが(特開昭6
1−198221号公報、同56−81908号公報、
同60−63901号等)、高分子樹脂膜は透湿性、酸
素透過性が大きく、また稀土類焼結金属磁石との親和性
が低いので、充分な接着を確保することができない、ま
た弗素樹脂のように高温焼付けを要するために磁石の酸
化を招くもの、エポキシ樹脂などのように耐食性で劣る
ものなど、接着性と耐食性の両者を兼ね備えた膜は提供
されていない。
子樹脂膜を形成することも行なわれているが(特開昭6
1−198221号公報、同56−81908号公報、
同60−63901号等)、高分子樹脂膜は透湿性、酸
素透過性が大きく、また稀土類焼結金属磁石との親和性
が低いので、充分な接着を確保することができない、ま
た弗素樹脂のように高温焼付けを要するために磁石の酸
化を招くもの、エポキシ樹脂などのように耐食性で劣る
ものなど、接着性と耐食性の両者を兼ね備えた膜は提供
されていない。
キシレン樹脂のような耐食性の大きい膜を用いることも
提案されているが(気相重合法は米国ユニオン・カーバ
イド社より提案され、市販されている)接着性が極めて
悪い、キシレン樹脂を真空蒸着で成膜することも提案さ
れているが、重合度は低く、耐食性に問題がある(特開
昭55−103714)。
提案されているが(気相重合法は米国ユニオン・カーバ
イド社より提案され、市販されている)接着性が極めて
悪い、キシレン樹脂を真空蒸着で成膜することも提案さ
れているが、重合度は低く、耐食性に問題がある(特開
昭55−103714)。
これらの問題な膜厚の増加で解決することが考えられる
が、4000人といった大きい膜厚を要し成膜に長時間
を要するだけでな(、膜の内部応力のために剥離し易く
なる。
が、4000人といった大きい膜厚を要し成膜に長時間
を要するだけでな(、膜の内部応力のために剥離し易く
なる。
(問題点を解決するための手段)
上記問題点を解決するため、本発明者等は先に稀土類鉄
系磁石表面にプラズマ重合により被膜を形成するように
した(特願昭63−104039号)。
系磁石表面にプラズマ重合により被膜を形成するように
した(特願昭63−104039号)。
すなわち、上記技術ではNd−Fe系磁石を始めとする
稀土類鉄系磁石、一般にR−T−B又はR−T−B−M
(ただしRは稀土類元素、TはFe又はFe%Coを
主体とする遷移金属、MはZ r b N b %M
o 、Hf −T a %Wの少なくとも1種)の組成
を有するものの表面にプラズマ重合法を利用して、実質
的に炭素と水素のみからなる被膜を形成したもので、表
面にち密でピンホールの無い硬質の膜を形成し、耐食性
が良好で、長期安定性にすぐれた磁気特性を保つことが
できるという利点を有する。
稀土類鉄系磁石、一般にR−T−B又はR−T−B−M
(ただしRは稀土類元素、TはFe又はFe%Coを
主体とする遷移金属、MはZ r b N b %M
o 、Hf −T a %Wの少なくとも1種)の組成
を有するものの表面にプラズマ重合法を利用して、実質
的に炭素と水素のみからなる被膜を形成したもので、表
面にち密でピンホールの無い硬質の膜を形成し、耐食性
が良好で、長期安定性にすぐれた磁気特性を保つことが
できるという利点を有する。
しかしながらその後の研究によるとプラズマ重合膜の磁
石に対する密着性にはばらつきがあってこれが耐食性に
影響すること、又密着性の良い膜でも耐食性が充分に得
られないことが分かった。
石に対する密着性にはばらつきがあってこれが耐食性に
影響すること、又密着性の良い膜でも耐食性が充分に得
られないことが分かった。
本発明者はこのような現象のない優れた保護膜を探究し
た結果、炭素−水素系プラズマ重合膜が稀土類鉄系磁石
と接する側で屈折率が大きく、露出表面側で屈折率が小
さくなる様にプラズマ重合膜に屈折率の勾配を付けると
、密着性の点でも、又耐食性の点でも優れた保護膜が得
られることを見出した。上記した先の出願の場合にはこ
の点の考慮が充分でないために保護膜の内外面でバラン
スを欠き、そのため耐食性が充分に達成出来なかった。
た結果、炭素−水素系プラズマ重合膜が稀土類鉄系磁石
と接する側で屈折率が大きく、露出表面側で屈折率が小
さくなる様にプラズマ重合膜に屈折率の勾配を付けると
、密着性の点でも、又耐食性の点でも優れた保護膜が得
られることを見出した。上記した先の出願の場合にはこ
の点の考慮が充分でないために保護膜の内外面でバラン
スを欠き、そのため耐食性が充分に達成出来なかった。
プラズマ重合膜は屈折率が大きくなると密度が高く緻密
になり稀土類鉄合金との密着性が増し、同時に錆の原因
となる水等の分子に対する遮蔽性が大きくなる。しかし
屈折率の大きいプラズマ重合膜は酸水溶液等に対する濡
れが大きくなる。
になり稀土類鉄合金との密着性が増し、同時に錆の原因
となる水等の分子に対する遮蔽性が大きくなる。しかし
屈折率の大きいプラズマ重合膜は酸水溶液等に対する濡
れが大きくなる。
方、プラズマ重合膜の屈折率が小さくなると酸水溶液等
に対する濡れが減少し疎水性が大きくなる。従って、屈
折率の大きいプラズマ重合膜を下層に、屈折率の小さい
プラズマ重合膜を表面層に形成すると、優れた密着性と
共に優れた防錆効果が得られることになり、非常に好都
合となる。
に対する濡れが減少し疎水性が大きくなる。従って、屈
折率の大きいプラズマ重合膜を下層に、屈折率の小さい
プラズマ重合膜を表面層に形成すると、優れた密着性と
共に優れた防錆効果が得られることになり、非常に好都
合となる。
屈折率は連続勾配を付けても良いし、不連続勾配にして
も良い。例えば下層を高屈折率、上層(表面層)を低屈
折率の2N構造にするのがもっとも単純で経済的である
。
も良い。例えば下層を高屈折率、上層(表面層)を低屈
折率の2N構造にするのがもっとも単純で経済的である
。
稀土類鉄系磁石に接する層の屈折率は1.8以上、好ま
しくは1.8〜2.2であり、屈折率がこの範囲よりも
低いと接着性が減じる。露出される表面層の屈折率は1
.5以上、好ましくは1.5〜1.7である。屈折率が
この範囲よりも大きいと疎水性が減じる。
しくは1.8〜2.2であり、屈折率がこの範囲よりも
低いと接着性が減じる。露出される表面層の屈折率は1
.5以上、好ましくは1.5〜1.7である。屈折率が
この範囲よりも大きいと疎水性が減じる。
又プラズマ重合膜が稀土類鉄系磁石に接する下層と、露
出される表面層との2層構造からなる場合には、下層の
厚さは100Å以上、好ましくは100〜2000人で
あり、表面層の厚さは500Å以上、好ましくは500
〜5000人である。各層の厚さが上記の範囲よりも薄
いと効果が減じる。又厚すぎても効果が増大せず製造時
間が長くなる。更に、これらの層の厚さの比率は表面N
/下層の比で2〜50とすることが好ましい。この割合
が小さすぎると密着性が悪く、大きすぎると生産性が悪
い。
出される表面層との2層構造からなる場合には、下層の
厚さは100Å以上、好ましくは100〜2000人で
あり、表面層の厚さは500Å以上、好ましくは500
〜5000人である。各層の厚さが上記の範囲よりも薄
いと効果が減じる。又厚すぎても効果が増大せず製造時
間が長くなる。更に、これらの層の厚さの比率は表面N
/下層の比で2〜50とすることが好ましい。この割合
が小さすぎると密着性が悪く、大きすぎると生産性が悪
い。
本発明により稀土類鉄系磁石に形成されるべきプラズマ
重合膜の屈折率は、プラズマ重合条件、すなわち、炭化
水素モノマーガス供給量、反応圧力、基板温度、印加電
力、印加磁界等を制御することによって制御することが
出来る。本発明により形成される被膜は原子数の比(原
子組成比)H/Cで表わして好ましくは1.5以下であ
ると三次元的に充分架橋したプラズマ重合膜が形成でき
る。この場合、膜厚が0.2μm以下で充分な耐食性が
得られる。このようなプラズマ重合保護膜は炭化水素モ
ノマーガスの量を少なくし、反応圧力を低くし、且つ印
加電力を太き(することにより生成し得る。すなわち、
反応圧力を低く印加電力を大きくすることにより、モノ
マー単位量あたりの分解エネルギーが太き(成って分解
が進み、架橋したプラズマ重合保護膜が形成できる。
重合膜の屈折率は、プラズマ重合条件、すなわち、炭化
水素モノマーガス供給量、反応圧力、基板温度、印加電
力、印加磁界等を制御することによって制御することが
出来る。本発明により形成される被膜は原子数の比(原
子組成比)H/Cで表わして好ましくは1.5以下であ
ると三次元的に充分架橋したプラズマ重合膜が形成でき
る。この場合、膜厚が0.2μm以下で充分な耐食性が
得られる。このようなプラズマ重合保護膜は炭化水素モ
ノマーガスの量を少なくし、反応圧力を低くし、且つ印
加電力を太き(することにより生成し得る。すなわち、
反応圧力を低く印加電力を大きくすることにより、モノ
マー単位量あたりの分解エネルギーが太き(成って分解
が進み、架橋したプラズマ重合保護膜が形成できる。
本発明の実施に適当なエネルギー密度W/(FM) は
10” J/kg以上である(Wはプラズマ投入電力5
7秒、Fは原料ガス流fitkg/秒、Mは原料ガス分
子量)。被膜形成用のガスとしては、メタン、エタン、
プロパン、ブタン、ペンタン、エチレン、プロピレン、
ブテン、ブタジェン、アセチレン、メチルアセチレン、
その他方飽和又は不飽和の低級炭化水素の少なくとも1
種、もしくはこれと水素、不活性ガスとの混合ガスが使
用できる。ただし不可避不純物として入ってくる微量以
上の酸素は用いてはならない。
10” J/kg以上である(Wはプラズマ投入電力5
7秒、Fは原料ガス流fitkg/秒、Mは原料ガス分
子量)。被膜形成用のガスとしては、メタン、エタン、
プロパン、ブタン、ペンタン、エチレン、プロピレン、
ブテン、ブタジェン、アセチレン、メチルアセチレン、
その他方飽和又は不飽和の低級炭化水素の少なくとも1
種、もしくはこれと水素、不活性ガスとの混合ガスが使
用できる。ただし不可避不純物として入ってくる微量以
上の酸素は用いてはならない。
本発明では生成される保護膜は不可避的に導入される不
純物ガスを除いて実質的に炭素と水素のみから成るため
高い耐食性を示すことになる。
純物ガスを除いて実質的に炭素と水素のみから成るため
高い耐食性を示すことになる。
また、予め有機溶剤による超音波洗浄等によりプラズマ
重合膜を形成する面を清浄°化しても良い。
重合膜を形成する面を清浄°化しても良い。
更に、プラズマ重合膜を形成するとき、磁石の温度を上
げてお(ことにより更に効果を上げることができる。
げてお(ことにより更に効果を上げることができる。
必要ならばプラズマ重合膜の形成に続いて合成樹脂膜を
被覆することもできる。合成樹脂膜としては、熱可塑性
、熱硬化性、又は電子線硬化性樹脂膜を使用し得る。こ
のような、樹脂の例は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂
、アルキル置換フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリ
エステル樹脂、弗素樹脂、ビニル変性弗素樹脂、シリコ
ーン樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、アクリル樹脂
、キシレン樹脂、メラミン樹脂等、電子線硬化性樹脂と
しては、不飽和2重結合を2以上有する化合物で変性し
た各種樹脂等がある。この内キシレン樹脂、特にポリp
−キシリレン膜又は塩素化p−キシリレン重合膜はガス
及び水蒸気透過性が極めて低く、不純物の混入が抑制で
き、ピンホールの少ない、均一な膜を成膜できるので好
ましい。しかしこのものはそのままでは接着性が極めて
低いのでプラズマ重合膜と併用する必要がある。このよ
うなキシレン樹脂は米国ユニオン・カーバイド社よりパ
リレンN(ポリp−キシリレン)、パリレンC(ポリモ
ノクロクロロp−キシリレン)、パリレンD(ポリジク
ロロp−キシリレン)等があるがガス透過性が低いので
特にパリレンCが好ましい。ポリp−キシリレン等の膜
は2量体のガスを減圧下に熱分解することにより得られ
る。膜厚としては0.5μm以上、好ましくは1〜20
μmである。
被覆することもできる。合成樹脂膜としては、熱可塑性
、熱硬化性、又は電子線硬化性樹脂膜を使用し得る。こ
のような、樹脂の例は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂
、アルキル置換フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリ
エステル樹脂、弗素樹脂、ビニル変性弗素樹脂、シリコ
ーン樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、アクリル樹脂
、キシレン樹脂、メラミン樹脂等、電子線硬化性樹脂と
しては、不飽和2重結合を2以上有する化合物で変性し
た各種樹脂等がある。この内キシレン樹脂、特にポリp
−キシリレン膜又は塩素化p−キシリレン重合膜はガス
及び水蒸気透過性が極めて低く、不純物の混入が抑制で
き、ピンホールの少ない、均一な膜を成膜できるので好
ましい。しかしこのものはそのままでは接着性が極めて
低いのでプラズマ重合膜と併用する必要がある。このよ
うなキシレン樹脂は米国ユニオン・カーバイド社よりパ
リレンN(ポリp−キシリレン)、パリレンC(ポリモ
ノクロクロロp−キシリレン)、パリレンD(ポリジク
ロロp−キシリレン)等があるがガス透過性が低いので
特にパリレンCが好ましい。ポリp−キシリレン等の膜
は2量体のガスを減圧下に熱分解することにより得られ
る。膜厚としては0.5μm以上、好ましくは1〜20
μmである。
又、好ましくは稀土類鉄系磁石の表面はプラズマ処理を
施すことによりプラズマ重合膜との接着性を増大するこ
とが出来る。プラズマ処理はAr、He%Ne等の希ガ
ス、H*、N2、Co、Co、、H,01NOx%No
2.NH1のガス等を真空室に導入し、プラズマ化しこ
れを稀土類鉄系磁石に接触させることにより行なわれる
。プラズマ処理の条件としては通常次ぎのちのを使用す
る。保護膜の形成に先立って(プラズマ処理を併用する
場合には更にその前)稀土類鉄系磁石の表面の表面を研
磨してJIS規格による表面粗度Raを約1μm以下に
すると密着性は更に向上し、耐食性も良くなる0通常稀
土類鉄系磁石の表面粗度はかなり大きく、JIS規格に
よるRaで表わして2μm以上である。
施すことによりプラズマ重合膜との接着性を増大するこ
とが出来る。プラズマ処理はAr、He%Ne等の希ガ
ス、H*、N2、Co、Co、、H,01NOx%No
2.NH1のガス等を真空室に導入し、プラズマ化しこ
れを稀土類鉄系磁石に接触させることにより行なわれる
。プラズマ処理の条件としては通常次ぎのちのを使用す
る。保護膜の形成に先立って(プラズマ処理を併用する
場合には更にその前)稀土類鉄系磁石の表面の表面を研
磨してJIS規格による表面粗度Raを約1μm以下に
すると密着性は更に向上し、耐食性も良くなる0通常稀
土類鉄系磁石の表面粗度はかなり大きく、JIS規格に
よるRaで表わして2μm以上である。
(作用効果)
プラズマ重合による被膜形成では、モノマーが気相にお
いてポリマー生成中間体を形成し、それが基板上に付着
して基板上で重合膜を生成するプロセス、基板表面ある
いは基板表面に吸着したモノマーおよび2層3量体プラ
ズマにより活性化されて重合するプロセスおよび一度形
成された重合体が再びプラズマにより水素がエツチング
作用をうけて脱離し、架橋するプロセスが複雑にからみ
あっており、本件で示した特定の条件を選択すれば、高
密度に網目構造を有する屈折率の異なる少なくとも2層
よりなる被膜が形成可能で、磁石に対する接着ないし密
着性が良く、しかも表面層が疎水性である、耐食性の良
いプラズマ重合体保護膜かえられる。その表面の接触角
は75°以上が得られる。また気相での被膜形成のため
、微小すきまへの付き回り(ステップカバレージ性)に
もすぐれる性質を有し、これを応用することにより、稀
土類鉄系磁石の耐食性、磁気安定性、機械的強度を向上
させるものである。
いてポリマー生成中間体を形成し、それが基板上に付着
して基板上で重合膜を生成するプロセス、基板表面ある
いは基板表面に吸着したモノマーおよび2層3量体プラ
ズマにより活性化されて重合するプロセスおよび一度形
成された重合体が再びプラズマにより水素がエツチング
作用をうけて脱離し、架橋するプロセスが複雑にからみ
あっており、本件で示した特定の条件を選択すれば、高
密度に網目構造を有する屈折率の異なる少なくとも2層
よりなる被膜が形成可能で、磁石に対する接着ないし密
着性が良く、しかも表面層が疎水性である、耐食性の良
いプラズマ重合体保護膜かえられる。その表面の接触角
は75°以上が得られる。また気相での被膜形成のため
、微小すきまへの付き回り(ステップカバレージ性)に
もすぐれる性質を有し、これを応用することにより、稀
土類鉄系磁石の耐食性、磁気安定性、機械的強度を向上
させるものである。
1 ボンドIi)
原料を秤看し、溶融し、鋳造して、合金組成がNds
Fets、s Zri Bt、s (合金1)及びN
da、 5Fes。
Fets、s Zri Bt、s (合金1)及びN
da、 5Fes。
Zrz、 s Ba (合金2)の2種類の合金インゴ
ットを製造した。これらをそれぞれ高周波溶解し、Ar
雰囲気中Cu単ロール(周速20m/秒)の表面に射出
して高速急冷して合金薄帯を得た。これをAr雰囲気中
、700℃で30分間熱処理した後、スタンプミルで5
0〜200μmの平均粒子径となるように粉砕して磁石
粉末を得た。
ットを製造した。これらをそれぞれ高周波溶解し、Ar
雰囲気中Cu単ロール(周速20m/秒)の表面に射出
して高速急冷して合金薄帯を得た。これをAr雰囲気中
、700℃で30分間熱処理した後、スタンプミルで5
0〜200μmの平均粒子径となるように粉砕して磁石
粉末を得た。
上記、磁石粉末に対して、2.5 w t%のエポキシ
樹脂を混合し、5 ton/cm”で加圧成形し、次い
で180℃の温度で樹脂硬化を行なった。得られた成形
体の磁気特性は表1に示す通りである。
樹脂を混合し、5 ton/cm”で加圧成形し、次い
で180℃の温度で樹脂硬化を行なった。得られた成形
体の磁気特性は表1に示す通りである。
次いで、この成形体をプラズマ重合装置に装入し、下層
として圧力0.02 Torr 、 RF電力100
0W、CH,3SCCMの条件で成形体の表面に下層炭
化水素重合膜を成膜した。成膜処理はエリプソメーター
を用いて測定して約200人の膜厚に成るまで行なった
。得られた膜を二次電子質量分析器SIMSで測定した
ところ、H/C比は1.15であった。屈折率をエリプ
ソメーターを用いて測定したところ1.95であった。
として圧力0.02 Torr 、 RF電力100
0W、CH,3SCCMの条件で成形体の表面に下層炭
化水素重合膜を成膜した。成膜処理はエリプソメーター
を用いて測定して約200人の膜厚に成るまで行なった
。得られた膜を二次電子質量分析器SIMSで測定した
ところ、H/C比は1.15であった。屈折率をエリプ
ソメーターを用いて測定したところ1.95であった。
又接触角を測定したところ30度であった。
続いて上層として圧力0.I Torr 、 RF電
力300W、CH420SCCMの条件で成形体の表面
に上層炭化水素重合膜を成膜した。成膜処理はエリプソ
メーターを用いて測定して約2000人の膜厚に成るま
で行なった(合金1.2に対してそれぞれ試料3.4)
。得られた膜を二次電子質量分析器SIMSで測定した
ところ、H/C比は1.6であった。屈折率をエリプソ
を用いて測定したところl、65であった。
力300W、CH420SCCMの条件で成形体の表面
に上層炭化水素重合膜を成膜した。成膜処理はエリプソ
メーターを用いて測定して約2000人の膜厚に成るま
で行なった(合金1.2に対してそれぞれ試料3.4)
。得られた膜を二次電子質量分析器SIMSで測定した
ところ、H/C比は1.6であった。屈折率をエリプソ
を用いて測定したところl、65であった。
又接触角を測定したところ88度であった。
次いで、得られた保護被覆つき成形体(合金l、2に対
してそれぞれ試料1,2とし、合金1に対し下層のみの
条件で2200人成膜したものを試料3、合金1に対し
上層のみの条件で2200人成膜したものを試料4とす
る。)に対し85℃、90%RHの環境条件で耐湿試験
を行なった。比較例として表面処理していないもの(比
較試料1.2)について同条件にて耐湿試験を行なった
。結果を表3に示す。
してそれぞれ試料1,2とし、合金1に対し下層のみの
条件で2200人成膜したものを試料3、合金1に対し
上層のみの条件で2200人成膜したものを試料4とす
る。)に対し85℃、90%RHの環境条件で耐湿試験
を行なった。比較例として表面処理していないもの(比
較試料1.2)について同条件にて耐湿試験を行なった
。結果を表3に示す。
2 七も
Nd+s Fett Baからなる組成の合金(合金3
)を作製し、粗粉砕した後、ジェットミルを用いて平均
粒径3.5μmの磁性粉末に微粉砕した0本磁性粉末を
10kOeの磁場中で1.5 t o n/ c m”
の圧力で成形した。その後真空中で1100℃、2hr
の焼結を行ない、続いて600℃、lhrの時効処理を
行なった。
)を作製し、粗粉砕した後、ジェットミルを用いて平均
粒径3.5μmの磁性粉末に微粉砕した0本磁性粉末を
10kOeの磁場中で1.5 t o n/ c m”
の圧力で成形した。その後真空中で1100℃、2hr
の焼結を行ない、続いて600℃、lhrの時効処理を
行なった。
得られた磁石の磁気特性は表2に示す通りである。
本成形体に対して実施例1と同じプラズマ重合処理を施
し、H/C比がそれぞれ下層/上層=1.15/1.6
、下層/上層=1.75/1.75の試料5.6の焼結
磁石を得た。85℃、90%RHの環境条件で耐湿試験
を行なった。比較例として表面処理を施していないもの
〔比較試料3)について同条件にて耐湿試験を行なった
。結果を表3に示す。
し、H/C比がそれぞれ下層/上層=1.15/1.6
、下層/上層=1.75/1.75の試料5.6の焼結
磁石を得た。85℃、90%RHの環境条件で耐湿試験
を行なった。比較例として表面処理を施していないもの
〔比較試料3)について同条件にて耐湿試験を行なった
。結果を表3に示す。
表 1
表 3 耐湿試験結果
表 2
(発明の効果のまとめ)
以上述べてきたように本発明によれば、屈折率の違う2
層以上の構造を有し、ち密でピンホールが無く、耐食性
、耐摩耗性にすぐれたプラズマ重合膜を稀土類鉄性磁石
表面に形成することにより、耐食性にすぐれ、磁気特性
の長期安定性が高(かつ機械的強度にすぐれた磁石を提
供することができる。
層以上の構造を有し、ち密でピンホールが無く、耐食性
、耐摩耗性にすぐれたプラズマ重合膜を稀土類鉄性磁石
表面に形成することにより、耐食性にすぐれ、磁気特性
の長期安定性が高(かつ機械的強度にすぐれた磁石を提
供することができる。
また、この膜は磁石材料、ボンド材料の両者と高い密着
性を有する。
性を有する。
Claims (6)
- (1)稀土類鉄系磁石の表面にプラズマ重合法による組
成が炭素と水素のみの重合膜であって、屈折率が磁石と
の境界面から表面に向かって減少している保護膜を形成
したことを特徴とする、高耐食性稀土類鉄系磁石。 - (2)重合膜は2層からなり、下層が1.8〜2.2、
上層が1.5〜1.7の屈折率を有する前記第1項記載
の耐食性稀土類鉄磁石。 - (3)重合膜は2層からなり、下層が100〜2000
Å、上層が500〜5000Åの厚さを有する前記第1
又は第2項記載の項耐食性稀土類鉄磁石。 - (4)重合膜の水素原子の数が炭素原子の数の1.5倍
以下で含まれる前記第1ないし第3項のいずれかに記載
の稀土類鉄系磁石。 - (5)磁石が稀土類鉄系ボンド磁石である前記第1項な
いし第4項記載の稀土類鉄系磁石。 - (6)磁石が稀土類鉄系焼結磁石である前記第1項ない
し第4項のいずれかに記載の高耐食性稀土類鉄系磁石。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7058289A JPH02250304A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 高耐食性磁石 |
| US07/497,549 US5154978A (en) | 1989-03-22 | 1990-03-22 | Highly corrosion-resistant rare-earth-iron magnets |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7058289A JPH02250304A (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 | 高耐食性磁石 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02250304A true JPH02250304A (ja) | 1990-10-08 |
Family
ID=13435695
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7058289A Pending JPH02250304A (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-24 | 高耐食性磁石 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02250304A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0620945U (ja) * | 1992-05-11 | 1994-03-18 | ヤマウチ株式会社 | トルクリミッタ |
| JP2019525493A (ja) * | 2016-08-26 | 2019-09-05 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | オプトエレクトロニクス素子およびオプトエレクトロニクス素子の製造方法 |
-
1989
- 1989-03-24 JP JP7058289A patent/JPH02250304A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0620945U (ja) * | 1992-05-11 | 1994-03-18 | ヤマウチ株式会社 | トルクリミッタ |
| JP2019525493A (ja) * | 2016-08-26 | 2019-09-05 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | オプトエレクトロニクス素子およびオプトエレクトロニクス素子の製造方法 |
| US10840413B2 (en) | 2016-08-26 | 2020-11-17 | Osram Oled Gmbh | Optoelectronic device and method of producing an optoelectronic device |
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