JPH02251802A - 光反射体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は特定の波長領域の光を選択的に反射する色素膜
を有する光反射体に関する。

（従来の技術） 有機物による光の反射の例としては、シアニン色素など
の色素結晶表面による反射や液晶による円偏光の反射な
どが古くから知られている。一方薄膜状の有機物による
光反射の例としては例えば米国特許第４．４６０．６６
５号、特開昭５９＝２４６９２号などに記載されている
、シアニン色素を基板上にスピンコードして得た色素膜
による光反射体が挙げられ、これらはその光反射性を生
かして光学的情報記録媒体に利用されている。しかしこ
れらの従来知られている有機物からなる光反射体の光反
射率はその極大値でも高々５０％であり、例えば６０％
を越す高い反射率を示すものは例が無かった。

（発明が解決すべき課題） 本発明が解決すべき課題は、特定の波長領域の光に対す
る反射率を６０％以上にすることもできる色素膜からな
る光反射体を提供することであり、特に上記特定の波長
領域を７００ｎｍ以上の近赤外領域にも設定し得る光反
射体を提供することである。

（課題を解決するための手段） 本発明の課題は、下記一般式（Ｉ）で示される化合物を
平滑な支持体上に担持せしめたことを特徴とする光反射
体によって達成された。

−触式（Ｉ） ％式％ 〔式中、Ｒ１ないしＲ４はアルキル基、アルケニル基又
はアリール基を表わし、Ｌはメチン基又は３．５もしく
は７個のメチン基が共役二重結合により連結されて生じ
る連結基を表わし、Ｚ又はＺｌは芳香族環を完成するた
めの原子群を表わし、Ｘ−は陰イオンを表わす、〕 一般式（Ｉ）においてＲ１ないしＲ’、Ｚ、およびＺｏ
はさらに置換基を有していてもよい、これらの基の置換
基のうち好ましいものはＣ，Ｈａｎｓｃｈらによって提
唱されている疎水性パラメーターπ、が−０，５ないし
１５の範囲の値のものである。なお、疎水性パラメータ
ーは次の文献に従って算出することができる。

１　）　Ｃ，Ｈａｎｓｃｈら、Ｊ、Ｍｅｄ、Ｃｈｅｍ、
　、第１６巻、１２０７頁（Ｉ９７３年刊） ２）　（、Ｈａｎｓｃｈら、同誌、第２０巻、３０４頁
（Ｉ９７７年刊） Ｒ■ないしＲ４で表わされる基として好ましいものは、
置換もしくは無置換のフェニル基、Ｗｌ、損もしくは無
置換の低級アルキル基（炭素原子数１ないし８）または
置換もしくは無置換の低級アルケニル基（炭素原子数２
ないし８）であり、さらに上述のＣ，Ｈａｎｓｃｈらに
よって提唱されている疎水性パラメーター、π、が−０
，５ないし１５の範囲の値の置換基を有していてもよい
　Ｒ１ないしＲ４が置換基を有する場合において特に好
ましい置換基は、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃ４！、Ｂｒ、Ｉ
）、置換もしくは無置換のフェニル基（例えばフェニル
、ｍ−クロロフェニル、ｐ−メチルフェニルなど）、ア
ルキルチオ基（例えばメチルチオ、ブチルチオなど）、
置換もしくは無置換のフェニルチオ基（例えばフェニル
チオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メチルフェニルチ
オなど）である。

Ｒ１ないしＲ４で表わされる基のうち特に好ましいもの
は、炭素原子数２ないし８の無置換アルキル基または炭
素原子数２ないし８の無置換アルケニル基であり、その
中でもＲ１ないしＲ４が同一のものが最も好ましい。

Ｚ又はＺｏで表わされる原子群の例としては、ベンゼン
環、ナフタレン環、アンスラセン環を完成するための原
子群が挙げられ、好ましいものはベンゼン環、ナフタレ
ン環を完成するための原子群であり、さらにＲ１ないし
Ｒ４上の置換基として述べた置換基を有していてもよい
、Ｚ又はＺｏが置換基を有する場合において、特に好ま
しい置換基は、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃ１ｌ、Ｂｒ、Ｉ）
、置換もしくは無置換のフェニル基（例えばフェニル、
ｍ−クロロフェニル、ｐ−メチルフェニルなど）、アル
キルチオ基（例えばメチルチオ、ブチルチオなど）、置
換もしくは無置換のフェニルチオ基（例えばフェニルチ
オ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メチルフェニルチオ
など）、置換もしくは無置換のアルキル基（例えばメチ
ル、トリフルオロメチル、ｔｅｒｔ−アミルなど）、シ
アン基アルコキシカルボニル基（例えばプロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、デシルオキシカルボニル、２−エチルへキシルオキ
シカルボニルなど）、アルキルもしくはアリールスルホ
ニル基（例えばブタンスルホニル、フェニルスルホニル
、オクタンスルホニルなど）である。

Ｚ％Ｚ・で表わされる原子群のうち特に好ましいものは
、パノットのシグマ定数が−０，２ないし＋０．７であ
るような比較的電子供与性が弱い置換基を有するベンゼ
ン環を形成するための原子群であり、その中でもＦ、　
Ｃｌ３．　Ｂｒ、　　１などのハロゲン原子で置換され
たベンゼン環を形成するための原子群が好ましい。

して表わされる連結基は置換もしくは無置換のメチン基
、または３．５．もしくは７個の置換もしくは無置換の
メチン基が共役二重結合により連結されて生じる連結基
を表わすが、特に一般式（ａ３ないし０）で表わされる
ものが好ましい。

一般式（ａ） Ｃ− 一般式（ｂ） ＣＨ＝　ＣＨ−Ｃ＝　ＣＨ−ＣＨ＝ ↓ 一般式（ｄ） 一般式（ｅ） 一般式（ｆ） 一般式（ｃ） 一般式（ｇ） −Ｃ１１−Ｃ−Ｃ）Ｉ−Ｃ１ｌ−Ｃ１ｌ−薯 一般式（ｈ） −ＣＩｌ　−Ｃ）ｌ　−ＣＩ　−Ｃ−Ｃ）Ｉ　−ＣＨ−
Ｃ）ｌ　−冒 一般式（＋） −Ｃ）Ｉ　−Ｃ−ＣＨ− 一般式（ａ）ないしくｉ）においてＹは水素原子または
１価の基を表わす、この場合、１価の基としては、メチ
ル基などの低級アルキル基、置換もしくは無置換フェニ
ル基、ベンジル基などのアラルキル基、メトキシ基など
の低級アルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルア
ミノ基、メチルフェニルアミノ基、モルフォリノ基、イ
ミダゾリジノ基、エトキシカルボニルビベラジノ基なと
のジ置換アミノ基、アセトキシ基などのアルキルカルボ
ニルオキシ基、メチルチオ基などのアルキルチオ基、シ
アノ基、ニトロ基、Ｆ、Ｃ１，Ｂｒなどのハロゲン原子
などであることが好ましい。

なおしで表わされる連結基のうち特に好ましいものはジ
もしくはトリカルボシアニン色素を形成するのに必要な
連結基であって、より具体的には一覗式（ｂ）、（ｃ）
、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）。

（ｇ）および（ｈ）で表わされるものである。

Ｘ−で表わされる陰イオンは、陽イオン部分のｔ萄を中
和するのに必要な数の陰を尚を供給するためのものであ
って、１価もしくは２価のイオンである。

Ｘ−で表わされる陰イオンの例としては、Ｃ１゜Ｂｒ−
、Ｉ−などのハロゲンイオン、Ｓｏ、”−、Ｈ５Ｏ，−
ＣＨ２０ＳＯｊ−などのアルキル硫酸イオン、パラトル
エンスルホン酸イオン、ナフタレン−１，５−’；スル
ホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロ
メタンスルホン酸イオン、オクタンスルホン酸イオンな
どのスルホン酸イオン、酢酸イオン、ｐ−クロロ安息香
酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、シュウ酸イオン、
コハク酸イオンなどのカルボン酸イオン、ＰＦ６−、　
ＢＦｍ−、Ｃ１０＊−、ＩＯａ。

タングステン酸イオン、タングストリン酸イオンなどの
へテロポリ酸イオン、ｌ（、ＰＯ，−、Ｎ０Ｉ−、ピク
リン酸イオンなどのフェノラートイオンなどが挙げられ
る。

Ｘ−で表わされる陰イオンとして好ましいものは、Ｃ１
＋、　Ｂｒ−、Ｉ　−、ＣＨ３０ＳＯｓ−１ＣＪｓＯ８
Ｏ３−、パラトルエンスルホン酸イオン、ｐ−クロロベ
ンゼンスルホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、ブ
タンスルホン酸イオン、ナフタレン−１，５−ジスルホ
ン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンなど
のパーフルオロスルホン酸イオン、ＰＦ、−、ＢＦ、−
、Ｃｊ！Ｏ，°などであり、特に好ましいものは、トリ
フルオロメタンスルホン酸イオン、ＰＦ、−、ＣＩＯ，
−であり、この中でも、爆発の心配が無い点でトリフル
オロメタンスルホン酸イオンとＰＦ、−とが最も好まし
い。

１゜ 以下に本発明において用いられる一般式（＋）で表わさ
れる化合物の具体例を挙げるが、本発明の範囲はこれら
のみに限定されるものではない。

−Ｃ４Ｈｇ Ｆｉ− ｎ−ＣａＨ中 ＣＩｌ　ｔｃＨ武１ｃＨコ ＰＦ６− Ｃ１ｌ宜Ｃ１ｌ武１ｃＩＩ。

ｎ−にａｌｌ雫 け− ｎ−シａｆｌｖ ｎ−シー山ツ しＺす４ セしＪｌコ ＣＨ（ＣＬ）ｘ ＰＦ＆− ＣＨ（ＣＨｓ）χ （■ルｔ’５ ＰＰｔｈ し１１家しｒ３ トシ４ｉ嗜 化合物例を付加 ｉ−Ｃ，Ｈｇ ＣＨｚＣＨｚＯＣｚｌｌｓ ４Ｈ９ ｉ−Ｃ４１１ｇ ｃＨｚｃＨｚＯｃｚ）Ｉｓ ＣＩ、ＣＩｌ□ｏｃｚｎｓ ＣＨｚＣＨＪＣｚ）Ｉｓ ＰＦ。

ＣＩｌｚＣＨｚＯＣｚＨｓ 本発明の一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、例えば、
米国特許３，４３１．１１１号に記載されているように
、一般式（Ａ）で表わされるイミダゾキノキサリン誘導
体をオルトギ酸エステルなどのメチン源、テトラメトキ
シプロパンなどのトリメチン源、グルタコンアルデヒド
アセクール類や１．７−ジフェニル−１，７−ジアザ−
１，３，５−ヘプタトリエンなどのペンタメチン源と反
応させて合成することができる。

一般式（Ａ） Ｒ’　　　　　　Ｙ− 〔式中、Ｒ’、　Ｒ”、　　Ｚは一般式（りにおけると
同義の基を表わし、Ｙは陰イオンを表わす、〕このとき
通常は溶媒としてメタノール、エタノールなどのアルコ
ール類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類
、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ピリジン、ピコ
リンなどの複素芳香族化合物などを用いる。また反応に
際し、酢酸ナトリウム、トリエチルアミンなどの塩基、
および無水酢酸などを添加すると反応が促進されること
がある。

次に一般式（Ｉ）で表わされる化合物の合成法につき、
合成例を挙げて説明する。

合成例１．化合物２の合成 １．３−ジアリル−２−メチルイミダゾ−〔４゜５−ｂ
〕キノキサリニウムパラトルエンスルホン酸塩８゜６ｇ
に１．７−ジフェニル−１，７−ジアザ−１，３，５−
へプクトリエン塩酸塩２．８ｇとピリジン２０−を加え
て加熱溶解した。この溶液に２−の無水酢酸を加え１０
分間還流した０反応液を室温まで冷却した後酢酸エチル
を添加して不溶物を集め、さらに酢酸エチルで洗浄した
。この不溶物にエタノールを加えて洗い、析出した金属
光沢の結晶を濾取した。この結晶をメタノールに溶解し
６０％の過塩素酸水溶液を添加して色素の過塩素酸塩を
析出せしめ、濾取しメタノールにて洗浄後乾燥した。

収ｆｆ１０．６ｇ、融点２２４．５−２２６°Ｃ合成例
２．化合物２８の合成 １．３−ジエチル−２−メチルイミダゾ−〔４゜５−ｂ
〕キノキサリニウム塩化物２．８ｇと１．５ｇのジェト
キシメチルアセテートを１０−のピリジンに加え１０分
間還流した０反応混合物を冷却した後、生じた固体を濾
取しエタノールで洗浄した。

この固体をエタノールから２回再結晶し、０．７ｇの化
合物２８を得た。

融点２４９−２５２°Ｃ 合成例３．化合物２９の合成 １．３−ジエチル−２−メチルイミダゾ〔４゜５−ｂ〕
キノキサリニウム塩化物２．８ｇと１．６ｇの１．１．
３−１−リメトキシプロペンを１０艷のピリジンに加え
１０分間還流した。冷却後反応混合物を濾過し、生じた
固体をエタノールで洗浄した。この固体をエタノールか
ら２回再結晶し、０．９ｇの化合物２９を得た。

融点２３０−２３２°Ｃ 合成例４．化合物３２の合成 １．３−ジイソブチル−２−メチルイミダゾ（４，５−
ｂ）キノキサリニウムバラトルエンスルホネート２４ｇ
にピリジン１００−を加え、加熱して溶解した後、２５
−の１．１．３．３−テトラメトキシプロパンを加えて
１時間加熱攪拌した。放冷後生じた結晶を濾取し、メタ
ノールで洗浄して１４ｇの粗色素を得た。

この色素８ｇにメタノール６００−を加え、不溶物を濾
過した後、テトラブチルアンモニウム・バークロレート
５ｇを５０−のメタノールに？容かして加え、生じた結
晶を濾取し、メタノールで洗浄して４ｇの２−　（５−
（Ｉ，３−ジイソブチルイミダゾ（４，５−ｂ）キノキ
サリン−２−イリデン）−１，３−ペンタジェニル）−
１，３−ジイソブチルイミダゾ（４，５−ｂ）キノキサ
リニウムバークロレートを得た。融点は２８６°Ｃ（分
解）であった、メタノール溶液の吸収極大波長は６９２
ｎｍであった。

合成例５　代合物３３０合成 １．　３−ビス（２−二トキシエチル）−２−メチルイ
ミダゾ：４−　５　ｂ：キノキサリニウムバラトルエン
スルホネート５ｇにピリジン１９ｉを加えて加熱して溶
解した後、１．１．３．３−テトラメトキシプロパン４
．７−を加えて１時間加熱撹拌した。室温まで冷却した
後、メタノール１００蔵を加え、さらにテトラブチルア
ンモニウム・バークロレート４ｇを２０ｍ１のメタノー
ルに溶解して加えた。生じた結晶を濾取しメタノールで
洗浄し、乾燥した。

収Ｊ１１．６ｇ、融点２１５−２１６℃。メタノール溶
液の吸収極大波長は５９Ｑｎｍであった。

合成例６．化合物３４の合成 １．３−ビス（３−アセトキシプロピル）−２−メチル
イミダゾＣ４，５−ｂ）キノキサリニウムバラトルエン
スルホネート３ｇにピリジン１２ｉを加えて加熱溶解し
た後、２．９−の１．　１．　３゜３−テトラメトキシ
プロパンを加えて１時間加熱撹拌した。室温まで冷却し
た後、メタノール６０−を加え、さらにテトラブチルア
ンモニウム・バークロレート３ｇを２０−のメタノール
に溶かして加えた。生じた結晶を濾取し、メタノールで
洗浄し、乾燥した。

収量０．７ｇ、融点１７１−１８ＦＣ、メタノール溶液
の吸収極大波長は６８８ｎｍであった。

本発明の光反射体において、一般式（Ｉ）で表わされる
色素は単独で用いても、２種以上併用してもよく、ある
いは本発明の色素以外の色素と併用して用いてもよい、
また読取り耐久性向上のため種々の酸化防止剤や一重項
酸素クエンチャーを併用することも有効である。また、
種々の樹脂を併用してもよい。

あるいは遷移金属イオンを添加してキレートを形成させ
て用いることにより耐久性を増すこともできる。

本発明の光反射体に使用されるクエンチャ−としては、
種々のものを用いることができる。このようなりエンチ
ャーとしては、再生劣化を低下させ、色素との相溶性が
良好な遷移金属錯体が好ましい、この場合、中心金属と
して好ましいものは、Ｎｉ５Ｃｏ、ＣｕＳＰｄ、Ｐｔな
どである。

新規なりエンチャーの例としては次の一般式（ＩＩ）ま
たは（ｍｌ）で示されるものが挙げられる。

（式中、（Ｃａｔ＋）および（Ｃａｔｉ）は錯体を中性
ならしめるために必要な陽イオンを示し、ＭｌおよびＭ
２はニッケル、銅、コバルト、パラジウムまたは白金を
示す、ｎは１または２を示す、）上記一般式（ｎ）で表
わされる化合物のうち好ましいものを例示すれば次のと
おりである。

その他の一重項酸素クエンチャーとしては特開昭５９−
１７８２９５号に記載されている次の化合物が挙げられ
る。

（Ｉ）ビスジチオ−α−ジケトン系 Ｒ１〜Ｒ４はアルキル基またはアリール基を表わし、Ｍ
は２価の遷移金属原子を表わす。

（ｉｉ）ビスフエニルジチオール系 （ｖｉｉｉ）チオビスフェルレートキレート系（ｉｘ　
）亜ホスホン酸キレート系 （ｘ）ベンゾエート系 （ｘｉ）　　ヒンダードアミン系 （ｘｉｉ）遷移金属塩 この地衣式で表わされるアミニウム系もしくはジイモニ
ウム系イオンを含む化合物が挙げられ、具体例としては
日本化薬株式会社製Ｔ　ＲＧ−００２、ｒＲｃ；−００
３、［ＲＧ−０２２、ＩＲＣ−０２３が挙げられる。

Ｒ’、Ｒ−はアルキル基またはハロゲン原子を表わし、
Ｍは２価の遷移金属子を表わす。

（ｉｉｉ　）アセチルアセトナートキレート系（ｉｖ　
）ジチオカルバミン酸キレート系（ｖ）ビスフェニルチ
オール系 （ｖｉ）チオカテコールキレート系 （ｖｉ）サリチルアルデヒドオキシム系（式中Ｒはアル
キル基又はアリール基を表わす。

八−は陰イオンを表わす、） 本発明において、前記色素のカチオンと、クエンチャ−
のアニオンとの結合体を使用することもできる。

クエンチャ−は前記色素１モルあたり、一般に０．０１
〜１．２モル、好ましくは０．０５〜０゜５モル使用さ
れる。

クエンチャ−は色素薄膜層に含有させることが好ましい
が、色素層とは別の層に含有させてもよい。本発明の光
反射体には、必要により、さらに基板上に下引き層を、
また記録層上に保護層を、また基板上もしくは記録層上
に反射層を設けることができる。

支持体としては平滑であれば既知のものを任意に使用す
ることができる。その代表的な例にはガラスまたはプラ
スチックがあり、プラスチックとしてはアクリル、ポリ
カーボネート、ポリスルホン、ポリイミド、非晶質ポリ
オレフィン、エポキシ樹脂、ポリエステルなどが用いら
れる。その形状はディスク状、カード状、シート状、ロ
ールフィルム状など種々のものが可能である。

本発明の支持体としては記録時のトラッキングを容易に
するために案内溝を形成させたものは除く。なお、支持
体上にはプラスチックバインダーまたは無機酸化物、無
機硫化物などの下引き層を設けてもよい。

本発明における色素層の形成は、例えば、−Ｓ式（Ｉ）
で表わされる色素およびクエンチャ−を有４ｔ！？ａ剤
（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、２．２．．３．３−テトラフルオロプロパツール
などのフッ素化アルコール類、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、アセトンなど）に溶解し、必要に応して適当
なバインダー（例えばＰＶＡ、ＰＶＰ、ポリビニルブチ
ラール、ポリカーボネート、ニトロセルロース、ポリビ
ニルホルマール、メチルビニルエーテル、塩素化パラフ
ィン、無水マレイン酸共重合体、スチレン−ブタジェン
共重合体、キシレン系樹脂）を加え、この溶液を塗布（
例えばスピンコード）することによって行なえるし、又
は色素とクエンチャ−を共蒸着するかあるいは一最式（
［）で表わされる色素を真空蒸着したのち、クエンチャ
−を塗布することによって行なえる。バインダーを使用
する場合には、バインダーの重量は色素重量の０．０１
〜９倍が好ましい、また一般式（Ｉ）の色素をいわゆる
ラングミュア−プロジェット法により薄膜として用いる
こともできる。

本発明における色素層は１層又は２層以上設ける。

色素層内又はこれに隣接する層内には、色素の劣化を防
ぐため、酸化防止剤もしくは褪色防止剤を存在させても
よい。

色素層の薄膜は、通常０．０１μｍ〜２μｍ、好ましく
は０．０２〜０．８μｍの範囲である。

色素層以外の反射層を設ける場合、基板に反射層を設は
次にこの反射層の上に前述したような方式によって色素
層を設けることによるが、あるいは基板に色素層を設け
、次いでこの上に反射層を設けるかのいずれかの方法が
ある。

反射層は蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティ
ング法などの他、次のような方法によって作ることがで
きる。

例えば水溶性樹脂（ＰＶＰ、ＰＶＡなと）に金属塩また
は、金属錯塩を溶解させ、さらに、還元剤を加えた溶液
を基板に塗布し、５０°Ｃ〜１５０°Ｃ好ましくは６０
°ｃ−ｉｏｏｏＣで加熱乾燥させることによって形成さ
れる。

樹脂に対する金属塩または金属錯塩の量は重量比で０．
１〜ｌＯ好ましくは０．５〜１．５である。この際、記
録層の膜厚は金属粒子反射層が０゜０１〜０゜ｌｔＩｍ
でありそして光吸収層が０．０１〜１μｍの範囲が適当
である。

金属塩または金属錯塩としては、硝酸銀、シアン化銀カ
リウム、シアン化金カリウム、銀アンミン錯体、銀シア
ン錯体、金塩または金シアン錯体などを使用できる。還
元剤としてはホルマリン、酒石酸、酒石酸塩、還元剤、
次亜燐酸塩、水素化硼素ナトリウム、ジメチルアミンボ
ランなどを使用できる。還元剤は金属塩または金属錯塩
１モルに対し０．２〜１０モル好ましくは０．５〜４モ
ルの範囲で使用できる。

次に実施例を挙げて本発明の詳細な説明するが、本発明
はこれらのみにて限定されるものではない。

実施例１ 第１表に示す化合物の有機溶剤溶液を第１表に示す支持
体上にスピンコードして光反射材料を作成し、色素膜側
から反射スペクトルを測定した０反射材料の作成条件、
反射スペクトルのピーク波長、ピーク波長における反射
率を第１表にまとめて示した。なお、比較のために比較
色素Ａ−Ｄについても調べた０表１の結果から本発明の
光反射体は種々の波長領域において高い反射率を示すこ
とがわかる。

比較色素Ａ 比較色素Ｂ 比較色素Ｃ 比較色素Ｄ Ｈｓ Ｃ１０４− ＣＩ（３ 、Ｃ，Ｈ雫 Ｃｌ１Ｏａ− 内−（４■１ 手続補正書 ４．　補正の対象　　明細書の「発明の詳細な説明Ｊの
欄 ５、補正の内容

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 平滑な支持体上に下記一般式（ I ）で表わされる化合
   物を担持せしめたことを特徴とする光反射体。 一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１ないしＲ＾４はアルキル基、アルケニル
   基又はアリール基を表わし、Ｌはメチン基又は３、５も
   しくは７個のメチン基が共役二重結合により連結されて
   生じる連結基を表わし、Ｚ又はＺ＾０は芳香族環を完成
   するための原子群を表わし、Ｘ＾−は陰イオンを表わす
   。〕