JPH0225498B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0225498B2 JPH0225498B2 JP56179706A JP17970681A JPH0225498B2 JP H0225498 B2 JPH0225498 B2 JP H0225498B2 JP 56179706 A JP56179706 A JP 56179706A JP 17970681 A JP17970681 A JP 17970681A JP H0225498 B2 JPH0225498 B2 JP H0225498B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicone rubber
- rubber layer
- printing plate
- photosensitive
- lithographic printing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はインキ反撥性の向上した湿し水不要平
版印刷版を与える湿し水不要平版印刷版原板に関
する。
版印刷版を与える湿し水不要平版印刷版原板に関
する。
基体に裏打ちされた感光性シリコーンゴム層を
有する湿し水不要平版印刷版原板は、既に数多く
提案されている（例えば、特公昭54−29126、特
公昭52−35719など）。ここに提案された感光性シ
リコーンゴム層を有する湿し水不要平版印刷版原
板は、通常活性光線で画像露光された後、感光性
シリコーンゴム層の少なくとも一部を溶解するよ
うな現像液を用いて現像し、画線部の感光性シリ
コーンゴム層を除去し基体を露出せしめることに
より湿し水不要平版印刷版を得ている。ところが
このようにして得られる印刷版において、インキ
反撥層を形成する感光性シリコーンゴムは感光性
を付与するためにシリコーン化合物以外の種々の
感光性を有する化合物を化学結合せしめるかある
いは混合する結果、シリコーンゴムのインキ反撥
性が低下してしまう。従つて、本来インキ反撥性
であるべきシリコーンゴム層にインキが付着して
たとえば、地汚れを起しやすいという湿し水不要
平版印刷版としては、致命的な問題点があつた。
有する湿し水不要平版印刷版原板は、既に数多く
提案されている（例えば、特公昭54−29126、特
公昭52−35719など）。ここに提案された感光性シ
リコーンゴム層を有する湿し水不要平版印刷版原
板は、通常活性光線で画像露光された後、感光性
シリコーンゴム層の少なくとも一部を溶解するよ
うな現像液を用いて現像し、画線部の感光性シリ
コーンゴム層を除去し基体を露出せしめることに
より湿し水不要平版印刷版を得ている。ところが
このようにして得られる印刷版において、インキ
反撥層を形成する感光性シリコーンゴムは感光性
を付与するためにシリコーン化合物以外の種々の
感光性を有する化合物を化学結合せしめるかある
いは混合する結果、シリコーンゴムのインキ反撥
性が低下してしまう。従つて、本来インキ反撥性
であるべきシリコーンゴム層にインキが付着して
たとえば、地汚れを起しやすいという湿し水不要
平版印刷版としては、致命的な問題点があつた。
本発明者らは、かかる問題点を解決してインキ
反撥性のすぐれた湿し水不要平版印刷版を与える
印刷版原板について鋭意検討した結果、以下に述
べる本発明に到達した。
反撥性のすぐれた湿し水不要平版印刷版を与える
印刷版原板について鋭意検討した結果、以下に述
べる本発明に到達した。
すなわち本発明は、基体に裏打ちされた感光性
シリコーンゴム層を有する湿し水不要平版印刷版
原板において、感光性シリコーンゴム層上にさら
にシリコーンゴム層を設けたことを特徴とする湿
し水不要平版印刷原板に関するものである。
シリコーンゴム層を有する湿し水不要平版印刷版
原板において、感光性シリコーンゴム層上にさら
にシリコーンゴム層を設けたことを特徴とする湿
し水不要平版印刷原板に関するものである。
本発明の印刷版原板の基体としては、厚さが約
10μ〜２mm、好ましくは約50μ〜500μの紙、プラ
スチツクフイルムもしくはシート、ゴムなどの弾
性体シート、アルミなどの金属板あるいはそれら
に種々の表面処理を施したものなどが適している
が、シリンダー状の基体を用いてもよい。また基
体は複合体でも使用することができる。
10μ〜２mm、好ましくは約50μ〜500μの紙、プラ
スチツクフイルムもしくはシート、ゴムなどの弾
性体シート、アルミなどの金属板あるいはそれら
に種々の表面処理を施したものなどが適している
が、シリンダー状の基体を用いてもよい。また基
体は複合体でも使用することができる。
本発明に用いられる感光性シリコーンゴムは、
有機ポリシロキサン化合物と公知の感光性を有す
る化合物（たとえば（メタ）アクリロイル基、ケ
イ皮酸基、アジド基、置換マレイミド基などを有
する化合物）とを化学反応せしめるか、または混
合することにより得ることができる。
有機ポリシロキサン化合物と公知の感光性を有す
る化合物（たとえば（メタ）アクリロイル基、ケ
イ皮酸基、アジド基、置換マレイミド基などを有
する化合物）とを化学反応せしめるか、または混
合することにより得ることができる。
また本発明の感光性シリコーンゴム層の厚みは
約0.4〜20μ、好ましくは約0.8〜5μである。
約0.4〜20μ、好ましくは約0.8〜5μである。
本発明の感光性シリコーンゴム層上に設けるシ
リコーンゴム層としては、厚さが約0.1〜50μ、好
ましくは約0.5〜10μで、公知の室温硬化型あるい
は低温硬化型といわれるシリコーンゴムが好適で
ある。これらのシリコーンゴムは次のくり返し単
位を有する線状有機ポリシロキサンを主成分とす
るものでこれらは感光性を有していない。
リコーンゴム層としては、厚さが約0.1〜50μ、好
ましくは約0.5〜10μで、公知の室温硬化型あるい
は低温硬化型といわれるシリコーンゴムが好適で
ある。これらのシリコーンゴムは次のくり返し単
位を有する線状有機ポリシロキサンを主成分とす
るものでこれらは感光性を有していない。
ここでｎは１以上の整数、Ｒは炭素数１〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
ある。
アルキル基、アルケニル基あるいはフエニル基で
ある。
この線状有機ポリシロキサンには通常架橋剤が
添加される。架橋剤としては、いわゆる室温（低
温）硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランな
どがあり、通常線状有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものとくみ合わせて、各々脱酢
酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これら
のシリコーンゴムには、触媒として少量の有機ス
ズ化合物等が添加されるのが一般的である。
添加される。架橋剤としては、いわゆる室温（低
温）硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランな
どがあり、通常線状有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものとくみ合わせて、各々脱酢
酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン
型、脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これら
のシリコーンゴムには、触媒として少量の有機ス
ズ化合物等が添加されるのが一般的である。
以上説明したような本発明にもとづく湿し水不
要の平版印刷版原板は、例えば次のようにして製
造される。まず基体のうえに、リバースロールコ
ータ、エアーナイフコータ、メーヤバーコータな
どの通常のコータあるいはホエラーのような回転
塗布装置を用い感光性シリコーンゴム層を構成す
べき組成物溶液を塗布、乾燥および必要に応じて
熱キユア後、シリコーンゴム前駆体溶液を同様の
方法で塗布し、必要に応じて100〜120℃の温度で
数分間熱処理して、十分に硬化せしめてシリコー
ンゴム層を形成する。必要ならば、保護フイルム
を該シリコーンゴム層上にラミネーター等を用い
カバーすることにより作製される。
要の平版印刷版原板は、例えば次のようにして製
造される。まず基体のうえに、リバースロールコ
ータ、エアーナイフコータ、メーヤバーコータな
どの通常のコータあるいはホエラーのような回転
塗布装置を用い感光性シリコーンゴム層を構成す
べき組成物溶液を塗布、乾燥および必要に応じて
熱キユア後、シリコーンゴム前駆体溶液を同様の
方法で塗布し、必要に応じて100〜120℃の温度で
数分間熱処理して、十分に硬化せしめてシリコー
ンゴム層を形成する。必要ならば、保護フイルム
を該シリコーンゴム層上にラミネーター等を用い
カバーすることにより作製される。
ここで用いられる保護フイルムとしては、厚さ
が約2μ〜２mm、好ましくは約5μ〜100μのポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエ
チレンテレフタレート、セロフアン、ABS、ポ
リスチレン、ポリアミドなどのプラスチツクフイ
ルムが適当であるが、金属板、紙あるいは合成紙
などを用いてもよい。
が約2μ〜２mm、好ましくは約5μ〜100μのポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエ
チレンテレフタレート、セロフアン、ABS、ポ
リスチレン、ポリアミドなどのプラスチツクフイ
ルムが適当であるが、金属板、紙あるいは合成紙
などを用いてもよい。
また、あらかじめ保護フイルム上にシリコーン
ゴム層を設けておき、基体上に設けられた感光性
シリコーンゴム層の上に、該保護フイルム上のシ
リコーンゴム層を圧着することによつても作製す
ることが可能である。
ゴム層を設けておき、基体上に設けられた感光性
シリコーンゴム層の上に、該保護フイルム上のシ
リコーンゴム層を圧着することによつても作製す
ることが可能である。
このようにして得られた湿し水不要平版印刷版
原板を製版することによつて、インキ反撥性に優
れた印刷版となる。製版方法としては活性光線に
より画像露光を施した後、画像部の感光性シリコ
ーンゴム層とその上に設けられたシリコーンゴム
層とを同時に現像除去することによつて印刷版が
得られる。現像の際に用いられる溶剤としては、
トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、トリ
クロロエチレンなど、芳香族炭化水素系、塩素化
炭化水素系、アルコール系、エステル系あるいは
ケトン系などの溶剤を単独もしくは混合して使用
することができる。
原板を製版することによつて、インキ反撥性に優
れた印刷版となる。製版方法としては活性光線に
より画像露光を施した後、画像部の感光性シリコ
ーンゴム層とその上に設けられたシリコーンゴム
層とを同時に現像除去することによつて印刷版が
得られる。現像の際に用いられる溶剤としては、
トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、トリ
クロロエチレンなど、芳香族炭化水素系、塩素化
炭化水素系、アルコール系、エステル系あるいは
ケトン系などの溶剤を単独もしくは混合して使用
することができる。
本発明の湿し水不要平版印刷版原板から製版さ
れた印刷版の特徴としては、少なくとも次の２点
を挙げることができる。
れた印刷版の特徴としては、少なくとも次の２点
を挙げることができる。
(1) 公知の感光性シリコーンゴム層を非画線部と
する湿し水不要平版印刷版に比較して、インキ
反撥性が向上している（地汚れが生じにくい）。
する湿し水不要平版印刷版に比較して、インキ
反撥性が向上している（地汚れが生じにくい）。
(2) 基体に裏打ちされた感光層の上に非感光性の
シリコーンゴム層を設けてなる湿し水不要平版
印刷版に比較して、現像性が極めて良好であ
る。
シリコーンゴム層を設けてなる湿し水不要平版
印刷版に比較して、現像性が極めて良好であ
る。
以下実施例により本発明をさらに詳しく説明す
る。
る。
実施例１、比較例１
(1) 住友軽金属(株)製の化成処理アルミ板（厚み
0.3mm）に下記の構造を有するマレイミド基含
有オルガノポリシロキサンからなる感光性シリ
コーンゴム層を乾燥膜厚が3.0ｇ／cm2となるよ
うに設け湿し水不要平版印刷版原板Ａを作製し
た。
0.3mm）に下記の構造を有するマレイミド基含
有オルガノポリシロキサンからなる感光性シリ
コーンゴム層を乾燥膜厚が3.0ｇ／cm2となるよ
うに設け湿し水不要平版印刷版原板Ａを作製し
た。
(2) 一方、(1)と同じアルミ板に上記と同様にして
同組成の感光性シリコーンを乾燥膜厚が2.8
ｇ／cm2となるように設けた後、更にこのシリコ
ーンゴム層の上に、下記の組成のシリコーンゴ
ム層を膜厚が0.2ｇ／cm2となるように設け湿し
水不要平版印刷原板Ｂを作製した。
同組成の感光性シリコーンを乾燥膜厚が2.8
ｇ／cm2となるように設けた後、更にこのシリコ
ーンゴム層の上に、下記の組成のシリコーンゴ
ム層を膜厚が0.2ｇ／cm2となるように設け湿し
水不要平版印刷原板Ｂを作製した。
(a) ジメチルポリシロキサン（分子量30000、
両末端OH基） 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン ６部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.3部 次いで上記ＡおよびＢの湿し水不要平版印刷
原板に画像露光を施し、キシレンを用いて現像
し印刷版Ａ、Ｂを得た。
両末端OH基） 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン ６部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.3部 次いで上記ＡおよびＢの湿し水不要平版印刷
原板に画像露光を施し、キシレンを用いて現像
し印刷版Ａ、Ｂを得た。
(3) 次に各々の印刷版を用いて市販のダビツドソ
ン・デユアリス700型オフセツト印刷機により
印刷を行なつたところ、印刷版Ａの場合は版面
の温度が32℃になつた時点で地汚れが認められ
た。一方、本発明の印刷版Ｂは35℃になつても
地汚れが認められなかつた。
ン・デユアリス700型オフセツト印刷機により
印刷を行なつたところ、印刷版Ａの場合は版面
の温度が32℃になつた時点で地汚れが認められ
た。一方、本発明の印刷版Ｂは35℃になつても
地汚れが認められなかつた。
Claims (1)
- １ 基体に裏打ちされた感光性シリコーンゴム層
を有する湿し水不要平版印刷版原板において、感
光性シリコーンゴム層上にさらにシリコーンゴム
層を設けたことを特徴とする前記平版印刷版原
板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17970681A JPS5882247A (ja) | 1981-11-11 | 1981-11-11 | 湿し水不要平版印刷版原板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17970681A JPS5882247A (ja) | 1981-11-11 | 1981-11-11 | 湿し水不要平版印刷版原板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5882247A JPS5882247A (ja) | 1983-05-17 |
| JPH0225498B2 true JPH0225498B2 (ja) | 1990-06-04 |
Family
ID=16070447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17970681A Granted JPS5882247A (ja) | 1981-11-11 | 1981-11-11 | 湿し水不要平版印刷版原板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5882247A (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5426923B2 (ja) * | 1972-03-21 | 1979-09-06 | ||
| JPS4968803A (ja) * | 1972-11-02 | 1974-07-03 | ||
| JPS5525418B2 (ja) * | 1972-12-20 | 1980-07-05 | ||
| JPS5589842A (en) * | 1978-12-28 | 1980-07-07 | Toray Ind Inc | Retouching method for plate face of waterless lithographic printing plate |
| JPS55124148A (en) * | 1979-03-16 | 1980-09-25 | Toray Ind Inc | Manufacture of lithographic printing original plate |
-
1981
- 1981-11-11 JP JP17970681A patent/JPS5882247A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5882247A (ja) | 1983-05-17 |
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