JPH02260211A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドの製造方法

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JPH02260211A
JPH02260211A JP8171689A JP8171689A JPH02260211A JP H02260211 A JPH02260211 A JP H02260211A JP 8171689 A JP8171689 A JP 8171689A JP 8171689 A JP8171689 A JP 8171689A JP H02260211 A JPH02260211 A JP H02260211A
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JP
Japan
Prior art keywords
glass
magnetic head
substrate
thin film
gap
Prior art date
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Pending
Application number
JP8171689A
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English (en)
Inventor
Takeshi Kijima
健 木島
Takanori Hara
孝則 原
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気回路を構成する軟磁性薄膜と、この軟磁
性薄膜を支持する基板からなる磁気ヘッドの製造方法に
関するものである。
〔従来の技術〕
近年、磁気記録の高密度化の要求により、メタルテープ
等の高保磁力媒体が用いられるようになり、これに伴い
、高飽和磁束密度および軟磁気特性に優れたF e−3
i −Aj! (センダスト合金)等の金属磁性材料等
からなるコア材料が磁気ヘッドに用いられるようになっ
ている。
上記のセンダスト合金等を用いると共に、耐摩耗性や量
産性を向上させた磁気ヘッドとして、従来より、第9図
に示すように、ギャップ対向面が山型に形成された一対
の感光性結晶化ガラス11・11と、各山型部11aの
一方の側壁部に形成されたセンダスト合金等の軟磁性薄
膜12とを備えてなる磁気ヘッドが知られている。かか
る磁気ヘッドは、上記一対の感光性結晶化ガラス11・
11の間にギャップ13を挟んだ状態で低融点ガラス1
4・・・にて接着されたものである。
このような磁気ヘッドを製造するには、第5図(a)に
示すように、感光性結晶化ガラスからなる基板Bllの
表面に、最終的な磁気ヘッドの厚さ、および切り代等を
考慮したピッチAで略■字状の溝15を例えばダイシン
グによって連続して形成する。谷溝15の少なくとも一
方の側壁(前記山型部の側壁でもある)15aと、基板
Bllの加工前表面の法線Hとのなす角eは、最終的な
磁気ヘッド形態でのアジマス角にほぼ等しいことが望ま
しい。
次に、同図(b)に示すように、側壁15a・・・に真
空蒸着法、或いは、スパッタ法などの薄膜形成技術によ
って所定の膜厚、つまり磁気ヘッドのトラック幅にほぼ
相当する膜厚となるようにセンダスト合金からなる軟磁
性薄膜12を形成する。
その後、同図(C)に示すように、同一径を有する低融
点のガラス棒S14・・・を用意してこれらを上記軟磁
性薄膜12の形成された複数の溝15・・・に配置した
後、加熱によりガラス棒314・・・を溶かしてガラス
による被覆を行う。或いは、第8図に示すように、低融
点のガラス板B14を用意してこれを基板Bll上に配
置した後、加熱によりガラス板B14を溶かすことによ
りガラスによる被覆を行う。
ガラス棒314・・・或いはガラス板B14の溶融が行
われると、第5図(d)に示すように、ガラス14の盛
り上がりが生じるので、同図(e)に示すように、ガラ
ス14の盛り上がった部分に対し研削を行って平坦化す
る。次いで、同図(f)に示すように、基板Bllに対
し、磁気ヘッドの高さに相当するピッチEで切断を行う
そして、切り出された基板Bll・・・に対し、−般の
VTR用フェライトヘッドと同様に、コイル巻線溝の加
工や軟磁性薄膜におけるギャップ面の形成加工を施した
後、同図(g)に示すように、一対の基板Bll・Bl
lにおけるギャップ形成面17・17が互いに対向する
ように位置合わせを行って加圧固定した後、低融点のガ
ラス14が接着力を持つような温度まで昇温し、ガラス
溶着を行って接合し、磁気ヘッドブロックB18を得る
次に、磁気ヘッドブロック81Bを所定ピッチで切り出
すことにより、第9図の磁気ヘッド18(未だ巻線の施
されていない段階)を得、この磁気ヘッド18を図示し
ないヘッドベースに接着すると共にコイル巻線溝への巻
線等を施すことにより磁気ヘッド18が完成することに
なる。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、一般に、金属とガラスとの間の濡れ性は良好
でなく、センダスト合金からなる軟磁性薄膜12と前記
のガラス14との関係も例外でうまない。このため、前
述のごとく、同一径のガラス棒S14・・・を谷溝15
に配置したり、若しくは、ガラス板B14を用いたりし
て、ガラス14の被覆を行った場合、第6図に示すよう
に、溶融したガラス14がその表面張力で縮み、基板B
llの中央部で玉状に固着して全体が被覆されないとい
う不具合が生じがちである。また、基板Bllの全体を
被覆すべく、ガラス棒S14・・・やガラス板B14を
多量に用いることが考えられるが、これでは、第7図に
示すように、ガラス14が基板B11から溢れたり、或
いはガラスの厚みが厚くなるため、次工程の研削作業が
手間取るという問題を招来することになる。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、上記の課題を解
決するために、基板のギャップ対向面上にほぼV字形状
の複数の溝を連続的に形成し、谷溝の一方の溝壁面に所
定の膜厚で軟磁性薄膜を形成する工程と、この工程の後
に上記ギャップ対向面上にガラスを被覆する工程とを有
する磁気ヘッドの製造方法において、上記のガラスとし
て直径の異なる2種類以上の柱状のガラスを用意してこ
れらを上記軟磁性薄膜の形成された複数の溝に適当に配
置した後、上記ガラスを溶融してギャップ対向面上を被
覆することを特徴としている。
〔作 用〕
上記の構成によれば、温度上昇に伴って柱状のガラスの
溶融が始まり、直径の小さいガラスが先に溶融を完了す
ることになる。このとき、隣接するガラス同士が溶融し
、その表面張力により縮んで一塊になろうとするが、直
径の大きいガラスの芯部分が未だ溶融せずに残っている
ことから、上記ガラスはあまり縮まずに基板全体を薄く
覆うことになる。そして、溶融したガラスと軟磁性薄膜
とが密着したころに直径の大きいガラスも全て溶融して
適切なガラス被覆が行われる。
〔実施例〕
本発明の一実施例を第1図ないし第4図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
本発明にかかる磁気ヘッドの製造方法により製造される
磁気ヘッドは、例えば、第4図に示すように、ギャップ
対向面が山型に形成された一対の感光性結晶化ガラスト
1と、各山型部ICの一方の側壁部に形成されたFe−
3i −Aj! (センダスト)合金等の軟磁性薄膜2
とを備えてなるものである。そして、かかる磁気ヘッド
は、上記−対の感光性結晶化ガラスト1の間にギャップ
3を挟んだ状態で鉛径の低融点ガラス4・・・にて接着
されたものである。また、各感光性結晶化ガラス1には
外部巻線溝1aおよび内部巻線溝1bが各々形成されて
おり、この溝1a・1bによす図示しない巻線が施され
るようになっている。
上記磁気ヘッドを製造するには、第1図(a)に示すよ
うに、感光性結晶化ガラスからなる基板B1の表面に、
最終的な磁気ヘッドの厚さ、および切り代等を考慮した
ピッチA1で略V字状の溝5・・・を例えばダイシング
によって連続して形成する。谷溝5の少なくとも一方の
側壁(前記山型部の側壁でもある)5aと、基板B1の
加工前表面の法線H0とのなす角θ、は、最終的な磁気
ヘッド形態でのアジマス角にほぼ等しいことが望ましい
次に、同図(b)に示すように、側壁5a・・・に真空
蒸着法、或いは、スパッタ法などの薄膜形成技術によっ
て所定の膜厚、つまり磁気ヘッドのトラック幅にほぼ相
当する膜厚となるようにセンダスト合金からなる軟磁性
薄膜2を形成する。
その後、同図(C)および第2図に示すように、直径の
異なる2種類の円柱状のガラス棒S4a・・・S4b・
・・を用意してこれらを上記軟磁性薄膜2の形成された
複数の溝5・・・に配置する。径の大きいガラス棒S4
a・・・はその直径が1 mmに設定されており、溝訃
・・の4本につき1本の割りで配置される一方、径の小
さいガラス棒S4b・・・はその直径が0.4〜0.5
mmに設定されており、溝5・・・の4本につき3本の
割りで配置されている。そして、このようにガラス棒S
4a・・・、S4b・・・を配置した後、例えば電気炉
により、窒素雰囲気中において500°Cで30分の加
熱を行い、ガラス棒S4a・・・、S4b・・・を溶か
してガラスによる被覆を行う。
上記ガラス棒S4a・・・、S4b・・・の溶融が行わ
れると、第1図(d)および第3図に示すように、ガラ
ス4に薄い盛り上がりが生じるので、第1図(e)に示
すように、ガラス4の盛り上がった部分に対し研削を行
って平坦化する。次いで、同図(f)に示すように、基
板B1に対し、磁気ヘッド高さに相当するピッチE1で
切断を行う。
そして、上記の切り出された基板Blに対し、同図(g
)に示すように、一般のVTR用フェライトヘッドと同
様に、コイル巻線溝81a−Blbの加工や軟磁性薄膜
2におけるギャップ面7の加工を施す。次に、同図(h
)に示すように、ギャップ面7が互いに対向するように
、一対の基板B1・B1に位置合わせを行ってこれらを
加圧固定した後、低融点のガラス4が接着力を持つよう
な温度まで昇温し、ガラス溶着を行って接合し、磁気ヘ
ッドブロックB8を得る。
次に、磁気ヘッドブロックB8を所定ピッチで切り出す
ことにより、第4図の磁気ヘッド8(未だ巻線の施され
ていない段階)を得、この磁気ヘッド8を図示しないヘ
ッドベースに接着すると共に巻線溝1a・1bへの巻線
等を施すことにより磁気ヘッドが完成することになる。
上記の構成によれば、温度上昇に伴ってガラス棒S4a
・・・、S4b・・・の溶融が始をり、直径の小さいガ
ラス棒S4b・・・が先に溶融を完了することになる。
このとき、隣接するガラス棒同士が溶融し、その表面張
力により縮んで一塊になろうとするが、直径の大きいガ
ラス棒S4a・・・の芯部分が未だ熔融せずに残ってい
ることから、上記ガラス4はあまり縮まずに基板B1全
体を薄く覆うことになる。そして、溶融したガラス4と
軟磁性薄膜2とが密着したころに直径の大きいガラス棒
S4a・・・も全て溶融して適切なガラス被覆が行われ
ることになる。従って、溶融したガラス4が縮んで一塊
になって基板B1全体をガラス被覆することができなか
ったり、溶融ガラス4が多すぎて基板B1から溢れたり
若しくは厚みが厚くなり過ぎるといった不具合を解消し
て適切なガラス被覆を行うことができる。
なお、本実施例では、柱状のガラスとして円柱状のガラ
ス棒を用いたが、これに限らず、略角柱状であっても良
く、また、2種類のガラス棒S4a・・・、S4b・・
・を用いたが、このように2種類に限るものではなく、
それ以上の種類を用意してもよいものである。即ち、全
てのガラス棒が同時に溶融を完了することのないように
構成されいれば良いものである。また、ガラス棒S4a
・・・、S4b・・・の前記溝5・・・への配置も本実
施例のものに限定されることばなく、溶融後のガラス4
の厚みに偏り等が生じないような配置であれば良いもの
である。
〔発明の効果〕
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、以上のように、
基板のギャップ対向面上にほぼV字形状の複数の溝を連
続的に形成し、谷溝の一方の溝壁面に所定の膜厚で軟磁
性薄膜を形成する工程と、この工程の後に上記ギャップ
対向面上にガラスを被覆する工程とを有する磁気ヘッド
の製造方法において、上記のガラスとして直径の異なる
2種類以上の柱状のガラスを用意してこれらを上記軟磁
性薄膜の形成された複数の溝に適当に配置した後、上記
ガラスを溶融してギャップ対向面上を被覆する構成であ
る。
これにより、溶融したガラスが縮んで一塊になって基板
全体をガラス被覆することができなかったり、溶融ガラ
スが多すぎて基板から溢れたり若しくは厚みが厚くなり
過ぎるといった不具合を解消して適切なガラス被覆を行
うことができる。その上、ガラスとして直径の異なる2
種類以上の柱状のガラスを用意することが付加されるだ
けなので、磁気ヘッドの製造工程が複雑になることはな
いという効果も併せて奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第4図は本発明の一実施例を示すものであ
る。 第1図(a)は■溝加工の施された基板の断面図、同図
(b)は■溝に軟磁性薄膜が形成された基板の断面図、
同図(C)は■溝に2種類のガラス棒が配置された状態
を示す基板の断面図、同図(d)はガラスが溶融した状
態を示す基板の断面図、同図(e)はガラスを切削した
状態を示す基板の断面図、同図(f)は所定ピッチE、
での切断前の基板を示す斜視図、同図(g)は切断され
さらに外部巻線溝等の形成された基板の斜視図、同図(
h)は一対の基板よりなる磁気ヘッドブロックの斜視図
である。 第2図はV溝に2種類のガラス棒が配置された状態を示
す基板の斜視図である。 第3図はガラスが溶融した状態を示す基板の斜視図であ
る。 第4図は磁気ヘッドの斜視図である。 第5図ないし第7図は従来例を示すものである。 第5図(a)は■溝加工の施された基板の断面図、同図
(b)はV溝に軟磁性薄膜が形成された基板の断面図、
同図(C)は■溝に1種類のガラス棒が配置された状態
を示す基板の断面図、同図(d)はガラスが溶融した状
態を示す基板の断面図、同図(e)はガラスを切削した
状態を示す基板の断面図、同図(f)は所定ピッチEで
の切断前の基板を示す斜視図、同図(g)は磁気ヘッド
ブロックの斜視図である。 第6図は基板上で溶融ガラスが縮んで一塊となった状態
を示す基板の斜視図である。 第7図は基板上で熔融ガラスが溢れている状態を示す基
板の斜視図である。 第8図は他の従来例を示すものであって、ギャツブ対向
面上にガラス板が配置された状態を示す基板の断面図で
ある。 第9図は一般的な磁気ヘッドを示す斜視図である。 1は感光性結晶化ガラス、B1は基板、2磁性薄膜、3
はギャップ、4はガラス、84大径のガラス棒、S4b
は小径のガラス棒、溝、8は磁気ヘッド、B8は磁気へ
ッドブロである。 は軟 aは 5は ツク

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、基板のギャップ対向面上にほぼV字形状の複数の溝
    を連続的に形成し、各溝の一方の溝壁面に所定の膜厚で
    軟磁性薄膜を形成する工程と、この工程の後に上記ギャ
    ップ対向面上にガラスを被覆する工程とを有する、磁気
    ヘッドの製造方法において、 上記のガラスとして直径の異なる2種類以上の柱状のガ
    ラスを用意してこれらを上記軟磁性薄膜の形成された複
    数の溝に適当に配置した後、上記ガラスを溶融してギャ
    ップ対向面上を被覆することを特徴とする磁気ヘッドの
    製造方法。
JP8171689A 1989-03-31 1989-03-31 磁気ヘッドの製造方法 Pending JPH02260211A (ja)

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