JPH02262568A - オキサゾリジン―２―オン誘導体の製造法 - Google Patents
オキサゾリジン―２―オン誘導体の製造法Info
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- JPH02262568A JPH02262568A JP8267689A JP8267689A JPH02262568A JP H02262568 A JPH02262568 A JP H02262568A JP 8267689 A JP8267689 A JP 8267689A JP 8267689 A JP8267689 A JP 8267689A JP H02262568 A JPH02262568 A JP H02262568A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野〉
本発明はオキサゾリジン−２−オン誘導体から３−（２
−ブロモプロピオニル）オキサゾリジン−２−オン誘導
体を製造する方法の改良に関する。
−ブロモプロピオニル）オキサゾリジン−２−オン誘導
体を製造する方法の改良に関する。
３−（２−ブロモプロピオニル）オキサゾリジン−２−
オン誘導体はβ−ラクタム系抗生物質製造の原料として
重要な化合物である。（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅ
ｔｔｅｒｓ、２ｇ、Ｎｏ、５２．６６２５−６６２８
（１９８７）、特開昭６３−１０７６５号公報） 〈従来の技術〉 オキサゾリジン−２−オン誘導体と、２−ブロモプロピ
オニルハライドとを反応させて、３−（２−ブロモプロ
ピオニル）オキサゾリジン−２−オン誘導体を製造する
方法としては、オキサゾリジン−２−オン誘導体にブチ
ルリチウム、または水素化ナトリウムを反応させた後、
２−ブロモプロピオニルハライドを反応させる方法（Ｔ
ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ Ｓ２８．６６
２５ （１９８７）、特開昭６３−１０７６５号公報）
が知られている。
オン誘導体はβ−ラクタム系抗生物質製造の原料として
重要な化合物である。（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅ
ｔｔｅｒｓ、２ｇ、Ｎｏ、５２．６６２５−６６２８
（１９８７）、特開昭６３−１０７６５号公報） 〈従来の技術〉 オキサゾリジン−２−オン誘導体と、２−ブロモプロピ
オニルハライドとを反応させて、３−（２−ブロモプロ
ピオニル）オキサゾリジン−２−オン誘導体を製造する
方法としては、オキサゾリジン−２−オン誘導体にブチ
ルリチウム、または水素化ナトリウムを反応させた後、
２−ブロモプロピオニルハライドを反応させる方法（Ｔ
ｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ Ｓ２８．６６
２５ （１９８７）、特開昭６３−１０７６５号公報）
が知られている。
またオキサゾリジン−２−オン誘導体の３位にアシル基
を導入する方法として、オキサゾリジン−２−オン類を
Ｎ、Ｏ−ビストリメチルシリルトリフルオロアセタミド
等を用いてトリメチルシリル化し、連続してカルボン酸
ハライドを添加して反応させる方法（特開昭５７−５６
４７２号公報）が知られている。
を導入する方法として、オキサゾリジン−２−オン類を
Ｎ、Ｏ−ビストリメチルシリルトリフルオロアセタミド
等を用いてトリメチルシリル化し、連続してカルボン酸
ハライドを添加して反応させる方法（特開昭５７−５６
４７２号公報）が知られている。
上記のように、オキサゾリン−２−オン誘導体の３位に
置換基を導入する場合、２位に電子吸引性のカルボニル
基があるため３位の反応性が乏しく、一般にブチルリチ
ウムまたはトリメチルシリル化剤等で活性化して反応さ
せて行われている。
置換基を導入する場合、２位に電子吸引性のカルボニル
基があるため３位の反応性が乏しく、一般にブチルリチ
ウムまたはトリメチルシリル化剤等で活性化して反応さ
せて行われている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、上記のブチルリチウムまたは水素化ナト
リウムを用いる方法は、それらが強塩基で禁水性である
ために取り扱いが難しく、工業的に有利な製法とは云い
難い。
リウムを用いる方法は、それらが強塩基で禁水性である
ために取り扱いが難しく、工業的に有利な製法とは云い
難い。
また、オキサゾリジン−２−オン誘導体を非常に高価で
あるＮ、 Ｏ−ビストリメチルシリルトリフルオロアセ
タミド等に代えて安価で人手し易いトリメチルクロルシ
ランを用いてトリメチルシリル化し、連続して２−ブロ
モプロピオニルハライドとを反応させると、３− （２
−ブロモプロピオニル）オキサゾリジン−２−オン誘導
体のほかに３−（２−クロロプロピオニル）オキサゾリ
ジン−２−オンが大量に副生じ好ましくない。
あるＮ、 Ｏ−ビストリメチルシリルトリフルオロアセ
タミド等に代えて安価で人手し易いトリメチルクロルシ
ランを用いてトリメチルシリル化し、連続して２−ブロ
モプロピオニルハライドとを反応させると、３− （２
−ブロモプロピオニル）オキサゾリジン−２−オン誘導
体のほかに３−（２−クロロプロピオニル）オキサゾリ
ジン−２−オンが大量に副生じ好ましくない。
かかる事情に鑑み、本発明者は３−（２−ブロモプロピ
オニル）オキサゾリジン−２−オン誘導体を工業的に有
利に製造する方法を鋭意検討した結果、オキサゾリジン
−２−オン誘導体を安価なトリメチルクロルシランとア
ミン類を用いてトリメチルシリル化し、次いで副生する
アミン塩酸塩を除去した後に２−ブロモプロピオニルハ
ライドと反応させることにより副生物の生成も少なく、
穏やかな条件下に高収率で３−（２−ブロモプロピオニ
ル）オキサゾリジン−２−オン誘導体を製造できること
を見出し、本発明を完成させるに至った。
オニル）オキサゾリジン−２−オン誘導体を工業的に有
利に製造する方法を鋭意検討した結果、オキサゾリジン
−２−オン誘導体を安価なトリメチルクロルシランとア
ミン類を用いてトリメチルシリル化し、次いで副生する
アミン塩酸塩を除去した後に２−ブロモプロピオニルハ
ライドと反応させることにより副生物の生成も少なく、
穏やかな条件下に高収率で３−（２−ブロモプロピオニ
ル）オキサゾリジン−２−オン誘導体を製造できること
を見出し、本発明を完成させるに至った。
〈課題を解決するための手段〉
すなわち本発明は一般式（Ｉ）、
で表されるオキサゾリジン−２−オン誘導体を、トリメ
チルクロルシラン及び三級アミン類を用いてトリメチル
シリル化した後、副生ずるアミン塩酸塩を除去し、つい
で２−ブロモプロピオニルハライドを反応させることを
特徴とする一般式（ＩＩ）、 〔式中、Ｒ１−Ｒ１は前記した基と同一である。〕で表
される３−（２−ブロモプロピオニル）オキサゾリジン
−２−オン誘導体の製造法である。
チルクロルシラン及び三級アミン類を用いてトリメチル
シリル化した後、副生ずるアミン塩酸塩を除去し、つい
で２−ブロモプロピオニルハライドを反応させることを
特徴とする一般式（ＩＩ）、 〔式中、Ｒ１−Ｒ１は前記した基と同一である。〕で表
される３−（２−ブロモプロピオニル）オキサゾリジン
−２−オン誘導体の製造法である。
本発明に用いられるオキサゾリジン−２−オン誘導体と
しては、オキサゾリジン−２−オン、４．４−ジメチル
オキサゾリジン−２−オン、４−メチル−５−プロピル
オキサゾリジン−２−オン、４−イソプロピルオキサゾ
リジン−２−オン、４−ベンジルオキサゾリジン−２−
オン、４−フェニルオキサゾリジン−２−オン、４．４
−ジブチル−５，５−ペンタメチレンオキサゾリジン−
２−オン等を挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。
しては、オキサゾリジン−２−オン、４．４−ジメチル
オキサゾリジン−２−オン、４−メチル−５−プロピル
オキサゾリジン−２−オン、４−イソプロピルオキサゾ
リジン−２−オン、４−ベンジルオキサゾリジン−２−
オン、４−フェニルオキサゾリジン−２−オン、４．４
−ジブチル−５，５−ペンタメチレンオキサゾリジン−
２−オン等を挙げることができるが、これらに限定され
るものではない。
三級アミン類としてはトリエチルアミン、トリプロピル
アミン、トリブチルアミン等の低級アルキルアミンやピ
リジン等が用いられる。
アミン、トリブチルアミン等の低級アルキルアミンやピ
リジン等が用いられる。
オキサゾリジン−２−オン誘導体のトリメチルシリル化
に供されるトリメチルクロルシランおよび三級アミンの
使用量は、オキサゾリジン−２−オン誘導体１当量に対
して、それぞれ約１当量以上用いられる。通常約１〜１
．５当量、好ましくは約１６１〜１．３当量用いられる
。
に供されるトリメチルクロルシランおよび三級アミンの
使用量は、オキサゾリジン−２−オン誘導体１当量に対
して、それぞれ約１当量以上用いられる。通常約１〜１
．５当量、好ましくは約１６１〜１．３当量用いられる
。
トリメチルシリル化反応に使用される溶媒としては、反
応で副生ずる三級アミンの塩酸塩を溶解しにくい溶媒が
好ましく、かかる溶媒としては１．２−ジクロルエタン
、四塩化炭素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロ
ルベンゼン、酢酸エチノペ トルエンなどを挙げること
ができる。
応で副生ずる三級アミンの塩酸塩を溶解しにくい溶媒が
好ましく、かかる溶媒としては１．２−ジクロルエタン
、四塩化炭素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、クロ
ルベンゼン、酢酸エチノペ トルエンなどを挙げること
ができる。
トリメチルシリル化反応は一般には約−１０℃〜６０℃
、好ましくは約１０〜４０℃の温度で実施される。反応
温度が高いと反応混合物の着色をきたし、約−１０℃よ
り低いと工業的に実施するのに不利となるので好ましく
ない。
、好ましくは約１０〜４０℃の温度で実施される。反応
温度が高いと反応混合物の着色をきたし、約−１０℃よ
り低いと工業的に実施するのに不利となるので好ましく
ない。
トリメチルシリル化反応後、副生ずる三級アミンの塩酸
塩を除去する。三級アミンの塩酸塩は析出するので通常
、濾過してこれを除去する。
塩を除去する。三級アミンの塩酸塩は析出するので通常
、濾過してこれを除去する。
減圧濾過または加圧濾過のいずれでも行なうことができ
る。
る。
三級アミンの塩酸塩を除去しない場合、３−（２−クロ
ロプロピオニル）オキサゾリジン−２−オン誘導体が大
量に副生し好ましくない。
ロプロピオニル）オキサゾリジン−２−オン誘導体が大
量に副生し好ましくない。
三級アミンの塩酸塩を除去した後、２−ブロモプロピオ
ニルハライドを反応させて２−ブロモプロピオニル化を
行う。
ニルハライドを反応させて２−ブロモプロピオニル化を
行う。
２−ブロモプロピオニルハライドとしては、２−ブロモ
プロピオニルプロミド及び２−ブロモプロピオニルクロ
リドを挙げることができるが、好ましくは２−ブロモプ
ロピオニルプロミドが用いられる。
プロピオニルプロミド及び２−ブロモプロピオニルクロ
リドを挙げることができるが、好ましくは２−ブロモプ
ロピオニルプロミドが用いられる。
２−ブロモプロピオニルハライドの使用量はオキサゾリ
ジン−２−オン誘導体１当量ニ対シ、通常約１当量以上
用いられるが、好ましくは約１．０５〜１．２５当量用
いられる。
ジン−２−オン誘導体１当量ニ対シ、通常約１当量以上
用いられるが、好ましくは約１．０５〜１．２５当量用
いられる。
２−ブロモプロピオニル化反応の反応温度は、一般には
約０〜７０℃、好ましくは約１０〜４０℃の温度で実施
される。反応温度が約０℃より低いと反応速度が遅くな
って、反応完結に長時間を要し、反応温度が約７０℃を
越えると得られる３−（２−ブロモプロピオニル）オキ
サゾリジン−２−オン誘導体の着色が大きくなり好まし
くない。
約０〜７０℃、好ましくは約１０〜４０℃の温度で実施
される。反応温度が約０℃より低いと反応速度が遅くな
って、反応完結に長時間を要し、反応温度が約７０℃を
越えると得られる３−（２−ブロモプロピオニル）オキ
サゾリジン−２−オン誘導体の着色が大きくなり好まし
くない。
２−ブロモプロピオニル化反応の溶媒としては、シリル
化反応に引きつづいて行うことから、シリル化反応と同
一の溶媒を用いることが好ましいが、シリル化反応と異
なる溶媒を用いることもでき、また混合溶媒系で行うこ
ともできる。
化反応に引きつづいて行うことから、シリル化反応と同
一の溶媒を用いることが好ましいが、シリル化反応と異
なる溶媒を用いることもでき、また混合溶媒系で行うこ
ともできる。
反応は通常、オキサゾリジン−２−オン誘導体と溶媒及
びトリメチルクロルシランを混合した混合物中に所定の
反応温度を維持しながら三級アミンを加えて行う。反応
後、三級アミンの塩酸塩を濾過等により除去し、ついで
所定の反応温度を維持しなから２−ブロモプロピオニル
ハライドを加え、反応を行う。通常これらの反応はそれ
ぞれ約１〜３時間で終了する。
びトリメチルクロルシランを混合した混合物中に所定の
反応温度を維持しながら三級アミンを加えて行う。反応
後、三級アミンの塩酸塩を濾過等により除去し、ついで
所定の反応温度を維持しなから２−ブロモプロピオニル
ハライドを加え、反応を行う。通常これらの反応はそれ
ぞれ約１〜３時間で終了する。
上記反応方法によって得られた反応液から３−（２ブロ
モプロピオニル）オキサゾリジン−２−オン誘導体は、
抽出、水洗、蒸留または再結晶などの公知の方法によっ
て容易に原料のオキサゾリジン−２−オン誘導体、副生
物または溶媒と分離、精製することができる。
モプロピオニル）オキサゾリジン−２−オン誘導体は、
抽出、水洗、蒸留または再結晶などの公知の方法によっ
て容易に原料のオキサゾリジン−２−オン誘導体、副生
物または溶媒と分離、精製することができる。
〈発明の効果〉
本発明の方法によれば、従来の方法に比べて工業的に取
扱い難い反応剤を使うこともなく、副生物の生成が少な
く、高収率で３−（２−ブロモプロピオニル）オキサゾ
リジン−２−オン誘導体を製造することができる。
扱い難い反応剤を使うこともなく、副生物の生成が少な
く、高収率で３−（２−ブロモプロピオニル）オキサゾ
リジン−２−オン誘導体を製造することができる。
〈実施例〉
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、
本発明はこの実施例に限定されない。
本発明はこの実施例に限定されない。
実施例１
還流冷却器、温度計、攪拌器、滴下ろうとを備えたガラ
ス製反応器に、４．４−ジメチルオキサゾリジン−２−
オンを４６．１ｇ（０，４モル）、トリメチルクロルシ
ランを５２．２ｇ（０，４８モル）及び１．２−ジクロ
ルエタンを５００ｇ仕込んだ。攪拌下にこの中にトリエ
チルアミン４８．６ｇ（０，４８モル）を温度２０〜３
０℃で１時間にわたって導入した。
ス製反応器に、４．４−ジメチルオキサゾリジン−２−
オンを４６．１ｇ（０，４モル）、トリメチルクロルシ
ランを５２．２ｇ（０，４８モル）及び１．２−ジクロ
ルエタンを５００ｇ仕込んだ。攪拌下にこの中にトリエ
チルアミン４８．６ｇ（０，４８モル）を温度２０〜３
０℃で１時間にわたって導入した。
導入終了後、同温度で１時間反応させた後、析出したト
リエチルアミン塩酸塩を減圧下に濾過して除去した。濾
滓を少量の１．２−ジクロルエタンで洗浄した。濾液と
洗液を合わせ、上記と同様の反応器に仕込み、攪拌下に
この中に２−ブロモプロピオニルプロミド１０３．６ｇ
（０，４８モル）を３０〜３５℃で、１時間にわたフて
滴下した。
リエチルアミン塩酸塩を減圧下に濾過して除去した。濾
滓を少量の１．２−ジクロルエタンで洗浄した。濾液と
洗液を合わせ、上記と同様の反応器に仕込み、攪拌下に
この中に２−ブロモプロピオニルプロミド１０３．６ｇ
（０，４８モル）を３０〜３５℃で、１時間にわたフて
滴下した。
滴下終了後、同温度で１時間反応させた後、同温度で水
２００ｇを加えて攪拌し、次に分液した。有機層を５％
重曹水、ついで水で洗浄した後に溶媒を留去し、残渣に
ヘキサンを加えて結晶化させ、３− （２−ブロモプロ
ピオニル）−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−オ
ン９２．１ｇ（ｍｐ７３〜７４℃、純度９８．６％、収
率９０．８％）を得た。
２００ｇを加えて攪拌し、次に分液した。有機層を５％
重曹水、ついで水で洗浄した後に溶媒を留去し、残渣に
ヘキサンを加えて結晶化させ、３− （２−ブロモプロ
ピオニル）−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−オ
ン９２．１ｇ（ｍｐ７３〜７４℃、純度９８．６％、収
率９０．８％）を得た。
比較例
実施例１と同様の反応器に４．４−ジメチルオキサゾリ
ジン−２−オン４６．１ ｇを（０，４モル）、トリメ
チルクロルシランを５２．２ｇ（０゜４８モル）及び１
． ２−ジクロルエタンを５００ｇ仕込んだ。攪拌下に
この中にトリエチルアミン４８．６ｇ（０，４８モル）
を温度２０〜３０℃で１時間にわたって滴下した。滴下
終了後、同温度で１時間反応させた後、攪拌下にこの中
に２−ブロモプロピオニルプロミド１０３．６ｇ（０，
４８モル）を３０〜３５℃で１時間にわたって滴下した
。滴下終了後、実施例１と同様の処理を行い、３−（２
−ブロモプロピオニル）−４，４−ジメチルオキサゾリ
ジン−２−オンと３−（２−クロロプロピオニル）−４
，４−ジメチルオキサゾリジン−２−オンの混合物８５
．４ｇを得た。
ジン−２−オン４６．１ ｇを（０，４モル）、トリメ
チルクロルシランを５２．２ｇ（０゜４８モル）及び１
． ２−ジクロルエタンを５００ｇ仕込んだ。攪拌下に
この中にトリエチルアミン４８．６ｇ（０，４８モル）
を温度２０〜３０℃で１時間にわたって滴下した。滴下
終了後、同温度で１時間反応させた後、攪拌下にこの中
に２−ブロモプロピオニルプロミド１０３．６ｇ（０，
４８モル）を３０〜３５℃で１時間にわたって滴下した
。滴下終了後、実施例１と同様の処理を行い、３−（２
−ブロモプロピオニル）−４，４−ジメチルオキサゾリ
ジン−２−オンと３−（２−クロロプロピオニル）−４
，４−ジメチルオキサゾリジン−２−オンの混合物８５
．４ｇを得た。
この混合物を分析した結果、３−（２−ブロモプロピオ
ニル）−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−オンが
８９．０％含まれ・（収率７６゜０％）、３−（２−ク
ロロプロピオニル）−４４−ジメチルオキサゾリジン−
２−オンが９゜７％含まれていた（収率１ｏ、１％）。
ニル）−４，４−ジメチルオキサゾリジン−２−オンが
８９．０％含まれ・（収率７６゜０％）、３−（２−ク
ロロプロピオニル）−４４−ジメチルオキサゾリジン−
２−オンが９゜７％含まれていた（収率１ｏ、１％）。
Claims (1)
- （１）一般式（ I ）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＿１〜Ｒ＿４は同一または相異なるＣ＿１〜
Ｃ＿４のアルキル基、フェニル基、ベンジル基または水
素原子を表すか、Ｒ＿１とＲ＿２が一緒になってＣ＿２
〜Ｃ＿６のアルキレン鎖を表し、同時に、あるいは別個
にＲ＿３とＲ＿４が一緒になってＣ＿２〜Ｃ＿６のアル
キレン鎖を表す。］ で表されるオキサゾリジン−２−オン誘導体を、トリメ
チルクロルシラン及び三級アミン類を用いてトリメチル
シリル化した後、副生するアミン塩酸塩を除去し、つい
で２−ブロモプロピオニルハライドを反応させることを
特徴とする一般式（II）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ｒ＿１〜Ｒ＿４は前記した基と同一である。〕
で表される３−（２−ブロモプロピオニル）オキサゾリ
ジン−２−オン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8267689A JP2805155B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | オキサゾリジン―２―オン誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8267689A JP2805155B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | オキサゾリジン―２―オン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02262568A true JPH02262568A (ja) | 1990-10-25 |
| JP2805155B2 JP2805155B2 (ja) | 1998-09-30 |
Family
ID=13781019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8267689A Expired - Lifetime JP2805155B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | オキサゾリジン―２―オン誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2805155B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5179208A (en) * | 1990-10-19 | 1993-01-12 | Korea Institute Of Science And Technology | Process for preparing d-2-(6-methoxy-2-naphthyl)-propionic acid and intermediate thereof |
| CN102250033A (zh) * | 2011-05-27 | 2011-11-23 | 菏泽睿智科技开发有限公司 | 一种合成培南类抗生素的新型手性辅基的制备方法 |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP8267689A patent/JP2805155B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5179208A (en) * | 1990-10-19 | 1993-01-12 | Korea Institute Of Science And Technology | Process for preparing d-2-(6-methoxy-2-naphthyl)-propionic acid and intermediate thereof |
| CN102250033A (zh) * | 2011-05-27 | 2011-11-23 | 菏泽睿智科技开发有限公司 | 一种合成培南类抗生素的新型手性辅基的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2805155B2 (ja) | 1998-09-30 |
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