JPH02268561A - イメージセンサー - Google Patents
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- JPH02268561A JPH02268561A JP8971189A JP8971189A JPH02268561A JP H02268561 A JPH02268561 A JP H02268561A JP 8971189 A JP8971189 A JP 8971189A JP 8971189 A JP8971189 A JP 8971189A JP H02268561 A JPH02268561 A JP H02268561A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、イメージセンサ−に関し、詳しくは、複数の
受光素子が設けられたセンサー基板と、このセンサー基
板を支持する支持基板とを備えてなるイメージセンサ−
において、センサー基板と支持基板の位置合わせ手段に
特徴を有するイメージセンサ−に関する。
受光素子が設けられたセンサー基板と、このセンサー基
板を支持する支持基板とを備えてなるイメージセンサ−
において、センサー基板と支持基板の位置合わせ手段に
特徴を有するイメージセンサ−に関する。
イメージセンサ−は、一般に、原稿の画像情報を光電変
換により読み取る機能を有するものであり、ファクシミ
リ、スキャナー等の各種の装置に利用されている。
換により読み取る機能を有するものであり、ファクシミ
リ、スキャナー等の各種の装置に利用されている。
しかして、最近においては、イメージセンサ−の小型化
、コストダウンの要請が強く、そのため構造のコンパク
ト化および製造工程の簡略化が要請されている。
、コストダウンの要請が強く、そのため構造のコンパク
ト化および製造工程の簡略化が要請されている。
第1図はイメージセンサ−の構成の一例を示す。
同図において、10はセンサー基板、20は支持基板、
31は受光素子、32はプリント回路基板、33は駆動
用IC,34は光源、35は光学レンズ、36はカバー
ガラス、37はシャーシである。
31は受光素子、32はプリント回路基板、33は駆動
用IC,34は光源、35は光学レンズ、36はカバー
ガラス、37はシャーシである。
センサー基板10上には、多数の受光素子31とその配
線部が設けられている。このセンサー基板10は、支持
基板20上に固定され、このセンサー基板10に隣接し
てプリント回路基板32が設置されている。このプリン
ト回路基板32上には駆動用IC33が設けられ、この
駆動用I C33と、受光素子31の配線部とがワイヤ
ーボンディングにより接続されている。38はワイヤー
である。
線部が設けられている。このセンサー基板10は、支持
基板20上に固定され、このセンサー基板10に隣接し
てプリント回路基板32が設置されている。このプリン
ト回路基板32上には駆動用IC33が設けられ、この
駆動用I C33と、受光素子31の配線部とがワイヤ
ーボンディングにより接続されている。38はワイヤー
である。
支持基板20は、シャーシ37に固定され、このシャー
シ37には、光源34と、光学レンズ35と、カバーガ
ラス36が固定されている。
シ37には、光源34と、光学レンズ35と、カバーガ
ラス36が固定されている。
しかるに、このイメージセンサ−の組立は、次のように
して行われている。
して行われている。
(1)支持基板20上の所定の位置にセンサー基板10
を載置し、両者を両面テープおよび/または接着剤によ
り固定する。
を載置し、両者を両面テープおよび/または接着剤によ
り固定する。
(2)プリント回路基板32を支持基板20上に載置し
、両者を両面テープおよび/または接着剤により固定す
る。
、両者を両面テープおよび/または接着剤により固定す
る。
(3)プリント回路基板32上に、駆動用IC33をグ
イボンディングにより接続固定する。
イボンディングにより接続固定する。
(4)駆動用IC33と、センサー基板10の受光素子
31の配線部とをワイヤーボンディングにより接続し、
駆動用IC33と、プリント回路基板32とをワイヤー
ボンディングにより接続する。これにより、センサー基
板10と、支持基板20と、駆動用I C33とが一体
化されたセンサーモジュールMが得られる。
31の配線部とをワイヤーボンディングにより接続し、
駆動用IC33と、プリント回路基板32とをワイヤー
ボンディングにより接続する。これにより、センサー基
板10と、支持基板20と、駆動用I C33とが一体
化されたセンサーモジュールMが得られる。
(5)センサーモジュールMは、高い寸法精度で所定形
状に加工された支持基板20の端B20 Aがシャーシ
37の所定位置に突き当てられて、当該支持基板20が
シャーシ37に対して適正な位置に固定される。
状に加工された支持基板20の端B20 Aがシャーシ
37の所定位置に突き当てられて、当該支持基板20が
シャーシ37に対して適正な位置に固定される。
以上のようにして作製されたイメージセンサ−において
は、カバーガラス36上を通過する原稿が光源34によ
り照射され、当該原稿の光像が光学レンズ35を介して
受光素子31に至る。光学レンズ35としては、ロッド
レンズアレイ(日本板硝子■製。
は、カバーガラス36上を通過する原稿が光源34によ
り照射され、当該原稿の光像が光学レンズ35を介して
受光素子31に至る。光学レンズ35としては、ロッド
レンズアレイ(日本板硝子■製。
セルフォックレンズ)が有用であり、このロッドレンズ
アレイによれば、受光素子31上に1:1の等倍像が形
成される。
アレイによれば、受光素子31上に1:1の等倍像が形
成される。
従って、受光素子31上に正確に原稿の光像を結像させ
るためには、センサー基板10上の受光素子31が光学
レンズ35に対して高い位置精度で所定の位置に固定さ
れていなければならない。すなわち、光学レンズ35に
対して受光素子31の位置がずれていると、原稿の光像
が十分に受光素子31に到達せず、感度低下、誤信号の
原因となる。
るためには、センサー基板10上の受光素子31が光学
レンズ35に対して高い位置精度で所定の位置に固定さ
れていなければならない。すなわち、光学レンズ35に
対して受光素子31の位置がずれていると、原稿の光像
が十分に受光素子31に到達せず、感度低下、誤信号の
原因となる。
従って、結果として、センサー基板10を支持基板20
に対して高い位置精度で固定することが必要となる。
に対して高い位置精度で固定することが必要となる。
しかし、イメージセンサ−を量産化する場合において、
多数のセンサー基板10および支持基板20の固定すべ
き位置を高い精度で測定することは困難である。
多数のセンサー基板10および支持基板20の固定すべ
き位置を高い精度で測定することは困難である。
また、この測定が可能であるとしても製造工程が複雑と
なるため製造コストの上昇を招来する問題がある。
なるため製造コストの上昇を招来する問題がある。
本発明は、以上の如き事情に基づいてなされたものであ
って、その目的は、下記■〜■を満足する構造のイメー
ジセンサ−を提供することにある。
って、その目的は、下記■〜■を満足する構造のイメー
ジセンサ−を提供することにある。
■ センサー基板と支持基板とを簡単な手段により高い
位置精度で固定することができること。
位置精度で固定することができること。
■ センサー基板と支持基板とを高い再現性で固定する
ことができること。
ことができること。
■ 製造工程の簡略化により製造コストの低減を図るこ
とができること。
とができること。
本発明は、複数の受光素子が設けられたセンサー基板と
、このセンサー基板を支持する支持基板とを備えてなる
イメージセンサ−において、前記センサー基板および前
記支持基板の各々にあらかじめ位置合わせ用マークが設
けられ、これらの位置合わせ用マークが対応する位置関
係となるよう前記センサー基板が前記支持基板に固定さ
れていることを特徴とする。
、このセンサー基板を支持する支持基板とを備えてなる
イメージセンサ−において、前記センサー基板および前
記支持基板の各々にあらかじめ位置合わせ用マークが設
けられ、これらの位置合わせ用マークが対応する位置関
係となるよう前記センサー基板が前記支持基板に固定さ
れていることを特徴とする。
〔作用〕
本発明によれば、センサー基板および支持基板の各々に
あらかじめ位置合わせ用マークが設けられ、これらの位
置合わせ用マークが対応する位置関係となるようセンサ
ー基板が支持基板に固定される構造であるので、位置合
わせ用マークを対応する位置関係となるようセンサー基
板もしくは支持基板を位置調整することにより、両者を
高い位置精度で位置合わせすることができる。
あらかじめ位置合わせ用マークが設けられ、これらの位
置合わせ用マークが対応する位置関係となるようセンサ
ー基板が支持基板に固定される構造であるので、位置合
わせ用マークを対応する位置関係となるようセンサー基
板もしくは支持基板を位置調整することにより、両者を
高い位置精度で位置合わせすることができる。
位置合わせ用マークの位置関係の確認は、例えば顕微鏡
等の簡単な手段により行うことができるので、製造工程
を複雑化することなく、両者を高い位置精度で固定する
ことができる。
等の簡単な手段により行うことができるので、製造工程
を複雑化することなく、両者を高い位置精度で固定する
ことができる。
位置合わせ用マークは、受光素子の形成工程を利用する
等により簡単に形成することができるので、製造工程を
複雑化することがない。
等により簡単に形成することができるので、製造工程を
複雑化することがない。
また、再現性の高い固定ができるので、量産化に好適で
ある。
ある。
以下、本発明を具体的に説明する。
本発明においては、第1図に示したような構成のイメー
ジセンサ−において、第2図に示すように、センサー基
板10および支持基板20の各々にあらかじめ位置合わ
せ用マーク51および52を設ける。
ジセンサ−において、第2図に示すように、センサー基
板10および支持基板20の各々にあらかじめ位置合わ
せ用マーク51および52を設ける。
位置合わせ用マーク51および52は、それぞれセンサ
ー基板10および支持基板20の余ったスペースを利用
して設けることができ、1カ所のみならず例えば両端の
2カ所に設けてもよい。第2図において、31は受光素
子、31Aは共通電極、31Cは個別電極である。
ー基板10および支持基板20の余ったスペースを利用
して設けることができ、1カ所のみならず例えば両端の
2カ所に設けてもよい。第2図において、31は受光素
子、31Aは共通電極、31Cは個別電極である。
位置合わせ用マーク51および52の位置関係は、最終
的には、支持基板20がシャーシ37に固定されたとき
に、光学レンズ35の中心と、センサー基板10の受光
素子31の中心とが、例えば200p以内の位置精度で
一致するような位置関係に設定される。
的には、支持基板20がシャーシ37に固定されたとき
に、光学レンズ35の中心と、センサー基板10の受光
素子31の中心とが、例えば200p以内の位置精度で
一致するような位置関係に設定される。
位置合わせ用マーク51および52の具体的な形状は相
当に大きな自由度で変更することができ、例えば両者が
全く同一の形状であって相互の一致状態を確認して位置
合わせを行う方式、両者が異なる形状であって一方の形
状が他方の形状に対して特定の位置関係にあることを確
認して位置合わせを行う方式等を採用することができる
。
当に大きな自由度で変更することができ、例えば両者が
全く同一の形状であって相互の一致状態を確認して位置
合わせを行う方式、両者が異なる形状であって一方の形
状が他方の形状に対して特定の位置関係にあることを確
認して位置合わせを行う方式等を採用することができる
。
位置合わせ用マーク51および52の代表例を第3図(
a)〜(C)に示す。
a)〜(C)に示す。
第3図(a)の例は、一方の位置合わせ用マーク51が
十字形からなり、他方の位置合わせ用マーク52が四方
に配置された4つのブロックからなる。この例において
は、第4図(a)に示すように、位置合わせ用マーク5
2を構成する4つのブロックの隣接する2個がそれぞれ
位置合わせ用マーク51における十字形の4つの端部を
挟む状態となることを確認して位置合わせを行う態様で
ある。
十字形からなり、他方の位置合わせ用マーク52が四方
に配置された4つのブロックからなる。この例において
は、第4図(a)に示すように、位置合わせ用マーク5
2を構成する4つのブロックの隣接する2個がそれぞれ
位置合わせ用マーク51における十字形の4つの端部を
挟む状態となることを確認して位置合わせを行う態様で
ある。
第3図(ハ)の例は、一方の位置合わせ用マーク51が
大きな矩形状の枠形からなり、他方の位置合わせ用マー
ク52が小さな矩形状の枠形からなる。この例において
は、第4図(b)に示すように、位置合わせ用マーク5
2における小さな矩形状の枠形が、位置合わせ用マーク
51における大きな矩形状の枠形の内部に収まる状態と
なることを確認して位置合わせを行う態様である。
大きな矩形状の枠形からなり、他方の位置合わせ用マー
ク52が小さな矩形状の枠形からなる。この例において
は、第4図(b)に示すように、位置合わせ用マーク5
2における小さな矩形状の枠形が、位置合わせ用マーク
51における大きな矩形状の枠形の内部に収まる状態と
なることを確認して位置合わせを行う態様である。
第3図(C)の例は、一方の位置合わせ用マーク51が
山形状のラインからなり、他方の位置合わせ用マーク5
2が対向する一対のブロックの2組からなる。この例に
おいては、第4図(C)に示すように、位置合わせ用マ
ーク51における山形状のラインの2つの裾の部分が、
それぞれ位置合わせ用マーク52における一対のブロッ
ク間に挟まれた状態になることを確認して位置合わせを
行う態様である。
山形状のラインからなり、他方の位置合わせ用マーク5
2が対向する一対のブロックの2組からなる。この例に
おいては、第4図(C)に示すように、位置合わせ用マ
ーク51における山形状のラインの2つの裾の部分が、
それぞれ位置合わせ用マーク52における一対のブロッ
ク間に挟まれた状態になることを確認して位置合わせを
行う態様である。
位置合わせ用マーク51および52の大きさは、実用土
の許容範囲を考慮して、最大200μ×200μ屑程度
とするのが好ましい。
の許容範囲を考慮して、最大200μ×200μ屑程度
とするのが好ましい。
センサー基板10の位置合わせ用マーク51は、受光素
子31の配線部を形成する工程を利用して、当該配線部
と同一の材料により配線部と同時に形成することができ
る。この場合は、工程の簡略化を図ることができる。
子31の配線部を形成する工程を利用して、当該配線部
と同一の材料により配線部と同時に形成することができ
る。この場合は、工程の簡略化を図ることができる。
また、受光素子31の配線部を形成する前もしくは後に
、印刷法またはレジスト法により位置合わせ用マーク5
1をセンサー基板10に形成してもよい。
、印刷法またはレジスト法により位置合わせ用マーク5
1をセンサー基板10に形成してもよい。
支持基板20の位置合わせ用マーク52は、印刷法また
はレジスト法により形成することができる。
はレジスト法により形成することができる。
センサー基板10の構成材料としては、ガラス等の透明
の材料を用いることができる。
の材料を用いることができる。
支持基板20の構成材料としては、ガラス、アルミニウ
ム、ステンレス等の透明もしくは不透明の材料を用いる
ことができる。
ム、ステンレス等の透明もしくは不透明の材料を用いる
ことができる。
センサー基板10と支持基板20とを固定する際には、
センサー基板10の位置合わせ用マーク51が支持基板
20の位置合わせ用マーク52に対応する位置関係とな
るようにセンサー基板10または支持基板20の位置を
調整する。
センサー基板10の位置合わせ用マーク51が支持基板
20の位置合わせ用マーク52に対応する位置関係とな
るようにセンサー基板10または支持基板20の位置を
調整する。
このように位置合わせ用マーク51および52が対応す
る位置関係となった状態において、センサー基板lOと
支持基板20とを固定する。
る位置関係となった状態において、センサー基板lOと
支持基板20とを固定する。
本発明に用いられる受光素子31は、アモルファスシリ
コン、CCD、Cd5−CdSe 、バイポーラ、C−
MOSのいずれであってもよい。
コン、CCD、Cd5−CdSe 、バイポーラ、C−
MOSのいずれであってもよい。
次に、本発明の実施例について説明するが、本発明はこ
れらの態様に限定されない。
れらの態様に限定されない。
実施例1
(センサー基板の製造)
第5図に示すように、ガラス製の基板10A上に、IT
Oからなる共通電極31Aと、a−Siからなる半導体
層31Bと、アルミニウムからなる個別電極31Cとの
積層体よりなる受光素子31を形成した。
Oからなる共通電極31Aと、a−Siからなる半導体
層31Bと、アルミニウムからなる個別電極31Cとの
積層体よりなる受光素子31を形成した。
アルミニウムからなる個別電極31Cを形成する際に、
基板10Aにおける受光素子31が設けられていない端
部に、第3図(a)と同様の形態の位置合わせ用マーク
51をアルミニウムにより形成した。
基板10Aにおける受光素子31が設けられていない端
部に、第3図(a)と同様の形態の位置合わせ用マーク
51をアルミニウムにより形成した。
このマーク51は、第6図に示すように、縦の長さAは
200p層、横の長さBは200p、線幅Cは20μm
である。また、マーク51の中心から基板10Aの長手
方向の端部までの距離りは2.0m+n、マーク51の
中心から基板10Aの幅方向の端部までの距離Eは4.
5mm、個別電極31Cの半導体層31Bとの積層部分
の中心から基板10Aの幅方向の端部までの距離Fは2
. Ommである。
200p層、横の長さBは200p、線幅Cは20μm
である。また、マーク51の中心から基板10Aの長手
方向の端部までの距離りは2.0m+n、マーク51の
中心から基板10Aの幅方向の端部までの距離Eは4.
5mm、個別電極31Cの半導体層31Bとの積層部分
の中心から基板10Aの幅方向の端部までの距離Fは2
. Ommである。
(支持基板の製造)
アルミニウムからなる支持基板20の端部に、スクリー
ン印刷法により、第3図ら)と同様の形態の位置合わせ
用マーク52を黒色インクにより形成した。
ン印刷法により、第3図ら)と同様の形態の位置合わせ
用マーク52を黒色インクにより形成した。
このマーク52は、第6図に示すように、ブロック1個
における長さGは100n、ブロック間の距離Hは40
μm、4個のブロックの中心から支持基板200幅方向
の一方の端部2OBまでの距離Jは2.0ml、他方の
端部2OAまでの距離には4.0+nm、 4個のブロ
ックの中心から支持基板20の長手方向の端部20Cま
での距離りは2.5韮である。
における長さGは100n、ブロック間の距離Hは40
μm、4個のブロックの中心から支持基板200幅方向
の一方の端部2OBまでの距離Jは2.0ml、他方の
端部2OAまでの距離には4.0+nm、 4個のブロ
ックの中心から支持基板20の長手方向の端部20Cま
での距離りは2.5韮である。
(センサー基板と支持基板の固定)
倍率100倍の顕微鏡を用いて位置合わせ用マーク51
および52を観察しながら、これらのマーク51および
52が第4図(a)に示す状態で重なり合うよう、セン
サー基板10と支持基板20との位置合わせを行い、両
者を両面テープにより接着固定した。
および52を観察しながら、これらのマーク51および
52が第4図(a)に示す状態で重なり合うよう、セン
サー基板10と支持基板20との位置合わせを行い、両
者を両面テープにより接着固定した。
(評価)
以上のようにして多数のセンサー基板と支持基板との固
定作業を行った後、支持基板20の幅方向の他方の端部
2OAから受光素子31の中央部までの距離のバラツキ
を測定したところ、最大で100nであり、実用上十分
な精度であった。
定作業を行った後、支持基板20の幅方向の他方の端部
2OAから受光素子31の中央部までの距離のバラツキ
を測定したところ、最大で100nであり、実用上十分
な精度であった。
なお、第1図に示したように、支持基板20は、その他
方の端部2OAがシャーシ37の所定位置に突き当てら
れて固定されるので、当該端部2OAから受光素子31
の中央部までの距離が一定であれば、受光素子31上に
正確に原稿の光像を結像させることができる。
方の端部2OAがシャーシ37の所定位置に突き当てら
れて固定されるので、当該端部2OAから受光素子31
の中央部までの距離が一定であれば、受光素子31上に
正確に原稿の光像を結像させることができる。
比較例1
位置合わせ用マーク51および52を形成せずに、倍率
100倍の顕微鏡を用いて、センサー基板10および支
持基板20の位置を確認しながら両者の位置合わせを行
い、センサー基板10と支持基板20とを両面テープに
より接着固定した。
100倍の顕微鏡を用いて、センサー基板10および支
持基板20の位置を確認しながら両者の位置合わせを行
い、センサー基板10と支持基板20とを両面テープに
より接着固定した。
(評価)
以上のようにして多数のセンサー基板と支持基板との固
定作業を行った後、支持基板200幅方向の他方の端部
2OAから受光素子31の中央部までの距離のバラツキ
を測定したところ、最大で500JIMであり、実用的
に問題のあるものであった。
定作業を行った後、支持基板200幅方向の他方の端部
2OAから受光素子31の中央部までの距離のバラツキ
を測定したところ、最大で500JIMであり、実用的
に問題のあるものであった。
本発明によれば、センサー基板および支持基板に位置合
わせ用マークを設けるので、センサー基板と支持基板と
を簡単な手段により高い位置精度で固定することができ
、しかも、センサー基板と支持基板とを高い再現性で固
定することができ、さらに、製造工程の簡略化により製
造コストの低減を図ることができる。
わせ用マークを設けるので、センサー基板と支持基板と
を簡単な手段により高い位置精度で固定することができ
、しかも、センサー基板と支持基板とを高い再現性で固
定することができ、さらに、製造工程の簡略化により製
造コストの低減を図ることができる。
第1図はイメージセンサ−の全体の概略図、第2図はセ
ンサー基板および支持基板の概略図、第3図(a)〜(
C)は位置合わせ用マークの具体例を示す説明図、 第4図は位置合わせ用マークが重なり合った状態を示す
説明図、 第5図は受光素子の構成例を示す説明図、第6図は実施
例に係るセンサー基板および支持基板の概略図である。 10・・・センサー基板 10A・・・ガラス製の
基板20・・・支持基板 31・・・受光素子
31A・・・共通電極 31B・・・半導体層3
1C・・・個別電極 32・・・プリント回路基
板33・・・駆動用IC34・・・光源 35・・・光学レンズ 36・・・カバーガラス
37・・・シャーシ 38・・・ワイヤー41
、42・・・接着剤 51.52・・・位置合わせ用マーク CG”1 21−3図 (b) +4図 (C)
ンサー基板および支持基板の概略図、第3図(a)〜(
C)は位置合わせ用マークの具体例を示す説明図、 第4図は位置合わせ用マークが重なり合った状態を示す
説明図、 第5図は受光素子の構成例を示す説明図、第6図は実施
例に係るセンサー基板および支持基板の概略図である。 10・・・センサー基板 10A・・・ガラス製の
基板20・・・支持基板 31・・・受光素子
31A・・・共通電極 31B・・・半導体層3
1C・・・個別電極 32・・・プリント回路基
板33・・・駆動用IC34・・・光源 35・・・光学レンズ 36・・・カバーガラス
37・・・シャーシ 38・・・ワイヤー41
、42・・・接着剤 51.52・・・位置合わせ用マーク CG”1 21−3図 (b) +4図 (C)
Claims (1)
- (1)複数の受光素子が設けられたセンサー基板と、こ
のセンサー基板を支持する支持基板とを備えてなるイメ
ージセンサーにおいて、 前記センサー基板および前記支持基板の各々にあらかじ
め位置合わせ用マークが設けられ、これらの位置合わせ
用マークが対応する位置関係となるよう前記センサー基
板が前記支持基板に固定されていることを特徴とするイ
メージセンサー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8971189A JPH02268561A (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | イメージセンサー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8971189A JPH02268561A (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | イメージセンサー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02268561A true JPH02268561A (ja) | 1990-11-02 |
Family
ID=13978356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8971189A Pending JPH02268561A (ja) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | イメージセンサー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02268561A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6677166B2 (en) * | 1998-03-06 | 2004-01-13 | Applied Materials, Inc. | Method for confirming alignment of a substrate support mechanism in a semiconductor processing system |
| JP2011182302A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Mitsubishi Electric Corp | イメージセンサ用基板 |
| JP2014143719A (ja) * | 2014-03-14 | 2014-08-07 | Mitsubishi Electric Corp | イメージセンサ用基板 |
-
1989
- 1989-04-11 JP JP8971189A patent/JPH02268561A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6677166B2 (en) * | 1998-03-06 | 2004-01-13 | Applied Materials, Inc. | Method for confirming alignment of a substrate support mechanism in a semiconductor processing system |
| US7331250B2 (en) | 1998-03-06 | 2008-02-19 | Applied Materials, Inc. | Sensor device for non-intrusive diagnosis of a semiconductor processing system |
| US7434485B2 (en) | 1998-03-06 | 2008-10-14 | Applied Materials, Inc. | Sensor device for non-intrusive diagnosis of a semiconductor processing system |
| JP2011182302A (ja) * | 2010-03-03 | 2011-09-15 | Mitsubishi Electric Corp | イメージセンサ用基板 |
| JP2014143719A (ja) * | 2014-03-14 | 2014-08-07 | Mitsubishi Electric Corp | イメージセンサ用基板 |
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