JPH02268963A - 生型鋳造における吸引鋳造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、生型鋳造における吸引鋳造方法に関する。

（従来の技術） 砂型で形成した生型鋳型により鋳造する場合、注湯時に
鋳型や中子から多量のガスが発生し、該ガスが製品内に
入り込んでガス欠陥が生じる。

そこで、従来は、鋳型にガス抜き穴や、揚がりを設けて
ガスを大気中に放出し、ガス欠陥の発生を防止していた
。

しかし、ガス抜き穴や揚がりを設けても、ガスを完全に
大気中に放出することができず、残ったガスは鋳物製品
の表面層にガス欠陥として残ると言う問題があった。

そこで、例えば、特開昭５７−１６０５６５号公報に記
載のように、鋳造時に発生する鋳型ガスをガス吸引ポン
プにより強制的に吸引して、鋳型外に排出するようにし
た吸引鋳造方法が提案されている。

（発明が解決しようとする課題） 前記従来の吸引鋳造方法によれば、ガス欠陥の発生は防
止されるが、しかし、この従来法は、鋳型に、中子に達
するガス抜き穴を設け、このガス抜き穴に吸引管を接続
してガスを吸引排出するものであるから、鋳型には、押
し湯や揚がり（へヶ湯）を従来と同様に設けなければな
らなかった。

従って、従来の吸引鋳造方法では、鋳型製作時に、押し
湯や揚がりの穴明は作業が必要となり、かつ、注湯時に
は、押し湯や揚がりに不用な湯を供給しなければならず
鋳造歩溜りが悪くなり、更に、製品の出荷に際して、押
し湯や揚がりをグラインダ等で取り除く作業が必要とな
り、また、加工に際しては、押し湯跡や揚がり跡を機械
加工しなければならず、コスト高を招いていた。

そこで、本発明は、押し湯や揚がりを不要とした吸引鋳
造方法を提供することを目的とする。

（課題を解決するための手段） 前記目的を達成するため、本発明は、次の手段を講じた
。即ち、本発明の特徴とする処は、生型の鋳型に注湯す
るときに発生する鋳型ガスおよび中子ガスを、鋳型の表
面から個別に吸引し、かつ、鋳型ガスと中子ガスの吸引
圧力を個別に調整自在とした点にある。

（作　　用） 本発明によれば、鋳型から発生する鋳型ガス、および、
中子から発生する中子ガスは、個別に吸引される。そし
て、この吸引圧力は個別に調整される。従って、ガス発
生量に見合った適切な吸引が行われ、かつ、鋳型内の製
品形成中空部内の空気も吸引排出されるので、押し湯や
陽がりがなくとも、湯は鋳型内を充満することができる
。

（実施例） 以下、本発明の実施例を図面に基づき説明する。

第１図及び第２図に示すものは、本発明方法に使用され
る鋳造装置である。同図において、１は下枠、２は上枠
、３は下部鋳型、４は上部鋳型、５は中子である。前記
下枠ｌは図示省略のパレット上に置かれている。このパ
レットは、造型場、注湯場、砂処理場を循環するエンド
レスコンベヤ上に載置されている。

前記上、下部鋳型３，４及び中子５は砂型から成る生型
である。上・下部鋳型３，４と中子５間に、製品成形用
の中空部６が形成され、この中空部６に湯道７が連通し
ている。この鋳型には、従来のような押し湯や揚がりは
形成されていない。

前記中子５は中空中子であり、咳中子５の中空部８に連
通ずるガス抜き孔９が、上部鋳型４に形成されている。

このガス抜き孔９は上部鋳型４の上面に開口している。

また、このガス抜き孔９は、上枠２の周辺部に複数個配
置されている。

前記上枠２及び上部鋳型４の上面（注湯口を除いて）を
覆うように吸引パッド１０が着脱自在に載置されている
。このパッド１０と上枠２及び上部鋳型４間にシール材
１１が介在されて気密が保持されている。

前記吸引パッド１０内は、複数のブロックＡ−Ｈに区画
されている。各ブロックＡ〜已に制御弁１２を介して吸
引パイプ１３が接続され、この吸引バイブ１３は真空ポ
ンプ（図示省略）に接続されている。

前記各ブロックＡ−Ｅ毎に設けられた制御弁１２は吸引
圧力を個別に制御し、かつ、入・切制御する。

次に、前記鋳型装置を用いて鋳造する方法を説明する。

パレット上に載置された鋳型が注湯場に来ると、湯道７
を除いた上部鋳型４の上面及び上枠２の上面が吸引パッ
ド１０で覆われる。次に、湯道７から溶湯が注湯される
。湯道７を通った湯は製品中空部６を充満する。

前記注湯に際し、溶湯からガスが発生し、かつ上部鋳型
４から鋳型ガスが発生する。また中子５から中子ガスが
発生する。これらのガスは吸引パッド１０を介して強制
吸引される。

即ち、中子ガスは中子５の中空部８及びガス抜き孔９を
介してパッド１０のブロックＡに吸引される。また、溶
湯ガスや鋳型ガスは、上部鋳型４の上面からブロックＢ
−Ｈに吸引される。本実施例では、中子ガスが多量に発
生するので、ブロックＡの吸引圧力が他のブロックより
も強くなるよう制御弁１２が自動制御されている。

本実施例によれば、注湯に際して強制吸引するので、鋳
型内の製品中空部６の空気も吸われるので、従来のよう
な押し湯や揚がりがなくとも、溶湯は中空部６に充満す
る。従って、押し湯や揚がりが不要になる。

前記パッド１０による吸引時間は、注湯開始前から、溶
湯が凝固するまでである。この吸引が終了すると制御弁
１２は閉じられ、パッド１０は鋳型から取外され、該鋳
型は次工程に移動する。そして、パッド１０は、新しく
来た鋳型の上面に取付けられる。

尚、製品の形状に応じて、パッド１０内のブロックＡ−
Ｅの吸引圧力は制御弁１２により個別に調整される。

本発明は前記実施例に限定されるものではない。

（発明の効果） 本発明によれば、ガス欠陥が防止され、高品質の製品を
鋳造することができ、かつ押し湯や揚がりが不要となり
、製造コストの低減が図れるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法に使用する鋳型装置の断面図、第２
図はパッド内部を区画した状態を示す平面図である。 １．２・・・上下枠、３．４・・・上下鋳型、５・・・
中子、１０・・・吸引パッド。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）生型の鋳型に注湯するときに発生する鋳型ガスお
   よび中子ガスを、鋳型の表面から個別に吸引し、かつ、
   鋳型ガスと中子ガスの吸引圧力を個別に調整自在とした
   ことを特徴とする生型鋳造における吸引鋳造方法。