JPH02268A - スルホンアニリド化合物 - Google Patents
スルホンアニリド化合物Info
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- JPH02268A JPH02268A JP63292060A JP29206088A JPH02268A JP H02268 A JPH02268 A JP H02268A JP 63292060 A JP63292060 A JP 63292060A JP 29206088 A JP29206088 A JP 29206088A JP H02268 A JPH02268 A JP H02268A
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- Furan Compounds (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Quinoline Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、スルホンアニリド化合物、さらに詳細には消
炎作用を有する新規なスルホンアニリド化合物およびそ
の製薬学的に許容きれる塩に関する。
炎作用を有する新規なスルホンアニリド化合物およびそ
の製薬学的に許容きれる塩に関する。
従ヌ1ソえ宣
消炎作用を有するスルホンアニリド化合物に関しては、
米国特許第3.840.597号明細書、同第3.85
6、859号明細書、同第3.906.024号明細書
、特開昭61−10584号公報などがあり、それぞれ
酸素原子、硫黄原子等を介して置換フェニル基が置換し
たスルホンアニリド化合物[たとえば、N−(4ニトロ
−2−フェノキシフェニル)メタンスルホンアミドなど
コが開示されている。
米国特許第3.840.597号明細書、同第3.85
6、859号明細書、同第3.906.024号明細書
、特開昭61−10584号公報などがあり、それぞれ
酸素原子、硫黄原子等を介して置換フェニル基が置換し
たスルホンアニリド化合物[たとえば、N−(4ニトロ
−2−フェノキシフェニル)メタンスルホンアミドなど
コが開示されている。
発明が解決しようとする課題
消炎作用を有する薬剤は、臨床上の副作用として、特に
消化管障害が問題となっている。
消化管障害が問題となっている。
本発明は長期投与に耐え得る安全性の高い薬剤を提供す
ることを目的とする。
ることを目的とする。
課題を解決するための手段
本発明者らは、上記を目的に鋭意検討した結果、消炎、
解熱、鎮痛作用などを有するため消炎剤、解熱剤、鎮痛
剤として有用であり、しかも消化管障害などの副作用の
少ない安全性の高い化合物を見出し、本発明を完成した
。
解熱、鎮痛作用などを有するため消炎剤、解熱剤、鎮痛
剤として有用であり、しかも消化管障害などの副作用の
少ない安全性の高い化合物を見出し、本発明を完成した
。
本発明は、式I
[式中、R1は低級アルキル基またはトリフルオロメチ
ル基を示し、 R1はシクロアルキリデンメチル基、2−ピリミジルア
ミノ基、式 (式中、Aは酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基また
はスルホニル基を示し、R1は炭素原子数5〜8個のシ
クロアルキル基;低級アルキル基、オキソ基、ヒドロキ
シ基もしくはメタンスルホニルオキシ基の1ないし2個
で置換された炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基;
炭素原子数3〜6個のシクロアルキル基で置換されたメ
チル基;テトラヒドロピラニル基;テトラヒド口チ才ピ
ラニル基;1−メチルピペリジル基;トロボニル基;イ
ンダニル基;ベンゾチアゾリル基;アダマンチル基;キ
ノリル基;アルケニル基;またはモルホリノ基もしくは
1−メチルピペラジノ基で置換された炭素原子数2〜4
個のアルキレン基を示す。)で表わされる基または式 (式中、Bはカルボニル基、ヒドロキシメチレン基また
はメチレン基を示し、R4は炭素原子数5〜8個のシク
ロアルキル基を示す。)で表わされる基を示す。]で、
表わされるスルホンアニリド化合物およびその製薬学的
に許容される塩である。
ル基を示し、 R1はシクロアルキリデンメチル基、2−ピリミジルア
ミノ基、式 (式中、Aは酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基また
はスルホニル基を示し、R1は炭素原子数5〜8個のシ
クロアルキル基;低級アルキル基、オキソ基、ヒドロキ
シ基もしくはメタンスルホニルオキシ基の1ないし2個
で置換された炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基;
炭素原子数3〜6個のシクロアルキル基で置換されたメ
チル基;テトラヒドロピラニル基;テトラヒド口チ才ピ
ラニル基;1−メチルピペリジル基;トロボニル基;イ
ンダニル基;ベンゾチアゾリル基;アダマンチル基;キ
ノリル基;アルケニル基;またはモルホリノ基もしくは
1−メチルピペラジノ基で置換された炭素原子数2〜4
個のアルキレン基を示す。)で表わされる基または式 (式中、Bはカルボニル基、ヒドロキシメチレン基また
はメチレン基を示し、R4は炭素原子数5〜8個のシク
ロアルキル基を示す。)で表わされる基を示す。]で、
表わされるスルホンアニリド化合物およびその製薬学的
に許容される塩である。
本発明において、シクロアルキリデンメチル基とは、た
とえば、シクロペンチリデンメチル基、シクロヘキシリ
デンメチル基などである。低級アルキルとは、メチル基
、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、
ターシャリ−ブチル基などの炭素原子数1〜4個のアル
キル基である。炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基
とは、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへ
ブチル基およびシクロオクチル基である。炭素原子数3
〜6個のシクロアルキル基で置、換されたメチル基とは
、たとえば、シクロプロピルメチル基、シクロヘキシル
メチルなどである。また、インダニル基、ベンゾチアゾ
リル基およびキノリル基は、それらのいずれの位置で置
換していてもよく、たとえば、1−インダニル基、2−
インダニル基、5−インダニル基、2−ベンゾチアゾリ
ル基、5−ベンゾチアゾリル基、2−キノリル基、4−
キノリル基などである。アルケニル基とは、炭素原子数
2〜5個のアルケニル基であり、たとえば、アリル基、
ペンテニル基、イソペンテニル基などである。
とえば、シクロペンチリデンメチル基、シクロヘキシリ
デンメチル基などである。低級アルキルとは、メチル基
、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、
ターシャリ−ブチル基などの炭素原子数1〜4個のアル
キル基である。炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基
とは、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへ
ブチル基およびシクロオクチル基である。炭素原子数3
〜6個のシクロアルキル基で置、換されたメチル基とは
、たとえば、シクロプロピルメチル基、シクロヘキシル
メチルなどである。また、インダニル基、ベンゾチアゾ
リル基およびキノリル基は、それらのいずれの位置で置
換していてもよく、たとえば、1−インダニル基、2−
インダニル基、5−インダニル基、2−ベンゾチアゾリ
ル基、5−ベンゾチアゾリル基、2−キノリル基、4−
キノリル基などである。アルケニル基とは、炭素原子数
2〜5個のアルケニル基であり、たとえば、アリル基、
ペンテニル基、イソペンテニル基などである。
製薬学的に許容きれる塩とは、リチウム塩、ナトリウム
塩、カリウム塩、カルシウム塩などの無機塩のほか、ト
リエチルアミン、エタノールアミンなどの有機アミンと
の塩などである。
塩、カリウム塩、カルシウム塩などの無機塩のほか、ト
リエチルアミン、エタノールアミンなどの有機アミンと
の塩などである。
本発明の好ましい化合物としては、式■において、R1
が式−A−R”(式中、Aは酸素原子、硫黄i子、スル
フィニル基またはスルホニル基であり、R1は炭素原子
数5〜8個のシクロアルキル基;低級アルキル基、オキ
ソ基、ヒドロキシ基もしくはメタンスルホニルオキシ基
の1ないし2個で置換された炭素原子数5〜8個のシク
ロアルキル基;テトラヒドロピラニル基またはテトラヒ
ドロチオピラニル基である。)で表わされる化合物であ
る。きらに好ましくは、式■において、R”が式−A−
R’C式中、Aは酸素原子または硫黄原子であり% R
”はシクロペンチル基、シクロヘキシル基またはテトラ
ヒドロ−4H−チオピラニル基である。)で表わされる
化合物である。
が式−A−R”(式中、Aは酸素原子、硫黄i子、スル
フィニル基またはスルホニル基であり、R1は炭素原子
数5〜8個のシクロアルキル基;低級アルキル基、オキ
ソ基、ヒドロキシ基もしくはメタンスルホニルオキシ基
の1ないし2個で置換された炭素原子数5〜8個のシク
ロアルキル基;テトラヒドロピラニル基またはテトラヒ
ドロチオピラニル基である。)で表わされる化合物であ
る。きらに好ましくは、式■において、R”が式−A−
R’C式中、Aは酸素原子または硫黄原子であり% R
”はシクロペンチル基、シクロヘキシル基またはテトラ
ヒドロ−4H−チオピラニル基である。)で表わされる
化合物である。
式Iの化合物は、たとえば、公知の化合物から下記に示
す方法によって製造することができる。
す方法によって製造することができる。
(1)R”が−A−R”l;中、R”it前記ト同、を
義である。)であり、Aが酸素原子または硫黄原子であ
る式Iの化合物は、2−ハロニトロベンゼンを出発物質
として得ることができる。すなわち、2−ハロニトロベ
ンゼンを塩基および/または銅の存在下、式R”−YH
(式中、R1は前記と同意義であり、Yは酸素原子また
は硫黄原子である。)で示される化合物と反応きせ、下
記式Iで示される化合物を得ることができる(式中、Y
およびR1は前記と同意義である)。
義である。)であり、Aが酸素原子または硫黄原子であ
る式Iの化合物は、2−ハロニトロベンゼンを出発物質
として得ることができる。すなわち、2−ハロニトロベ
ンゼンを塩基および/または銅の存在下、式R”−YH
(式中、R1は前記と同意義であり、Yは酸素原子また
は硫黄原子である。)で示される化合物と反応きせ、下
記式Iで示される化合物を得ることができる(式中、Y
およびR1は前記と同意義である)。
本反応における塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなどの水酸化アルカリ、水素化ナトリウム、
水素化カリウムなどの水素化アルカリ、炭酸ナトリウム
、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ、ナトリウムエトキ
シド、ターシャリ−ブトキシカリウムなどのアルフラー
トなどが用いられる。
化カリウムなどの水酸化アルカリ、水素化ナトリウム、
水素化カリウムなどの水素化アルカリ、炭酸ナトリウム
、炭酸カリウムなどの炭酸アルカリ、ナトリウムエトキ
シド、ターシャリ−ブトキシカリウムなどのアルフラー
トなどが用いられる。
次いで、式■の化合物を還元してアミノ体とする。還元
は、ニトロ基を還元してアミノ基とする通常の還元方法
でよく、たとえば、パラジウム−炭素や白金を用いる接
触還元、鉄や錫を用いる還元、硫化ナトリウム−塩化ア
ン、モニウムを用いる還元、水素化ホウ素ナトリウムを
用いる還元、水素化リチウムアルミニウムを用いる還元
などである。
は、ニトロ基を還元してアミノ基とする通常の還元方法
でよく、たとえば、パラジウム−炭素や白金を用いる接
触還元、鉄や錫を用いる還元、硫化ナトリウム−塩化ア
ン、モニウムを用いる還元、水素化ホウ素ナトリウムを
用いる還元、水素化リチウムアルミニウムを用いる還元
などである。
引き続き、上記で得たアミン体を式
%式%)
(式中、R1は前記と同意義であり、又はフッ素、塩素
、臭素またはヨウ素である。)で示される化合物と反応
させスルホンアニリド体とし、さらにニトロ化すること
により下式■ (式中、RI R1およびYは前記と同意義である。
、臭素またはヨウ素である。)で示される化合物と反応
させスルホンアニリド体とし、さらにニトロ化すること
により下式■ (式中、RI R1およびYは前記と同意義である。
)で表わされる本発明の化合物を得ることができる。
(2)R”が−〇−R”(式中、R3は前記と同意義で
ある。)である式■の化合物は、2−ヒドロキシ−4−
ニトロアニリンを出発物質としても得ることができる。
ある。)である式■の化合物は、2−ヒドロキシ−4−
ニトロアニリンを出発物質としても得ることができる。
すなわち、2−ヒドロキシ−4ニトロアニリンを塩基存
在下、R”−X(式中、RMおよびXは前記と同意義で
ある。)で示される化合物と反応させ、次いで、式 %式%) (式中、R1およびXは前記と同意義である。)で示さ
れる化合物と反応きせることによりRIが−0−R”で
ある式■の化合物を得ることができる。
在下、R”−X(式中、RMおよびXは前記と同意義で
ある。)で示される化合物と反応させ、次いで、式 %式%) (式中、R1およびXは前記と同意義である。)で示さ
れる化合物と反応きせることによりRIが−0−R”で
ある式■の化合物を得ることができる。
<3)R”が−A−R’(式中、Aは前記と同意義であ
る。)であり、R3がヒドロキシ基で置換されたシクロ
アルキル基である式■の5化合物は、下記の方法によっ
ても得ることができる。
る。)であり、R3がヒドロキシ基で置換されたシクロ
アルキル基である式■の5化合物は、下記の方法によっ
ても得ることができる。
すなわち、前記(1)の方法で得たR1がオキソシクロ
アルキル基である式■の化合物を、還元することによっ
て得ることができる。本反応における還元方法は、ケト
ンをアルフールに変換する通常の方法でよく、たとえば
、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウ
ム、ジボラン、リチウム、ナトリウムなどを用いる方法
が挙げられる。
アルキル基である式■の化合物を、還元することによっ
て得ることができる。本反応における還元方法は、ケト
ンをアルフールに変換する通常の方法でよく、たとえば
、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウ
ム、ジボラン、リチウム、ナトリウムなどを用いる方法
が挙げられる。
(4)R’が−A−R”(式中、Aは前記と同意義であ
る。)であり、Raがオキソシクロアルキル基である式
■の化合物は、下記の方法によっても得ることができる
。
る。)であり、Raがオキソシクロアルキル基である式
■の化合物は、下記の方法によっても得ることができる
。
すなわち、前記(1)の方法で得た下記式■(式中、R
1およびAは前記と同意義であり、R8はヒドロキシ基
で置換きれたシクロアルキル基である。)で示きれる化
合物を酸化した後、前記(1)と同様にニトロ化するこ
とにより得ることができる。本反応における酸化方法は
、アルコールをケトンに変換する通常の方法でよく、た
とえば、三酸化クロム(ジョーンズ試薬、コリンズ試薬
など)、過マンガン酸カリウム、二酸化マンガン、ジメ
チルスルホキシドなどを用いる方法が挙げられる。
1およびAは前記と同意義であり、R8はヒドロキシ基
で置換きれたシクロアルキル基である。)で示きれる化
合物を酸化した後、前記(1)と同様にニトロ化するこ
とにより得ることができる。本反応における酸化方法は
、アルコールをケトンに変換する通常の方法でよく、た
とえば、三酸化クロム(ジョーンズ試薬、コリンズ試薬
など)、過マンガン酸カリウム、二酸化マンガン、ジメ
チルスルホキシドなどを用いる方法が挙げられる。
(5)R’が−A−R”(式中、RJt前記とILt義
である。)であり、Aがスルフィニル基またはスルホニ
ル基である式■の化合物は、前記(1)の方法で得たR
1が−8−R”である式Iの化合物を、スルフィドをス
ルスルホキシドまたはスルホンに変換する通常の酸化方
法(たとえば、過酸化水素、過酢酸、m−クロロ過安息
香酸、過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウムな
どを用いる方法)で酸化することによって得ることがで
きる。
である。)であり、Aがスルフィニル基またはスルホニ
ル基である式■の化合物は、前記(1)の方法で得たR
1が−8−R”である式Iの化合物を、スルフィドをス
ルスルホキシドまたはスルホンに変換する通常の酸化方
法(たとえば、過酸化水素、過酢酸、m−クロロ過安息
香酸、過マンガン酸カリウム、過ヨウ素酸ナトリウムな
どを用いる方法)で酸化することによって得ることがで
きる。
(6)R”が−B−R’(式中、R4は前記と同意義で
ある。)であり、Bがカルボニル基である式Iの化合物
は、2−アミノベンゾニトリルを出発物質として得−る
ことができる。
ある。)であり、Bがカルボニル基である式Iの化合物
は、2−アミノベンゾニトリルを出発物質として得−る
ことができる。
すなわち、2−アミノベンゾニトリルをRIを含む有機
金属化合物と反応きせた後、加水分解することにより2
−シクロアルキルカルボニルアニリン化合物を得る01
本反応におけるR4を含む有機金属化合物とは、シクロ
ペンチルマグネシウムクロリド、シクロヘキシルマグネ
シウムクロリド、シクロヘキシルマグネシウムプロミド
、シクロペンチルリチウム、シクロヘキシルリチウム、
シクロヘキシル銅リチウムなどのグリニヤー試薬、リチ
ウム化合物、銅リチウム化合物などである0次いで、こ
の2−シクロアルキルカルボニルアニリン化合物を前記
(1)と同様にスルホニル化およびニトロ化を順次行う
ことにより、Bがカルボニル基である下記式V (式中、R1およびR4は前記と同意義である。)で表
わされる化合物を得ることができる。
金属化合物と反応きせた後、加水分解することにより2
−シクロアルキルカルボニルアニリン化合物を得る01
本反応におけるR4を含む有機金属化合物とは、シクロ
ペンチルマグネシウムクロリド、シクロヘキシルマグネ
シウムクロリド、シクロヘキシルマグネシウムプロミド
、シクロペンチルリチウム、シクロヘキシルリチウム、
シクロヘキシル銅リチウムなどのグリニヤー試薬、リチ
ウム化合物、銅リチウム化合物などである0次いで、こ
の2−シクロアルキルカルボニルアニリン化合物を前記
(1)と同様にスルホニル化およびニトロ化を順次行う
ことにより、Bがカルボニル基である下記式V (式中、R1およびR4は前記と同意義である。)で表
わされる化合物を得ることができる。
(7)R”が−B −R’(式中、R4は前記と同意義
である。)であり、Bがヒドロキシメチレン基である式
Iの化合物は、上記(6)で得たBがカルボニル基であ
る式Vの化合物を還元することにより得ることができる
0本反応における還元方法は、前記(3)と同様である
。
である。)であり、Bがヒドロキシメチレン基である式
Iの化合物は、上記(6)で得たBがカルボニル基であ
る式Vの化合物を還元することにより得ることができる
0本反応における還元方法は、前記(3)と同様である
。
(8)R”がシクロアルキリデンメチル基である式■の
化合物は、上記(7)で得たBがヒドロキシメチレン基
である式Vの化合物を脱水反応することにより得ること
ができる0本反応における脱水方法は、アルコールをオ
レフィンに変換する通常の方法でよく、たとえば、硫酸
水素カリウム、硫酸、リン酸、無水酢酸、無水フタル酸
、塩化チオニル−ピリジン、オキシ塩化リン−ピリジン
などを用いる方法が挙げられる。
化合物は、上記(7)で得たBがヒドロキシメチレン基
である式Vの化合物を脱水反応することにより得ること
ができる0本反応における脱水方法は、アルコールをオ
レフィンに変換する通常の方法でよく、たとえば、硫酸
水素カリウム、硫酸、リン酸、無水酢酸、無水フタル酸
、塩化チオニル−ピリジン、オキシ塩化リン−ピリジン
などを用いる方法が挙げられる。
<9)R”が−B−R’(式中、R4は前記と同意義で
ある。)であり、Bがメチレン基である式■の化合物は
、以下の方法により得ることができる。
ある。)であり、Bがメチレン基である式■の化合物は
、以下の方法により得ることができる。
すなわち、上記(8)で得たR1がシクロアルキリデン
メチル基である式lの化合物を接触還元することにより
下記式■ (式中、R″は前記と同意義であり、R′はシクロアル
キル基である。)で示される化合物を得ることができる
。
メチル基である式lの化合物を接触還元することにより
下記式■ (式中、R″は前記と同意義であり、R′はシクロアル
キル基である。)で示される化合物を得ることができる
。
次いで、式■の化合物を、アミノ基をニトロ基に変換す
る通常の方法で酸化することによりBがメチレン基であ
る目的化合物を得ることができる。本反応における酸化
方法は、たとえば、過マンガン酸カリウム、過酸化水素
、トリプルオロ過酢酸、亜硝酸ナトリウム−酸化第一銅
などを用いる方法が挙げられる。
る通常の方法で酸化することによりBがメチレン基であ
る目的化合物を得ることができる。本反応における酸化
方法は、たとえば、過マンガン酸カリウム、過酸化水素
、トリプルオロ過酢酸、亜硝酸ナトリウム−酸化第一銅
などを用いる方法が挙げられる。
(10) R”が式
で表わされる化合物は、2−ニトロベンズアルデヒドを
式 (式中、Phはフェニル基を示す、)で表わされる化合
物と反応させ(ウィツテイヒ反応)、次いで、前記(1
)と同様に還元、スルホニル化およびニトロ化を順次行
うことにより得ることができる。
式 (式中、Phはフェニル基を示す、)で表わされる化合
物と反応させ(ウィツテイヒ反応)、次いで、前記(1
)と同様に還元、スルホニル化およびニトロ化を順次行
うことにより得ることができる。
(11)式Iの化合物の製薬学的に許容される塩は、式
Iの化合物を水または有機溶媒中、塩基で処理すること
により得ることができる6本反応における塩基とは、水
酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
の水酸化物、ナトリウムエトキシド、ターシャリ−ブト
キシカリウムなどのアルフラート、トリエチルアミン、
エタノールアミンなどの重機アミンが挙げられる。
Iの化合物を水または有機溶媒中、塩基で処理すること
により得ることができる6本反応における塩基とは、水
酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど
の水酸化物、ナトリウムエトキシド、ターシャリ−ブト
キシカリウムなどのアルフラート、トリエチルアミン、
エタノールアミンなどの重機アミンが挙げられる。
λ1立羞ゑ
本発明の化合物は、消炎、解熱、鎮痛作用などを示し、
しかも消化管障害および貧血を主体とした毒性試験にお
いて従来の化合物と比較して副作用が少なかった。従っ
て、本発明の化合物は消炎剤、解熱剤、鎮痛剤として有
用である。
しかも消化管障害および貧血を主体とした毒性試験にお
いて従来の化合物と比較して副作用が少なかった。従っ
て、本発明の化合物は消炎剤、解熱剤、鎮痛剤として有
用である。
この目的のためには、この化合物を経口または非経口的
に慣用の投与剤型で投与することができる。これらは、
たとえば錠剤、粉剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、液剤
、乳剤、懸濁剤、注射剤などであり、いずれも通常の製
剤技術で製造することができる。ヒトに対して消炎剤、
解熱剤、鎮痛剤として用いる場合、その投与量は、年齢
、体重、症状、投与経路、投与回数などによって異なる
が、通常1日当り10〜2000mgである。
に慣用の投与剤型で投与することができる。これらは、
たとえば錠剤、粉剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤、液剤
、乳剤、懸濁剤、注射剤などであり、いずれも通常の製
剤技術で製造することができる。ヒトに対して消炎剤、
解熱剤、鎮痛剤として用いる場合、その投与量は、年齢
、体重、症状、投与経路、投与回数などによって異なる
が、通常1日当り10〜2000mgである。
以下、試験例を挙げ本発明化合物の有用性を説明する。
試験例1
[カラゲニンを用いる浮腫抑制試験]
カラゲニンを用いるウィンターらの方法[Jou−rn
al of Pharmacology and Ex
perimental Iher−apeutiC!
、第141巻、第369頁(1963年)]に準拠し
て行った。ウィスター系雄性ラット(1群6匹)に、本
発明化合物を5%アラビアゴム水溶液に懸濁した液を体
重100gあたり1mlの投与容量でカラゲニン投与の
1時間前に経口投与し、イブプロフェンを対照薬として
その浮腫抑制のED、。値を求めて抗炎症作用を調べた
。
al of Pharmacology and Ex
perimental Iher−apeutiC!
、第141巻、第369頁(1963年)]に準拠し
て行った。ウィスター系雄性ラット(1群6匹)に、本
発明化合物を5%アラビアゴム水溶液に懸濁した液を体
重100gあたり1mlの投与容量でカラゲニン投与の
1時間前に経口投与し、イブプロフェンを対照薬として
その浮腫抑制のED、。値を求めて抗炎症作用を調べた
。
その結果を第1表に示した。
第1表
(注)
a:N−(2−シクロへキシルオキシ−4−二トロフェ
ニル)メタンスルホンアミド b : N−(2−シクロへキシルオキシ−4−二トロ
フェニル)トリプルオロメタンスルホンアミド c:N−(2−シクロペンチルチオ−4−二トロフェニ
ル〉メタンスルホンアミド d : N−[4−ニトロ−2−(テトラヒドロ−4H
−チオピラン−4−イルオキシ〉フェニルコトリフルオ
ロメタンスルホンアミド試験例2 [ラットにおける14日間毒性試験] 試験動物は、ウィスター系雄性ラット(体重151、1
〜173.9g)を1群7匹使用した。
ニル)メタンスルホンアミド b : N−(2−シクロへキシルオキシ−4−二トロ
フェニル)トリプルオロメタンスルホンアミド c:N−(2−シクロペンチルチオ−4−二トロフェニ
ル〉メタンスルホンアミド d : N−[4−ニトロ−2−(テトラヒドロ−4H
−チオピラン−4−イルオキシ〉フェニルコトリフルオ
ロメタンスルホンアミド試験例2 [ラットにおける14日間毒性試験] 試験動物は、ウィスター系雄性ラット(体重151、1
〜173.9g)を1群7匹使用した。
N−(2−シクロへキシルオキシ−4−二トロフェニル
)メタンスルホンアミド(以下、化合物1と称する)は
、5%アラビアゴム水溶液に懸濁し、体重100gあた
り0.5mlの投与容量で、75mg/kgおよび15
0mg/kgを1日1回、14日日間−投与した。
)メタンスルホンアミド(以下、化合物1と称する)は
、5%アラビアゴム水溶液に懸濁し、体重100gあた
り0.5mlの投与容量で、75mg/kgおよび15
0mg/kgを1日1回、14日日間−投与した。
また、比較薬として、N−(4−ニトロ−2−フェノキ
シフェニル)メタンスルホンアミド(以下、比較薬1と
称する)の75mg/kgおよび150mg/kgなら
びにイブプロフェン(以下、比較薬2と称する)の15
0mg/ kgを同様に経口投与し、その毒性を比較し
た。
シフェニル)メタンスルホンアミド(以下、比較薬1と
称する)の75mg/kgおよび150mg/kgなら
びにイブプロフェン(以下、比較薬2と称する)の15
0mg/ kgを同様に経口投与し、その毒性を比較し
た。
なお、コントロール群には5%アラビアゴム水溶液のみ
を同様に経口投与した。
を同様に経口投与した。
〈結 果〉
(1)−膜状態、体重変動、死亡状況
第1図に体重変動、第2表に死亡状況を示した。
化合物1の各群には、投与期間を通じて一般状態の変化
、体重変動および死亡例は認められなかった。
、体重変動および死亡例は認められなかった。
比較薬1の各群および比較薬2群では、投与初期から主
として貧血症状(耳翼、眼球、四肢端の蒼白化)および
体重の減少または増加抑制が認められた。また、比較薬
1 (75mg/ kg)群の7例中1例と比較薬1
(150mg/ kg )群の7例中6例に死亡が認め
られた。該死亡例には、主要剖検所見として原品粘膜の
出血と小腸下部領域の多発性潰瘍が観察された。
として貧血症状(耳翼、眼球、四肢端の蒼白化)および
体重の減少または増加抑制が認められた。また、比較薬
1 (75mg/ kg)群の7例中1例と比較薬1
(150mg/ kg )群の7例中6例に死亡が認め
られた。該死亡例には、主要剖検所見として原品粘膜の
出血と小腸下部領域の多発性潰瘍が観察された。
第2表 死亡状況
(2)血液学的検査、血液生化学的検査主な変化として
、比較薬1の各群および比較薬2群に赤血球数、ヘモグ
ロビン量およびヘマトクリット値の減少などが認められ
た(第3表)。
、比較薬1の各群および比較薬2群に赤血球数、ヘモグ
ロビン量およびヘマトクリット値の減少などが認められ
た(第3表)。
一方、化合物1の各群には、該諸変化は認められなかっ
た。
た。
第3表 血液学的検査
発性潰瘍、腸間膜リンパ節の腫脹などが観察された。
第4表に臓器の絶対および相対重量変化を示した。比較
薬1の各群および比較薬2群では、肺臓および腸間膜リ
ンパ節重量の増加が認められた。
薬1の各群および比較薬2群では、肺臓および腸間膜リ
ンパ節重量の増加が認められた。
一方、化合物1の各群には、該諸変化は認められなかっ
た。
た。
第4表 組織重量
Ra1(ff@″) 215 220 233 3
63” 423± 8 ± 8 ±n ±111 382゜ ±75 (3)病理学的検査 比較薬1の各群および比較薬2群では、生存例における
主要剖検所見として、小腸下部領域の多Ab:絶対重量
、 Rel 、相対重量塞」1例 次に、実施例を挙げ、本発明化合物の製造方法を詳細に
説明する。
63” 423± 8 ± 8 ±n ±111 382゜ ±75 (3)病理学的検査 比較薬1の各群および比較薬2群では、生存例における
主要剖検所見として、小腸下部領域の多Ab:絶対重量
、 Rel 、相対重量塞」1例 次に、実施例を挙げ、本発明化合物の製造方法を詳細に
説明する。
実施例1
(1) 60%水素化ナトリウム0.92gを含むジオ
キサン40m1!懸濁液にシクロヘキサノール2.5m
Qを室温下15分間かけて加え、同温度で1時間攪拌後
、さらに約50℃で3.5時間攪拌した0反応液を室温
ニ戻した後、2−フルオロニトロベンゼン3.2gを含
むジオキサン10m1溶液を滴下し、室温下−夜攪拌し
た。ジオキサンを留去後、クロロホルムで抽出し、クロ
ロホルム層を水、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた油状物
をg圧蒸留し、2−(シクロへキシルオキシ)ニトロベ
ンゼン3.8gを得た。
キサン40m1!懸濁液にシクロヘキサノール2.5m
Qを室温下15分間かけて加え、同温度で1時間攪拌後
、さらに約50℃で3.5時間攪拌した0反応液を室温
ニ戻した後、2−フルオロニトロベンゼン3.2gを含
むジオキサン10m1溶液を滴下し、室温下−夜攪拌し
た。ジオキサンを留去後、クロロホルムで抽出し、クロ
ロホルム層を水、次いで飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた油状物
をg圧蒸留し、2−(シクロへキシルオキシ)ニトロベ
ンゼン3.8gを得た。
b、p、・130〜134@C10,5〜0.7市Hg
(2) 2−シクロヘキシルオキシニトロベンゼン3
.7gおよび5%パラジウム−炭素0.2gを含むエタ
ノール50賊溶液を水素雰囲気下、室温で攪拌しながら
接触還元した。パラジウム−炭素を濾過して除き、濾液
を留去して淡褐色結晶の2−(シクロへキシルオキシ)
アニリン2.9gを得た。
(2) 2−シクロヘキシルオキシニトロベンゼン3
.7gおよび5%パラジウム−炭素0.2gを含むエタ
ノール50賊溶液を水素雰囲気下、室温で攪拌しながら
接触還元した。パラジウム−炭素を濾過して除き、濾液
を留去して淡褐色結晶の2−(シクロへキシルオキシ)
アニリン2.9gを得た。
m、p、 55〜56°C
(3)2−(シクロへキシルオキシ)アニリン2.7g
を含むピリジン20m1溶液に水冷下撹拌しながらメタ
ンスルホニルクロリド1.8gを滴下し、滴下終了後、
室温で2時間攪拌した。反応液を氷水中に注ぎ、希塩酸
で酸性にした。析出した結晶を濾取し、水洗後、乾燥し
て得られた粗結晶3.8gをエタノール−n−ヘキサン
より再M晶してN−(2−シクロへキシルオキシフェニ
ル)メタンスルホンアミド3.4gを得た。
を含むピリジン20m1溶液に水冷下撹拌しながらメタ
ンスルホニルクロリド1.8gを滴下し、滴下終了後、
室温で2時間攪拌した。反応液を氷水中に注ぎ、希塩酸
で酸性にした。析出した結晶を濾取し、水洗後、乾燥し
て得られた粗結晶3.8gをエタノール−n−ヘキサン
より再M晶してN−(2−シクロへキシルオキシフェニ
ル)メタンスルホンアミド3.4gを得た。
m、p、 113〜115℃
(4)N−(2−シクロヘキシルオキシフェニル)メタ
ンスルホンアミド3.4gを含む酢酸20m1溶液に約
110℃に加熱しながら61%硝酸1.5gを30分間
かけて滴下し、さらに1時間攪拌した。反応液を氷水中
に注ぎ、希水酸化ナトリウム水溶液で中和した。析出し
た結晶を濾取し、水洗、乾燥して得られた粗結晶4.5
gをエタノール−n−ヘキサンより再結晶してN−(2
−シクロへキシルオキシ−4−ニトロフェニル)メタン
スルホンアミド3.3gを得た。
ンスルホンアミド3.4gを含む酢酸20m1溶液に約
110℃に加熱しながら61%硝酸1.5gを30分間
かけて滴下し、さらに1時間攪拌した。反応液を氷水中
に注ぎ、希水酸化ナトリウム水溶液で中和した。析出し
た結晶を濾取し、水洗、乾燥して得られた粗結晶4.5
gをエタノール−n−ヘキサンより再結晶してN−(2
−シクロへキシルオキシ−4−ニトロフェニル)メタン
スルホンアミド3.3gを得た。
m、p、 136〜137℃
実施例1と同様にして、下記に示きれる化合物を得た。
N−(2−シクロペンチルオキシ−4−ニトロフェニル
)メタンスルホンアミド m、p、 155.5〜157.5℃ N−(2−ネオメンチルオキシ−4−ニトロフェニル)
メタンスルホンアミド m、p、 127.5〜129℃ N−(2−J2−メンチルオキシ−4−ニトロフェニル
)メタンスルホンアミド m、p、 109〜111℃ N−[2−()ランス−2−メチルシクロへキシルオキ
シ)−4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミド m、p、 87〜88℃ N−[2−(シス−2−メチルシクロへキシルオキシ)
−4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミド m、p、 93〜94℃ N−[2−<3−メチルシクロへキシルオキシ)−4−
ニトロフェニルコメタンスルホンアミドm、p、 95
〜96℃ N−[2−(4−メチルシクロヘキシルオキシ)−4−
ニトロフェニルコメタンスルホンアミドm、 p、 1
36〜137’C N−[4−ニトロ−2−(8−キノリニルオキシ〉フェ
ニルコメタンスルホンアミド ff1.p、 136〜138℃ N−[2−(5−インダニルオキシ)−4−ニトロフェ
ニルコメタンスルホンアミド m、p、 165〜166℃ N−[2−(1−メチルピペリジン−4−イルオキシ)
−4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミド m、p、140〜142℃ N−[4−ニトロ−2−(テトラヒドロ−4H−ピラン
−4−イルオキシ)フェニルコメタンスルホンアミド m、p、 183〜184℃ N−[2−(6−ベンゾチアゾリルオキシ)−4ニトロ
フエニルコメタンスルホンアミドn1.p、 176〜
177℃ N−[2−(2−モルホリノエトキシ)−4−ニトロフ
ェニルコメタンスルホンアミド (油状物) ’H−NMR(CDCff3)δ: 2、54〜2.67(4Lm> 、 2.68〜2.7
8(2H,m) 。
)メタンスルホンアミド m、p、 155.5〜157.5℃ N−(2−ネオメンチルオキシ−4−ニトロフェニル)
メタンスルホンアミド m、p、 127.5〜129℃ N−(2−J2−メンチルオキシ−4−ニトロフェニル
)メタンスルホンアミド m、p、 109〜111℃ N−[2−()ランス−2−メチルシクロへキシルオキ
シ)−4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミド m、p、 87〜88℃ N−[2−(シス−2−メチルシクロへキシルオキシ)
−4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミド m、p、 93〜94℃ N−[2−<3−メチルシクロへキシルオキシ)−4−
ニトロフェニルコメタンスルホンアミドm、p、 95
〜96℃ N−[2−(4−メチルシクロヘキシルオキシ)−4−
ニトロフェニルコメタンスルホンアミドm、 p、 1
36〜137’C N−[4−ニトロ−2−(8−キノリニルオキシ〉フェ
ニルコメタンスルホンアミド ff1.p、 136〜138℃ N−[2−(5−インダニルオキシ)−4−ニトロフェ
ニルコメタンスルホンアミド m、p、 165〜166℃ N−[2−(1−メチルピペリジン−4−イルオキシ)
−4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミド m、p、140〜142℃ N−[4−ニトロ−2−(テトラヒドロ−4H−ピラン
−4−イルオキシ)フェニルコメタンスルホンアミド m、p、 183〜184℃ N−[2−(6−ベンゾチアゾリルオキシ)−4ニトロ
フエニルコメタンスルホンアミドn1.p、 176〜
177℃ N−[2−(2−モルホリノエトキシ)−4−ニトロフ
ェニルコメタンスルホンアミド (油状物) ’H−NMR(CDCff3)δ: 2、54〜2.67(4Lm> 、 2.68〜2.7
8(2H,m) 。
3、05(3H,s) 、 3.79〜3.90(4H
,m) 。
,m) 。
4、25〜4.35(2H,m) 、 5.09(LH
,bs) 。
,bs) 。
7、73(IH,d、J=9Hz) 、 7.92(L
H,d、J=2Hz) 。
H,d、J=2Hz) 。
8.00(IH,dd、J=9Hz、2Hz)N−(2
−シクロプロピルメトキシ−4−二トロフェニル)メタ
ンスルホンアミド m、p、 143〜145℃ N−[2−(1−アダマンチルオキシ)−4−ニトロフ
ェニルコメタンスルホンアミド m、p、 193.5〜194.5℃ N−[2−(2−ヒドロキシシクロヘキシルオキシ〉−
4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミドm、p、
142〜145℃ N−[2−(2−メタンスルホニルオキシシクロへキシ
ルオキシ)−4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミ
ド m、p、168〜172℃ N−(2−シクロヘプチルオキシ−4−二トロフェニル
)メタンスルホンアミド m、p、 113.5〜114.5℃ 実施例2 (1) シクロヘキサンチオール7.4g、水酸化カリ
ウム4.2g、メタノール70m1lの混合液を室温下
、水酸化カリウムが溶けるまで攪拌した。減圧下に溶媒
を留去した後、ジオキサン100m1lを加え、水冷下
゛、攪拌しなから2−フル才ロニトロベンゼン6.0g
を含むジオキサン20m1溶液を滴下した。滴下終了後
、室温で45分間攪拌した後、反応液を希水酸化ナトリ
ウム水溶液に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル層を
希水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。エーテルを留去し
て得られた黄色油状物10.9 gをシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:ジクロ
ロメタン■14:1〜ヘキサン:酢酸エチル冨19:1
)により精製し、黄色油状の2−(シクロヘキシルチオ
)ニトロベンゼン9.2gを得た。
−シクロプロピルメトキシ−4−二トロフェニル)メタ
ンスルホンアミド m、p、 143〜145℃ N−[2−(1−アダマンチルオキシ)−4−ニトロフ
ェニルコメタンスルホンアミド m、p、 193.5〜194.5℃ N−[2−(2−ヒドロキシシクロヘキシルオキシ〉−
4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミドm、p、
142〜145℃ N−[2−(2−メタンスルホニルオキシシクロへキシ
ルオキシ)−4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミ
ド m、p、168〜172℃ N−(2−シクロヘプチルオキシ−4−二トロフェニル
)メタンスルホンアミド m、p、 113.5〜114.5℃ 実施例2 (1) シクロヘキサンチオール7.4g、水酸化カリ
ウム4.2g、メタノール70m1lの混合液を室温下
、水酸化カリウムが溶けるまで攪拌した。減圧下に溶媒
を留去した後、ジオキサン100m1lを加え、水冷下
゛、攪拌しなから2−フル才ロニトロベンゼン6.0g
を含むジオキサン20m1溶液を滴下した。滴下終了後
、室温で45分間攪拌した後、反応液を希水酸化ナトリ
ウム水溶液に注ぎ、エーテルで抽出した。エーテル層を
希水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。エーテルを留去し
て得られた黄色油状物10.9 gをシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:ジクロ
ロメタン■14:1〜ヘキサン:酢酸エチル冨19:1
)により精製し、黄色油状の2−(シクロヘキシルチオ
)ニトロベンゼン9.2gを得た。
b、p、144〜146℃10.8闘Hg(2)2−(
シクロヘキシルチオ)ニトロベンゼン8.5g、鉄粉9
.6g、塩化アンモニウム0.61 gおよび水22m
Qの混合液を90℃に加熱し、3時間攪拌した0反応液
を室温に戻した後、セライトで濾過し、ジクロロメタン
で抽出した。ジクロロメタン層を水、飽和食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し
、黄色油状の2−(シクロヘキシルチオ)アニリン7.
3gを得た。
シクロヘキシルチオ)ニトロベンゼン8.5g、鉄粉9
.6g、塩化アンモニウム0.61 gおよび水22m
Qの混合液を90℃に加熱し、3時間攪拌した0反応液
を室温に戻した後、セライトで濾過し、ジクロロメタン
で抽出した。ジクロロメタン層を水、飽和食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し
、黄色油状の2−(シクロヘキシルチオ)アニリン7.
3gを得た。
b、p、 126〜128°C/1.6閤電(3)2
−(シクロへキシルチオ)アニリン3.5gを含むピリ
ジン35m11溶液に水冷下、メタンスルホニルクロリ
ド3.9gを滴下し、さらに1.5時間攪拌した0反応
液を氷水中に注ぎ、希塩酸で酸性にし、ジクロロメタン
で抽出した。ジクロロメタン層を水、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し
て得られた黄褐色油状物5.8gをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチ
ル諺9:1の混合液)で精製し、さらに四塩化炭素−n
−ヘキサンより再結晶してN−(2−シクロへキシルチ
オフェニル)メタンスルホンアミド4.0gを得た。
−(シクロへキシルチオ)アニリン3.5gを含むピリ
ジン35m11溶液に水冷下、メタンスルホニルクロリ
ド3.9gを滴下し、さらに1.5時間攪拌した0反応
液を氷水中に注ぎ、希塩酸で酸性にし、ジクロロメタン
で抽出した。ジクロロメタン層を水、飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し
て得られた黄褐色油状物5.8gをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチ
ル諺9:1の混合液)で精製し、さらに四塩化炭素−n
−ヘキサンより再結晶してN−(2−シクロへキシルチ
オフェニル)メタンスルホンアミド4.0gを得た。
m、p、 50〜51℃
(4)N−(2−シクロヘキシルチオフェニル)メタン
スルホンアミド1.0gを含む酢酸10m1l溶液に6
5℃に加熱しながら61%硝酸0.41 gを滴下し、
きらに1時間攪拌した0反応液を室温に戻した後、氷水
中に注ぎ、希水酸化ナトリウム水溶液で中和し、ジクロ
ロメタンで抽出した。ジクロロメタン層を水、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を留去して得られた赤褐色粗結晶1.6gをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン:
ジクロロメタン−1=1)で精製し、淡黄色結晶0.6
gを得た。これを酢酸エチル−n−ヘキサンより再結晶
して、N−(2−シクロヘキシルチオ−4−ニトロフェ
ニル)メタンスルホンアミドの無色結晶0.52gを得
た。
スルホンアミド1.0gを含む酢酸10m1l溶液に6
5℃に加熱しながら61%硝酸0.41 gを滴下し、
きらに1時間攪拌した0反応液を室温に戻した後、氷水
中に注ぎ、希水酸化ナトリウム水溶液で中和し、ジクロ
ロメタンで抽出した。ジクロロメタン層を水、飽和食塩
水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を留去して得られた赤褐色粗結晶1.6gをシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒:n−ヘキサン:
ジクロロメタン−1=1)で精製し、淡黄色結晶0.6
gを得た。これを酢酸エチル−n−ヘキサンより再結晶
して、N−(2−シクロヘキシルチオ−4−ニトロフェ
ニル)メタンスルホンアミドの無色結晶0.52gを得
た。
m、p、 139.5〜140.5℃
実施例2と同様にして、下記の化合物を得た。
N−(2−シクロペンチルチオ−4−ニトロフェニル)
メタンスルホンアミド ff1.I)、 134.5〜135.5℃N−[2−
(2−ベンゾチアゾリルチオ)−4−ニトロプエニルコ
メタンスルホンアミドm、p、 166〜167℃ 実施例3 実施例2で得たN−(2−シクロヘキシルチオ−4−二
トロフェニル)メタンスルホンアミド2.0gを含むク
ロロホルム60td溶液を−20〜−1O℃に冷却しな
がら、m−クロロ過安息香酸1.4gを含むクロロホル
ム20m1溶液を3分間かけて滴下し、さらに6分間攪
拌した0反応液を氷水中に注ぎ、希水酸化ナトリウム水
溶液で中和し、クロロホルムで抽出した。クロロホルム
層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。
メタンスルホンアミド ff1.I)、 134.5〜135.5℃N−[2−
(2−ベンゾチアゾリルチオ)−4−ニトロプエニルコ
メタンスルホンアミドm、p、 166〜167℃ 実施例3 実施例2で得たN−(2−シクロヘキシルチオ−4−二
トロフェニル)メタンスルホンアミド2.0gを含むク
ロロホルム60td溶液を−20〜−1O℃に冷却しな
がら、m−クロロ過安息香酸1.4gを含むクロロホル
ム20m1溶液を3分間かけて滴下し、さらに6分間攪
拌した0反応液を氷水中に注ぎ、希水酸化ナトリウム水
溶液で中和し、クロロホルムで抽出した。クロロホルム
層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。
溶媒を留去して得られた粗結晶2.1gをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒ブクロロホルム:メ
タノール−10:1)で精製し、さらに酢酸エチル−n
−ヘキサンより再結晶してN−(2−シクロヘキシルス
ルフィニル−4−ニトロフェニル)メタンスルホンアミ
ドの淡黄色結晶1.7gを得た。
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒ブクロロホルム:メ
タノール−10:1)で精製し、さらに酢酸エチル−n
−ヘキサンより再結晶してN−(2−シクロヘキシルス
ルフィニル−4−ニトロフェニル)メタンスルホンアミ
ドの淡黄色結晶1.7gを得た。
m、p、 197〜199°C
実施例4
実施例3で得たN−(2−シクロへキシルスルフィニル
−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミド1.2g
を含むクロロホルム20m1l溶液に水冷、攪拌下、m
−クロロ過安息香酸3.9gを含むクロロホルム60m
Q溶液を滴下し、3時間攪拌した。反応液を氷水中に注
ぎ、希水酸化ナトリウム水溶液で中和し、クロロホルム
で抽出した。クロロホルム層を水、飽和食塩水で順次洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去して
得られた粗結晶をエーテルで洗浄後、酢酸エチル−n−
ヘキサンより再結晶してN−(2−シクロへキシルスル
ホニル−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミドの
淡黄色結晶1.1gを得た。
−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミド1.2g
を含むクロロホルム20m1l溶液に水冷、攪拌下、m
−クロロ過安息香酸3.9gを含むクロロホルム60m
Q溶液を滴下し、3時間攪拌した。反応液を氷水中に注
ぎ、希水酸化ナトリウム水溶液で中和し、クロロホルム
で抽出した。クロロホルム層を水、飽和食塩水で順次洗
浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去して
得られた粗結晶をエーテルで洗浄後、酢酸エチル−n−
ヘキサンより再結晶してN−(2−シクロへキシルスル
ホニル−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミドの
淡黄色結晶1.1gを得た。
m、 p、 185.5〜186.5°C実施例5
(1)実施例1(1)、実施例1(2)、次いで実施例
1(3)と同様にして、1.4−ジオキサスピロ[4゜
5]デカン−8−オールからN−[2−(1,4−ジオ
キサスピロ[4,5コデカン−8−イルオキシ)フェニ
ルコメタンスルホンアミドを得た。
1(3)と同様にして、1.4−ジオキサスピロ[4゜
5]デカン−8−オールからN−[2−(1,4−ジオ
キサスピロ[4,5コデカン−8−イルオキシ)フェニ
ルコメタンスルホンアミドを得た。
m、p、 128〜129℃
(2)N−[2−(1,4−ジオキサスピロ[4,5]
デカン−8−イルオキシ)フェニルコメタンスルホンア
ミド1.0gを実施例1(4)と同様に反応して、N−
[4−ニトロ−2−(4−オキソシクロへキシルオキシ
)フェニルコメタンスルホンアミF 0.47 gを得
た。
デカン−8−イルオキシ)フェニルコメタンスルホンア
ミド1.0gを実施例1(4)と同様に反応して、N−
[4−ニトロ−2−(4−オキソシクロへキシルオキシ
)フェニルコメタンスルホンアミF 0.47 gを得
た。
m、p、 152.5〜153.5°C実施例6
実施例5(2)で得たN−[4−ニトロ−2−(4−オ
キソシクロへキシルオキシ)フェニルコメタンスルホン
アミド0.23 gを含むメタノール−テトラヒドロフ
ラン(1:2混液)8ml溶液に水冷下、水素化ホウ素
ナトリウム0.01 gを加え、20分、間攪拌した0
反応液に希塩酸を加え、酢酸エチルiで抽出、酢酸エチ
ル層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサ
ン:ジクロロメタン:酢酸エチル−1:1:1)で精製
し、さらにジクロロメタン−n−ヘキサンより再結晶し
てN−[2−(4−ヒドロキシシクロへキシルオキシ)
−4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミド0、17
gを得た。
キソシクロへキシルオキシ)フェニルコメタンスルホン
アミド0.23 gを含むメタノール−テトラヒドロフ
ラン(1:2混液)8ml溶液に水冷下、水素化ホウ素
ナトリウム0.01 gを加え、20分、間攪拌した0
反応液に希塩酸を加え、酢酸エチルiで抽出、酢酸エチ
ル層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサ
ン:ジクロロメタン:酢酸エチル−1:1:1)で精製
し、さらにジクロロメタン−n−ヘキサンより再結晶し
てN−[2−(4−ヒドロキシシクロへキシルオキシ)
−4−ニトロフェニルコメタンスルホンアミド0、17
gを得た。
m、p、 141〜145℃
実施例7
(1〉実施例1(1)、実施例1(2)、次いで実施例
1(3)と同様にして、1.2−シクロヘキサンジオー
ルからN−[2−(2−ヒドロキシシクロへキシルオキ
シ〉フェニルコメタンスルホンアミドを得た。
1(3)と同様にして、1.2−シクロヘキサンジオー
ルからN−[2−(2−ヒドロキシシクロへキシルオキ
シ〉フェニルコメタンスルホンアミドを得た。
m、p、 151〜154°C
(2)N−[2−(2−ヒドロキシシクロへキシルオキ
シ)フェニルコメタンスルホンアミドo、 so gを
含むアセトン10m1溶液に、水冷攪拌下、8規定ジヨ
ーンズ試薬(クロム酸−硫酸)0.5gを加え、゛1時
間攪拌した0次いで反応液にイソプロピルアルコール1
m1lを加え、ジクロロメタンで抽出、ジクロロメタン
層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン
:ジクロロメタン−1:1)で精製し、きらにエタノー
ル−n−ヘキサンより再結晶してN−[2−(2−オキ
ソシクロへキシルオキシ)フェニルコメタンスルホンア
ミド0.21 gを得た。
シ)フェニルコメタンスルホンアミドo、 so gを
含むアセトン10m1溶液に、水冷攪拌下、8規定ジヨ
ーンズ試薬(クロム酸−硫酸)0.5gを加え、゛1時
間攪拌した0次いで反応液にイソプロピルアルコール1
m1lを加え、ジクロロメタンで抽出、ジクロロメタン
層を水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン
:ジクロロメタン−1:1)で精製し、きらにエタノー
ル−n−ヘキサンより再結晶してN−[2−(2−オキ
ソシクロへキシルオキシ)フェニルコメタンスルホンア
ミド0.21 gを得た。
m、p、 104〜106℃
(3)N−[2−(2−オキソシクロへキシルオキシ)
フェニルコメタンスルホンアミド0.20 gを実施例
1(4)と同様に反応して、N−[4−ニトロ−2−(
2−オキソシクロへキシルオキシ)フェニルコメタンス
ルホンアミド0.15 gを得た。
フェニルコメタンスルホンアミド0.20 gを実施例
1(4)と同様に反応して、N−[4−ニトロ−2−(
2−オキソシクロへキシルオキシ)フェニルコメタンス
ルホンアミド0.15 gを得た。
m、p、 192〜194℃
実施例8
(1)2−アミノピリミジン0.95g、 2−フルオ
ロニトロベンゼン1.4g、i酸カリウム1.0g、銅
粉0.1gの混合物を170〜180℃に加熱しながら
1時間攪拌した。反応液を冷却後、クロロホルムを加え
、セライトで濾過した。濾液を濃縮して得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−
ヘキサン:酢酸エチル−20=1)で精製し、2−(2
−ピリミジルアミノ)ニトロベンゼン0.47gを得た
。
ロニトロベンゼン1.4g、i酸カリウム1.0g、銅
粉0.1gの混合物を170〜180℃に加熱しながら
1時間攪拌した。反応液を冷却後、クロロホルムを加え
、セライトで濾過した。濾液を濃縮して得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−
ヘキサン:酢酸エチル−20=1)で精製し、2−(2
−ピリミジルアミノ)ニトロベンゼン0.47gを得た
。
m、p、 129〜131℃
(2)2−(2−ピリミジルアミノ)ニトロベンゼン0
.40 gを実施例1(2)と同様に反応して、2−(
2−ピリミジルアミノ)アニリン0.33.を得た。
.40 gを実施例1(2)と同様に反応して、2−(
2−ピリミジルアミノ)アニリン0.33.を得た。
’H−NM R(CDCI+13)δ:3、86(2H
,bs) 、 6.68(LH,t、J=4.5Hz)
。
,bs) 、 6.68(LH,t、J=4.5Hz)
。
6、79〜6.90(211,m) 、 7.04〜7
.14(2H,m) 。
.14(2H,m) 。
7、35〜7.43(LH,m) 、 8.40(IH
,d、J=4.5Hz>(3)2−(2−ピリミジルア
ミノ)アニリン0.30gを実施例1(3)と同様に反
応して、 N−[2−(2−ピリミジルアミノ)フェニ
ルコメタンスルホンアミド0.25 gを得た。
,d、J=4.5Hz>(3)2−(2−ピリミジルア
ミノ)アニリン0.30gを実施例1(3)と同様に反
応して、 N−[2−(2−ピリミジルアミノ)フェニ
ルコメタンスルホンアミド0.25 gを得た。
m、p、 143〜145℃
(4)N−[2−(2−ピリミジルアミノ)フェニルコ
メタンスルホンアミド0.20 gを実施例1(4)と
同様に反応して、N−[2−(2−ピリミジルアミノ)
−4−二トロフェニル]メタンスルポンアミド0.11
gを得た。
メタンスルホンアミド0.20 gを実施例1(4)と
同様に反応して、N−[2−(2−ピリミジルアミノ)
−4−二トロフェニル]メタンスルポンアミド0.11
gを得た。
m、p、 215〜218℃
実施例9
(1)エタノール20m1に室温下、金属ナトリウム7
5mgを加え、20分間攪拌した0次いで2−ヒドロキ
シ−4−ニトロアニリンO,S(を加え、1o分間攪拌
した1次に臭化プレニル0.48 gを加え、室温で3
時間攪拌した0反応液を氷水中に注ぎ、ジクロロメタン
で抽出し、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた褐色油状
物をシリカゲルカラムクロマトクラフィー(展開溶媒;
ジクロロメタン:n−ヘキサン−2:1)で精製し、4
−ニトロ−2−プレニルオキシアニリンの黄色結晶0.
27 gを得た。
5mgを加え、20分間攪拌した0次いで2−ヒドロキ
シ−4−ニトロアニリンO,S(を加え、1o分間攪拌
した1次に臭化プレニル0.48 gを加え、室温で3
時間攪拌した0反応液を氷水中に注ぎ、ジクロロメタン
で抽出し、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた褐色油状
物をシリカゲルカラムクロマトクラフィー(展開溶媒;
ジクロロメタン:n−ヘキサン−2:1)で精製し、4
−ニトロ−2−プレニルオキシアニリンの黄色結晶0.
27 gを得た。
m、p、 62〜66℃
(2) 4−二トロー2−プレニルオキシアニリン0、
26 gを含むピリ9フ10mQ溶液に水冷下撹拌しな
からメタンスルホニルクロリド0.14gを滴下し、滴
下終了後、室温で7時間攪拌した。反応液を氷水中に注
ぎ、ジクロロメタンで抽出し、希塩酸、水、飽和食塩水
で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得られた結晶を酢酸エチル−n−ヘキサンより
再結晶してN−(4ニトロ−2−プレニルオキシフェニ
ル)メタンスルホンアミド0.17 gを得た。
26 gを含むピリ9フ10mQ溶液に水冷下撹拌しな
からメタンスルホニルクロリド0.14gを滴下し、滴
下終了後、室温で7時間攪拌した。反応液を氷水中に注
ぎ、ジクロロメタンで抽出し、希塩酸、水、飽和食塩水
で順次洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得られた結晶を酢酸エチル−n−ヘキサンより
再結晶してN−(4ニトロ−2−プレニルオキシフェニ
ル)メタンスルホンアミド0.17 gを得た。
m、 p、 108〜110℃
実施例9と同様にして、下記の化合物を得た。
N−[4−ニトロ−2−(2−トロボニルオキシ)フェ
ニルコメタンスルホンアミド m、p、 143〜144℃ 実施例10 (1) 60%水素化ナトリウム0.96 gを含むジ
オキサン50m1l懸濁液に4゛−ヒドロキシテトラヒ
ドロチオピラン3.6gを室温下加え、さらに90℃で
6時間加熱攪拌した。室温に戻した後、2−フルオロニ
トロベンゼン4.5gを含むジオキサン10t+tll
溶液を滴下し、さらに−夜攪拌した0反応液を氷水中に
注ぎ、エーテルで抽出し、エーテル層を水、飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
除去して得られた油状物1.1gをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチ
ル−10:1)で精製し、2−(テトラヒドロ−4H−
チオピラン−4−イルオキシ)ニトロベンゼンの淡黄色
油状物6.1gを得た。
ニルコメタンスルホンアミド m、p、 143〜144℃ 実施例10 (1) 60%水素化ナトリウム0.96 gを含むジ
オキサン50m1l懸濁液に4゛−ヒドロキシテトラヒ
ドロチオピラン3.6gを室温下加え、さらに90℃で
6時間加熱攪拌した。室温に戻した後、2−フルオロニ
トロベンゼン4.5gを含むジオキサン10t+tll
溶液を滴下し、さらに−夜攪拌した0反応液を氷水中に
注ぎ、エーテルで抽出し、エーテル層を水、飽和食塩水
で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を
除去して得られた油状物1.1gをシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチ
ル−10:1)で精製し、2−(テトラヒドロ−4H−
チオピラン−4−イルオキシ)ニトロベンゼンの淡黄色
油状物6.1gを得た。
’H−NMR(CDCI13) 8 :2、04〜2.
27(4H,m) 、 2.44〜2.60(2H,m
) 。
27(4H,m) 、 2.44〜2.60(2H,m
) 。
2、92〜3.12(2H,m) 、 4.55〜4.
68(IH,n+) 。
68(IH,n+) 。
6、97〜7.11(2H,m) 、 7.46〜7.
58(ILm) 。
58(ILm) 。
7.82(IH,dd、J=8Hz、IHz)(2)2
−(テトラヒドロ−4H−チ才ビランー4−イルオキシ
)ニトロベンゼン5.0gと鉄粉、塩化アンモニウムを
用い、実施例2(2)と同様に反応して2−(テトラヒ
ドロ−4H−チオピラン−4−イルオキシ)アニリン4
.3gを得た。
−(テトラヒドロ−4H−チ才ビランー4−イルオキシ
)ニトロベンゼン5.0gと鉄粉、塩化アンモニウムを
用い、実施例2(2)と同様に反応して2−(テトラヒ
ドロ−4H−チオピラン−4−イルオキシ)アニリン4
.3gを得た。
’H−NMR(CDC13) S :
1、94〜2.15(2Hm) 、 2.16〜2.3
5(2H,m) 。
5(2H,m) 。
2、52〜2.69(2H,m) 、 2.83〜3.
00(2H,m> 。
00(2H,m> 。
3、81(2H,bs) 、 4.27〜4.42(L
H,m) 。
H,m) 。
6、63〜6.89(4H,m)
(3)2−(テトラヒドロ−4H−チオピラン−4−イ
ルオキシ)アニリン2.0gを実施例2(3)と同様に
反応して、N−[2−(テトラヒドロ−4H−チオピラ
ン−4−イルオキシ)フェニルコメタンスルホンアミド
2.5gを得た。
ルオキシ)アニリン2.0gを実施例2(3)と同様に
反応して、N−[2−(テトラヒドロ−4H−チオピラ
ン−4−イルオキシ)フェニルコメタンスルホンアミド
2.5gを得た。
’H−NMR(CD(J)3> S :1、87〜2.
08(2H,m) 、 2.25〜2.42(2H,m
) 。
08(2H,m) 、 2.25〜2.42(2H,m
) 。
2、61〜2.92(4H,m) 、 2.98(3H
,s) 。
,s) 。
4、31〜4.45(IH,m) 、 6.81(11
,bs) 。
,bs) 。
6、86〜6.97(IH,m) 、 7.00(IH
,dd、J=8Hz、 IHz) 。
,dd、J=8Hz、 IHz) 。
7、07〜7.18(IH,m) 、 7.56(11
,dd、 J=8Hz、 Hlz)(4)N−[2−(
テトラヒドロ−4H−チオピラン−4−イルオキシ)フ
ェニルコメタンスルホンアミド1.5gを実施例2(4
)と同様に反応して、N−[4−ニトロ−2−(テトラ
ヒドロ−4H−チオピラン−4−イルオキシ)フェニル
コメタンスルホンアミド0.88 gを得た。
,dd、 J=8Hz、 Hlz)(4)N−[2−(
テトラヒドロ−4H−チオピラン−4−イルオキシ)フ
ェニルコメタンスルホンアミド1.5gを実施例2(4
)と同様に反応して、N−[4−ニトロ−2−(テトラ
ヒドロ−4H−チオピラン−4−イルオキシ)フェニル
コメタンスルホンアミド0.88 gを得た。
m、p、 200〜200.5℃
実施例11
(1)実施例2(2)で得た2−(シクロへキシルチオ
)アニリン2.0gをピリジン10m1lに溶解し、水
冷下、エタンスルホニルクロリド1.2gを滴下し、室
温で一夜攪拌した。反応液を氷水中に注ぎ、希塩酸で酸
性にし、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチル−10
:1)で精製し、油状のN−(2−シクロへキシルチオ
フェニル)エタンスルホンアミド2.7gを得た。
)アニリン2.0gをピリジン10m1lに溶解し、水
冷下、エタンスルホニルクロリド1.2gを滴下し、室
温で一夜攪拌した。反応液を氷水中に注ぎ、希塩酸で酸
性にし、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:酢酸エチル−10
:1)で精製し、油状のN−(2−シクロへキシルチオ
フェニル)エタンスルホンアミド2.7gを得た。
’H−NMR(CDC#3)S :
1、06〜1.49(5H,m) 、 1.35(3)
1.t、J=7Hz> 。
1.t、J=7Hz> 。
1、51〜2.01(5H,m) 、 2.83〜3.
04(IH,m) 。
04(IH,m) 。
3、15(2H,q、 J=7Hz> 、 7.08(
IH,dt、 J=8Hz、 2Hz)。
IH,dt、 J=8Hz、 2Hz)。
7、35(IH,dt、 J=8Hz、 2Hz) 。
7、55(IH,dt、J=8Hz、2)1z) 。
7、66(LH,dt、J=8Hz、2Hz) 、 7
.84(IH,5)(2)N−(2−シクロへキシルチ
オフェニル)エタンスルホンアミド1.5gを酢酸20
m1に溶解し、80〜85℃に加熱しながら61%硝酸
0.33 gを滴下し、さらに1時間攪拌した。反応液
を室温に戻した後氷水中に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で中和し、ジクロロメタンで抽出した。ジクロ
ロメタン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を留去して得られた粗結晶をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒an−へキサン:ジクロロ
メタン:酢酸エチル−20: 10: 1 )で精製し
、続いて四塩化炭素−n−ヘキサンより再結晶してN−
(2−シクロヘキシルチオ−4−ニトロフェニル)エタ
ンスルホンアミド1.1gを得た。
.84(IH,5)(2)N−(2−シクロへキシルチ
オフェニル)エタンスルホンアミド1.5gを酢酸20
m1に溶解し、80〜85℃に加熱しながら61%硝酸
0.33 gを滴下し、さらに1時間攪拌した。反応液
を室温に戻した後氷水中に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で中和し、ジクロロメタンで抽出した。ジクロ
ロメタン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を留去して得られた粗結晶をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒an−へキサン:ジクロロ
メタン:酢酸エチル−20: 10: 1 )で精製し
、続いて四塩化炭素−n−ヘキサンより再結晶してN−
(2−シクロヘキシルチオ−4−ニトロフェニル)エタ
ンスルホンアミド1.1gを得た。
m、p、 119〜120.5℃
実施例12
実施例11と同様に反応して、実施例1(2)で得た2
−(シクロへキシルオキシ)アニリンからN−(2−シ
クロへキシルオキシ−4−ニトロフェニル〉エタンスル
ホンアミドを得た。
−(シクロへキシルオキシ)アニリンからN−(2−シ
クロへキシルオキシ−4−ニトロフェニル〉エタンスル
ホンアミドを得た。
m、p、 94〜95℃
実施例13
(1)実施例1(2)の方法で得た2−(シクロへキシ
ルオキシ)アニリン6.1g、 トリエチルアミン5
、4m1l 、ジクロロメタン60mQの混合液を一5
〜0℃に冷却し、攪拌しながら無水トリフルオロメタン
スルホン酸10gを含むジクロロメタン10m1溶液を
20分間かけて滴下した。徐々に室温に戻しながら3時
間攪拌した後、反応液を氷水中に注ぎ、クロロホルムで
抽出した。クロロホルム層を水、飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して
得られた粗結晶9.8gを酢酸エチル−n−ヘキサンよ
り再結晶してN−(2−シクロヘキシルオキシフェニル
)トリフルオロメタンスルホンアミド8.6gを得た。
ルオキシ)アニリン6.1g、 トリエチルアミン5
、4m1l 、ジクロロメタン60mQの混合液を一5
〜0℃に冷却し、攪拌しながら無水トリフルオロメタン
スルホン酸10gを含むジクロロメタン10m1溶液を
20分間かけて滴下した。徐々に室温に戻しながら3時
間攪拌した後、反応液を氷水中に注ぎ、クロロホルムで
抽出した。クロロホルム層を水、飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して
得られた粗結晶9.8gを酢酸エチル−n−ヘキサンよ
り再結晶してN−(2−シクロヘキシルオキシフェニル
)トリフルオロメタンスルホンアミド8.6gを得た。
m、p、 83〜85℃
(2)N−(2−シクロヘキシルオキシフェニル)トリ
フルオロメタンスルホンアミド7.5gを実施例1(4
)と同様に反応して、N−(2−シクロへキシルオキシ
−4−二トロフェニル)トリフルオロメタンスルホンア
ミド5.8gを得た。
フルオロメタンスルホンアミド7.5gを実施例1(4
)と同様に反応して、N−(2−シクロへキシルオキシ
−4−二トロフェニル)トリフルオロメタンスルホンア
ミド5.8gを得た。
m、p、 93.5〜95℃
実施例13と同様にして、下記の化合物を得た。
N−(2−シクロペンチルオキシ−4−二トロフェニル
)トリフルオロメタンスルホンアミドm、p、 93.
5〜95℃ N−(2−!−メンチルオキシー4−ニトロフェニル)
トリフルオロメタンスルホンアミドm、p、 110.
5〜111.5℃ N−[4−ニトロ−2−(テトラヒドロ−4H−チオピ
ラン−4−イルオキシ)フェニル]トリフルオロメタン
スルホンアミド m、 p、 114.5= 115.5℃N−(2−シ
クロへキシルチオ−4−二トロフェニル)トリフルオロ
メタンスルホンアミドm、p、 85〜86.5℃ N−(2−シクロペンチルチオ−4−二トロフェニル)
トリフルオロメタンスルホンアミド’H−NMR(CD
CI!3) S :1、44〜1.99(6L m)
、 1.95〜2.16(2H,m) 。
)トリフルオロメタンスルホンアミドm、p、 93.
5〜95℃ N−(2−!−メンチルオキシー4−ニトロフェニル)
トリフルオロメタンスルホンアミドm、p、 110.
5〜111.5℃ N−[4−ニトロ−2−(テトラヒドロ−4H−チオピ
ラン−4−イルオキシ)フェニル]トリフルオロメタン
スルホンアミド m、 p、 114.5= 115.5℃N−(2−シ
クロへキシルチオ−4−二トロフェニル)トリフルオロ
メタンスルホンアミドm、p、 85〜86.5℃ N−(2−シクロペンチルチオ−4−二トロフェニル)
トリフルオロメタンスルホンアミド’H−NMR(CD
CI!3) S :1、44〜1.99(6L m)
、 1.95〜2.16(2H,m) 。
3、39〜3.56(lH,m) 、 7.82(LH
,d、J=9Hz) 。
,d、J=9Hz) 。
8、24(IH,dd、 J=9Hz、 2Hz) 、
8.44(11,bs) 。
8.44(11,bs) 。
8、47(IH,d、 J=211z)N−[2−(5
−インダニルオキシ)−4−二トロフェニルコトリフル
才ロメタンスルホンアミド”H−NMR(CDCN3)
S : 2.09〜2.18(2H,m) 、 2.96(4H
,q、、C7Hzm) 。
−インダニルオキシ)−4−二トロフェニルコトリフル
才ロメタンスルホンアミド”H−NMR(CDCN3)
S : 2.09〜2.18(2H,m) 、 2.96(4H
,q、、C7Hzm) 。
6、86(IH,dd、J=8Hz、 2Hz) 、
6.91〜6.96(IH,m) 。
6.91〜6.96(IH,m) 。
7、30(IH,d、J=8Hz) 、 7.63(I
H,d、J=2Hz> 。
H,d、J=2Hz> 。
7、80(IH,d、 J=8Hz) 、 7.97(
LH,dd、 J=8Hz、 211z)N−[2−(
2−インダニルオキシ)−4−二トロフェニルコトリフ
ル才ロメタンスルホンアミドm、p、 92.5〜94
℃ 実施例14 (1)窒素ガスを通じたフラスコに削り状マグネシウム
3.1g、エーテル10TnI!およびヨウ素数片を加
え、ヨウ素による着色が消えるまで還流した。
LH,dd、 J=8Hz、 211z)N−[2−(
2−インダニルオキシ)−4−二トロフェニルコトリフ
ル才ロメタンスルホンアミドm、p、 92.5〜94
℃ 実施例14 (1)窒素ガスを通じたフラスコに削り状マグネシウム
3.1g、エーテル10TnI!およびヨウ素数片を加
え、ヨウ素による着色が消えるまで還流した。
次いで、還流攪拌しながらシクロヘキシルブロマイド2
0gを含むエーテル90m11溶液を30分間かけて滴
下した0反応液を室温に戻した後、2−アミノベンゾニ
トリル4.8gを含むテトラヒドロフラン40m1溶液
を30分間かけて滴下し、さらに30分間攪拌した。1
規定塩酸150m1を注意深く加えた後、希水酸化ナト
リウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層を水、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去して得た残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:
酢酸エチル−20:1)で精製し、さらに酢酸エチル−
n −ヘキサンより再結晶して2−シクロへキシルカル
ボニルアニリン6.2gを得た。
0gを含むエーテル90m11溶液を30分間かけて滴
下した0反応液を室温に戻した後、2−アミノベンゾニ
トリル4.8gを含むテトラヒドロフラン40m1溶液
を30分間かけて滴下し、さらに30分間攪拌した。1
規定塩酸150m1を注意深く加えた後、希水酸化ナト
リウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層を水、飽和食塩水で順次洗浄し無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去して得た残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:
酢酸エチル−20:1)で精製し、さらに酢酸エチル−
n −ヘキサンより再結晶して2−シクロへキシルカル
ボニルアニリン6.2gを得た。
m、p、 74〜75℃
(2) 2−シクロヘキシルカルボニルアニリン実施例
1(3)と同様に反応して、N−(2−シクロヘキシル
カッしボニルフェニル)メタンスルホンアミドを得た。
1(3)と同様に反応して、N−(2−シクロヘキシル
カッしボニルフェニル)メタンスルホンアミドを得た。
111、p. 119〜120℃
(3)N−(2−シクロへキシルカルボニルフェニル)
メタンスルホンアミドを実施例1(4)と同様に反応し
て、N−(2−シクロへキシルカルボニル−4−二トロ
フェニル)メタンスルホンアミドを得た。
メタンスルホンアミドを実施例1(4)と同様に反応し
て、N−(2−シクロへキシルカルボニル−4−二トロ
フェニル)メタンスルホンアミドを得た。
11、p. 178〜179℃
実施例15
実施例14で得たN−(2−シクロヘキシルカルボニル
−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミド3.0g
を含むメタノール100ml溶液に室温で攪拌しながら
水素化ホウ素ナトリウム0.35 gを加え、さらに1
時間攪拌した。反応液にアセトン5mlを加えた後、希
塩酸で中和し、溶媒を濃縮、酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去して得た粗結晶を、
酢酸エチル−n−ヘキサンより再結晶してN−(2−シ
クロへキシルヒドロキシメチル−4−二トロフェニル)
メタンスルホンアミド2.8gを得た。
−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミド3.0g
を含むメタノール100ml溶液に室温で攪拌しながら
水素化ホウ素ナトリウム0.35 gを加え、さらに1
時間攪拌した。反応液にアセトン5mlを加えた後、希
塩酸で中和し、溶媒を濃縮、酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去して得た粗結晶を、
酢酸エチル−n−ヘキサンより再結晶してN−(2−シ
クロへキシルヒドロキシメチル−4−二トロフェニル)
メタンスルホンアミド2.8gを得た。
m、p、 156〜157℃
実施例16
実施例15で得たN−(2−シクロへキシルヒドキシメ
チル−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミド2.
5gおよび硫酸水素カリウム1.1gを含むベンゼン5
0m1l溶液を1.5時間還流した。反応液を室温に戻
した後、酢酸エチルで抽出、有機層を水、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得た粗結晶を酢酸エチル−n−ヘキサンより再
結晶してN−(2−シクロへキシリデンメチル−4−ニ
トロフェニル)メタンスルホンアミド2.1gを得た。
チル−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミド2.
5gおよび硫酸水素カリウム1.1gを含むベンゼン5
0m1l溶液を1.5時間還流した。反応液を室温に戻
した後、酢酸エチルで抽出、有機層を水、飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去して得た粗結晶を酢酸エチル−n−ヘキサンより再
結晶してN−(2−シクロへキシリデンメチル−4−ニ
トロフェニル)メタンスルホンアミド2.1gを得た。
m、p、 174〜175℃
実施例17
(1〉実施例16で得たN−(2−シクロへキシリチン
メチル−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミド2
.0gおよび酸化白金0.1gを含む酢酸50mQ溶液
を水素雰囲気下、室温で攪拌しながら接触還元した。無
機物を濾過して除き、濾液を濃縮した後、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、溶媒を留去することによりN−(4−ア
ミノ−2−シクロヘキシルメチルフェニル)メタンスル
ホンアミド1.7gを得た。
メチル−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミド2
.0gおよび酸化白金0.1gを含む酢酸50mQ溶液
を水素雰囲気下、室温で攪拌しながら接触還元した。無
機物を濾過して除き、濾液を濃縮した後、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、溶媒を留去することによりN−(4−ア
ミノ−2−シクロヘキシルメチルフェニル)メタンスル
ホンアミド1.7gを得た。
ff11.160〜162℃
(2)N−(4−アミノ−2−シクロヘキシルメチルフ
ェニル)メタンスルホンアミド1.5gを含むトリフル
オロ酢酸25m1溶液を攪拌、還流しながら30%過酸
化水素水3mQを30分間かけて滴下し、さらに1時間
攪拌した。反応液を室温に戻した後、溶媒を留去し、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和、酢酸エチルで抽出
、酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得た残渣を
シリカゲルカラムクロマトグライー(展開溶媒;n−ヘ
キサン:酢酸エチル=3:1)で精製し、エタノール−
n−ヘキサンより再結晶してN−(2−シクロヘキシル
メチル−4−ニトロフェニル)メタンスルホンアミド0
.25 gを得た。
ェニル)メタンスルホンアミド1.5gを含むトリフル
オロ酢酸25m1溶液を攪拌、還流しながら30%過酸
化水素水3mQを30分間かけて滴下し、さらに1時間
攪拌した。反応液を室温に戻した後、溶媒を留去し、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和、酢酸エチルで抽出
、酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して得た残渣を
シリカゲルカラムクロマトグライー(展開溶媒;n−ヘ
キサン:酢酸エチル=3:1)で精製し、エタノール−
n−ヘキサンより再結晶してN−(2−シクロヘキシル
メチル−4−ニトロフェニル)メタンスルホンアミド0
.25 gを得た。
m、 p、 142〜144°C
実施例18
実施例1の方法で得たN−(2−シクロへキシルオキシ
−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミド1.Og
を含むエタノール20mQ溶液に室温で攪拌しなから1
規定水酸化ナトリウム水溶液3.2mlを加えた。溶媒
を留去して得られた残渣をエタノール−エーテルより再
結晶してN−(2−シクロへキシルオキシ−4−二トロ
フェニル)メタンスルホンアミドナトリウム塩1.0g
を得た。
−4−二トロフェニル)メタンスルホンアミド1.Og
を含むエタノール20mQ溶液に室温で攪拌しなから1
規定水酸化ナトリウム水溶液3.2mlを加えた。溶媒
を留去して得られた残渣をエタノール−エーテルより再
結晶してN−(2−シクロへキシルオキシ−4−二トロ
フェニル)メタンスルホンアミドナトリウム塩1.0g
を得た。
m、p、 144〜158℃
実施例18と同様にして下記の化合物を得た。
N−(2−シクロへキシルオキシ−4−二トロフェニル
)トリフルオロメタンスルホンアミドナトリウム塩 fll、p、 115〜118℃ 実施例19 実施例18で得たN−(2−シクロヘキシルオキシ−4
−二トロフェニル)メタンスルホンアミドナトリウム塩
0.2gを含むエタノール2mfL溶液に室温で攪拌し
ながら、1規定塩化カルシウム水溶液0.6mQを加え
た。溶媒を留去して得た残渣を水より再結晶してN−(
2−シクロヘキシルオキシ−4−二トロフェニル)メタ
ンスルホンアミドカルシウム塩0.17 gを得た。
)トリフルオロメタンスルホンアミドナトリウム塩 fll、p、 115〜118℃ 実施例19 実施例18で得たN−(2−シクロヘキシルオキシ−4
−二トロフェニル)メタンスルホンアミドナトリウム塩
0.2gを含むエタノール2mfL溶液に室温で攪拌し
ながら、1規定塩化カルシウム水溶液0.6mQを加え
た。溶媒を留去して得た残渣を水より再結晶してN−(
2−シクロヘキシルオキシ−4−二トロフェニル)メタ
ンスルホンアミドカルシウム塩0.17 gを得た。
m、p、 137〜142℃
実施例20
(1)2−ニトロベンズアルデヒド1.5gおよびα−
トリフェニルフォスフォラニリデン−7−プチロラクト
ン4.1gを含むジメチルスルホキシド12td溶液を
室温で8.5時間攪拌した。反応液に希塩酸5m11を
加え、酢酸エチルで抽出、酢酸エチル層を水、飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を留去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:ジクロロメタン
:酢酸エチル−2:1:1)で精製し、ジクロロメタン
n −ヘキサンより再結晶してα−(2−ニトロベンジ
リデン)−7−プチロラクトン1.7gを得た。
トリフェニルフォスフォラニリデン−7−プチロラクト
ン4.1gを含むジメチルスルホキシド12td溶液を
室温で8.5時間攪拌した。反応液に希塩酸5m11を
加え、酢酸エチルで抽出、酢酸エチル層を水、飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶媒を留去して得た残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(展開溶媒;n−ヘキサン:ジクロロメタン
:酢酸エチル−2:1:1)で精製し、ジクロロメタン
n −ヘキサンより再結晶してα−(2−ニトロベンジ
リデン)−7−プチロラクトン1.7gを得た。
m、p、 83〜84℃
(2) α−(2−ニトロベンジリデン)−7−ブチロ
ラクトンを実施例1(2)と同様に反応してα−(2−
アミノベンジリデン)−7−ブチロラクトンを得た。
ラクトンを実施例1(2)と同様に反応してα−(2−
アミノベンジリデン)−7−ブチロラクトンを得た。
m、p、 141〜144℃
(3) α−(2−アミノベンジリデン)−7−ブチロ
ラクトンを実施例1(3)と同様に反応してα−[2−
(メタンスルホンアミド)ベンジリデン]−7−プチロ
ラクトンを得た。
ラクトンを実施例1(3)と同様に反応してα−[2−
(メタンスルホンアミド)ベンジリデン]−7−プチロ
ラクトンを得た。
m、p、 151#153℃
(4) α−[2−(メタンスルホンアミド)ベンジリ
デン]−7−プチロラクトンを実施例1(4)と同様に
反応してα−[2−(メタンスルホンアミド)−5−二
トロベンジリデン]−7−プチロラクトンを得た。
デン]−7−プチロラクトンを実施例1(4)と同様に
反応してα−[2−(メタンスルホンアミド)−5−二
トロベンジリデン]−7−プチロラクトンを得た。
m、p、 202〜203℃
第1図は、試験例2における体重変動を示す。
Claims (3)
- (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は低級アルキル基またはトリフルオロメ
チル基を示し、 R^2はシクロアルキリデンメチル基、2−ピリミジル
アミノ基、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる基、式 −A−R^3 (式中、Aは酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基また
はスルホニル基を示し、R^3は炭素原子数5〜8個の
シクロアルキル基;低級アルキル基、オキソ基、ヒドロ
キシ基もしくはメタンスルホニルオキシ基の1ないし2
個で置換された炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基
;炭素原子数3〜6個のシクロアルキル基で置換された
メチル基;テトラヒドロピラニル基;テトラヒドロチオ
ピラニル基;1−メチルピペリジル基;トロポニル基;
インダニル基;ベンゾチアゾリル基;アダマンチル基;
キノリル基;アルケニル基;またはモルホリノ基もしく
は1−メチルピペラジノ基で置換された炭素原子数2〜
4個のアルキレン基を示す。)で表わされる基または式 −B−R^4 (式中、Bはカルボニル基、ヒドロキシメチレン基また
はメチレン基を示し、R^4は炭素原子数5〜8個のシ
クロアルキル基を示す。)で表わされる基を示す。]で
表わされるスルホンアニリド化合物およびその製薬学的
に許容される塩。 - (2)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は低級アルキル基またはトリフルオロメ
チル基を示し、 R^2はシクロアルキリデンメチル基、式 −A−R^3 (式中、Aは酸素原子、硫黄原子、スルフィニル基また
はスルホニル基を示し、R^3は炭素原子数5〜8個の
シクロアルキル基;低級アルキル基、オキソ基、ヒドロ
キシ基もしくはメタンスルホニルオキシ基の1ないし2
個で置換された炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基
;テトラヒドロピラニル基;またはテトラヒドロチオピ
ラニル基を示す。)で表わされる基または式 −B−R^4 (式中、Bはカルボニル基、ヒドロキシメチレン基また
はメチレン基を示し、R^4は炭素原子数5〜8個のシ
クロアルキル基を示す。)で表わされる基を示す。]で
表わされるスルホンアニリド化合物およびその製薬学的
に許容される塩。 - (3)R^3が炭素原子数5〜8個のシクロアルキル基
;低級アルキル基、オキソ基、ヒドロキシ基もしくはメ
タンスルホニルオキシ基の1ないし2個で置換された炭
素原子数5〜8個のシクロアルキル基;またはテトラヒ
ドロチオピラニル基である請求項(2)記載のスルホン
アニリド化合物およびその製薬学的に許容される塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63292060A JPH0611747B2 (ja) | 1987-11-19 | 1988-11-18 | スルホンアニリド化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-292856 | 1987-11-19 | ||
| JP29285687 | 1987-11-19 | ||
| JP63292060A JPH0611747B2 (ja) | 1987-11-19 | 1988-11-18 | スルホンアニリド化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02268A true JPH02268A (ja) | 1990-01-05 |
| JPH0611747B2 JPH0611747B2 (ja) | 1994-02-16 |
Family
ID=26558821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63292060A Expired - Lifetime JPH0611747B2 (ja) | 1987-11-19 | 1988-11-18 | スルホンアニリド化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0611747B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02138168A (ja) * | 1988-11-18 | 1990-05-28 | Hisamitsu Pharmaceut Co Inc | スルホンアニリド誘導体 |
| WO1993025520A1 (fr) * | 1992-06-12 | 1993-12-23 | Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | Compose 5-amino-2-phenoxylsulfonanilide |
| US6790642B2 (en) | 1999-09-21 | 2004-09-14 | 3M Innovative Properties Company | Method for reducing the amount of nucleic acid adhering to a hydrophobic surface |
| CN100367116C (zh) * | 2003-07-15 | 2008-02-06 | 佳能株式会社 | 纸张装载装置以及图像形成装置 |
| JP2012121838A (ja) * | 2010-12-08 | 2012-06-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 新規化合物 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4942640A (ja) * | 1972-07-03 | 1974-04-22 | ||
| US3856859A (en) * | 1973-06-08 | 1974-12-24 | Riker Laboratories Inc | Selective nitration process |
-
1988
- 1988-11-18 JP JP63292060A patent/JPH0611747B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5449826A (en) * | 1992-06-12 | 1995-09-12 | Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. | 5-amino-2-phenoxysulfonanilide compound |
| US6790642B2 (en) | 1999-09-21 | 2004-09-14 | 3M Innovative Properties Company | Method for reducing the amount of nucleic acid adhering to a hydrophobic surface |
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| JP2012121838A (ja) * | 2010-12-08 | 2012-06-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 新規化合物 |
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