JPH02270377A - スイツチング素子 - Google Patents

スイツチング素子

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JPH02270377A
JPH02270377A JP1091088A JP9108889A JPH02270377A JP H02270377 A JPH02270377 A JP H02270377A JP 1091088 A JP1091088 A JP 1091088A JP 9108889 A JP9108889 A JP 9108889A JP H02270377 A JPH02270377 A JP H02270377A
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JP
Japan
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voltage
drain
mosfet
igbt
source
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JP1091088A
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Yasukazu Seki
康和 関
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Fuji Electric Co Ltd
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Fuji Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はスイン)ング電源等に・使用して好適なスイッ
チング素子に関する。
〔従来の技術〕
従来、スイッチング素子として、絶縁ゲート凰電界効果
トランジスタ、いわゆるMOSFETや、絶縁ゲート型
バイポーラトランジスタ、いわゆるIGBTが知られて
いる。
ここに、IGBTは、第3因に示すように−PNダイオ
ードの順方向特性と同様の電圧−電流特性を有している
。即ち、ゲートを開いたとしても、PN接合のビルトイ
ンポテンシャルのために、ドレイン・ソース間電圧が0
.7(V)以下ではドレイン電流は流れないが、ビルト
インポテンシャル以上の電圧を印加すると伝導度変調を
生じ、急激に電流が流れ始めるという特性を有している
これに対して、MOS FETは、第4図に示すように
、ゲートを開けば、ドレイン・ソース間電圧が0.7(
V)以下でありてもドレイン電流は流れるが、ドレイン
電流が流れ出しても、伝導度変調を生じないので、オン
電圧はIGBTと比軟すると小さい。
〔発明が解決しようとする課題〕
以上のように、IGBTには、オン電圧が小さいという
利点があるものの、ドレイン・ソース間電圧が0.7(
V)以下では動作しないという欠点があり、他方、MO
SFETには、ドレイン−ソー2間電圧が0.7(V)
以下でも動作するという利点はあるものの、オン電圧が
大きいという欠点がある。
このため、それぞれその用途が限定されてしまうという
問題点があった。
本発明は、かかる点に鑑み、オン電圧が小さく、且つ、
0.7(V)以下のドレイン働ソース間電圧でも動作す
るようにしたスイッチング素子を提供することを目的と
する。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のスイッチング素子は、MOS FET  と、
IGBTとを並列接続したものである。
〔作用〕
ドレイン・ソース間電圧が0.7(V)以下の場合にお
いては、MOSFETが動作し、MOS  FETの電
圧−電流特性に従ったドレイン電流が流れる。
また、ドレイン・ソース間電圧が0.7(V)以上の場
合には、MOSFET及びIGBTの両者が動作し、こ
れらMOSFET及びIGBTにおいて、それぞれMO
SFET及びIGBTの電圧−電流特性に従ったドレイ
ン電流が流れる。この結果、本発明のオン電圧は、MO
SFET及びIGBTのオン電圧に比較して小さくなる
〔実施例〕
以下、l!1図及び纂2図を参照して、本発明の一実施
例につき説明する。
第1図は本発明の一実施例の要部を示す断面図であうて
、本実施例のスイッチング素子は、P盤シリコン基板l
を基体とし、MOS FET 2とIGBT3とを一髪
して作り込み、これらを並列接続して構成されている。
ここに、4はP型シリコン基板1上に成長させたN層、
5は8層4の表面側に選択的に形成されたP層、6は2
層5の表面側に形成されたN 層からなるソース領域で
あって、このソース領域6には、アルミニウムからなる
ソース電極7がオーミックに接続されている。なお、8
はPSG膜である。
また、9はN 層からなるドレイン領域であって、この
ドレイン領域9には、アルミニウムからなるドレイン電
極10がオーミックに接続されている。
また、11はゲート絶縁膜、12はポリシリコンからな
るゲート電極でありで、このポリシリコンからなるゲー
ト電極12にはアルミニウムからなるゲート電極13が
積層されている。
また、14は素子分離帯をなすP層、 15は8層4の
表面側に選択的に形成されたP層、16は8層4の表面
側に形成されたN層であって、これら2層15及び8層
16には、アルミニウムからなるソース電極17がオー
ミックに接続されている。
また、 18は8層4の表面側に選択的に形成されたN
層、19は8層18の狭面側に選択的に形成されたP層
であって、この2層19には、アルミニウムからなるド
レイン電極頭がオーミックに接続されている。
また、21はゲート酸化膜、nはポリシリコンからなる
ゲート電極でありて、このゲート電極nにはアルミニウ
ムからなるゲート電極器が積層されている。
ここに、MOSFET2のソース電極7、ドレイン電極
10及びゲート電極13は、それぞれIGBT3のソー
ス電極17、ドレイン電極□□□及びゲート電極器と共
通接続されている。
かかる本実施例においては、第2図に破線Xで示すよう
な電圧−電流特性を得ることができる。
なセ、この第2図において、実11YはIGBT3の電
圧−電流特性、実憑zはMOS FET2の電圧−電流
特性である。
即ち、ドレイン・ソース間電圧が0.7(V)以下の場
合においては、MOSFET2が動作し、MOSFET
2の電圧−電流特性に従ったドレイン電流が流れる。
また、ドレイン・ソース間電圧が0.7(V)以上の場
合には、MOS  FET2及びIGBT3の両者が動
作し、これらMOS FET2及びIGBT3において
、それぞれMOS FET2及びI GBT 3の電圧
−電流特性に従ったドレイン電流が流れる。この結果、
本実施例のオン電圧は、MOS FET2及びIGBT
3のオン電圧に比較して小さくなる。
〔発明の効果〕
本発明においては、MOSFETとIGBTとを並列接
続させているので、ドレイン・ソース間電圧が0.7(
V)以下でも動作し、且つ、オン電圧がMOS FET
及びIGBTよりも小さくなる。したがって、MOSF
ETやIGBTのようには用途範囲が限定されず、広い
範囲に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の要部を示す断面図、第2図
は第1図例の電圧−電流特性図、第3図はIGBTの電
圧−電流特性図、fJ4図はMOSFETの電圧−電流
特性図である。 MOSFET          IGBTl シリコ
ン基板               13ゲート電極
(アルミニウム)2 MOSFET         
    14 P+層(素子分離帯)3 IGBT  
             15 P層4N層    
           16N1層第1図 第2図 Q、7 (V)      電圧 第3図 0.7 (V)      電圧 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. MOSFETと、IGBTとを並列接続したことを特徴
    とするスイッチング素子。
JP1091088A 1989-04-11 1989-04-11 スイツチング素子 Expired - Lifetime JP2550700B2 (ja)

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JPH02270377A true JPH02270377A (ja) 1990-11-05
JP2550700B2 JP2550700B2 (ja) 1996-11-06

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007318062A (ja) * 2006-04-27 2007-12-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高耐圧半導体スイッチング素子
JP2011119542A (ja) * 2009-12-04 2011-06-16 Fuji Electric Systems Co Ltd 内燃機関点火装置用半導体装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62124764A (ja) * 1985-11-25 1987-06-06 Matsushita Electric Works Ltd 半導体装置

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